显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法，其中所述装置包括水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。本发明专利技术的水洗搬送方式与传统水洗方式不同，在水洗过程中，通过搬送轴上的托盘承载基板，托盘左右摇摆来使整个玻璃基板在一定角度随同摆动，玻璃基板与干净的纯水充分接触清洗玻璃基板上面的残留异物，从而异物清洗不充分的现象得到了有效的限制，同时这种处理方式还能够纯水的消耗，降低了水洗的工艺时间，提升了产线的生产效率。

Water washing device and method for glass substrate in developing process

The invention provides a device and a method for washing the glass substrate in the developing process, wherein the device comprises a washing chamber, a water nozzle is arranged above the inside of the washing chamber; the tray platform, the platform for carrying tray glass substrate and glass substrate to be washed on the spacing and swing mechanism; inside, the swing mechanism is arranged in the washing chamber and is used for driving the tray swing platform. The invention of the water conveying and the traditional way of washing in different ways, in the process of washing, by moving the tray sending shaft of the bearing base plate, tray swing around to make the glass substrate in a certain angle with the swing, residual foreign body glass substrate in full contact with clean water cleaning glass substrate, thereby cleaning the foreign body not fully phenomenon effectively at the same time limit, this approach can also water consumption, reduces the process time of washing, improves the production efficiency of production lines.

【技术实现步骤摘要】
显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法
本专利技术涉及显影工艺的制程，特别涉及一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法。
技术介绍
在薄膜晶体管-液晶显示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，简称TFT-LCD)的彩色滤光片(CF)显影工艺中，未经过曝光后的有机光刻胶和显影液反应后被冲洗掉，曝光的光刻胶固化留下掩膜(mask)上工艺制程所需的图案，在显影之后的玻璃基板往往还需要进行清洗，以便去除显影后的药液残留和异物(particle)，如果清洗工艺出现问题的话，会直接导致各类微观和宏观缺陷的产生，影响整张玻璃基板的良品率。随着高精细低温多晶硅技术(LowTemperaturePoly-silicon，简称LTPS)等技术的发展，产品微观缺陷的控制要求越来越严格，影响微观缺陷的最重要的一个环节就是显影后的水洗工艺，水洗工艺去除异物能力较弱会直接造成微观缺陷大量增加，这样会无形增加修补产线的负荷。另外如果异物较大，也会造成产品直接判定为不良(NG)，造成不良损失(NGloss)的增加。传统的显影设备水洗单元通常有两种方式，一种是水平式搬送方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，包括：水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。

【技术特征摘要】
1.一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，包括：水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。2.根据权利要求1所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述摆动机构包括圆形导轨以及伺服马达，所述伺服马达分别连接于所述圆形导轨的两端并用于驱动圆形导轨进行旋转，所述托盘平台的下方设有连接件，所述连接件能够与所述圆形导轨的圆周表面进行可拆卸地连接。3.根据权利要求2所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述圆形导轨的下方位于摆动槽内，并且圆形导轨与摆动槽之间设有滚珠或滚柱。4.根据权利要求3所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述摆动槽的下方设有支撑架，所述支撑架的下方与蜗杆式驱动装置通过螺纹连接，所述蜗杆式驱动装置由另外的伺服马达驱动。5.根据权利要求2至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述伺服马达由PLC程序进行控制。6.根据权利要求2至...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴利峰，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42