基板保持装置、光刻设备以及物品制造方法制造方法及图纸

技术编号:15919910 阅读:50 留言:0更新日期:2017-08-02 05:02
本发明专利技术的目的是提供:一种基板保持装置,其有利于在卸载基板时在短时间内从密封构件分离基板;和一种光刻设备。本发明专利技术涉及一种保持基板3的基板保持装置10。基板保持装置10具有:保持构件16和密封构件31,所述保持构件具有中心部40和外周边部41,所述中心部具有吸气孔32,所述吸气孔被形成用于排空基板3和保持构件之间的空间42,所述外周边部围绕中心部40并且形成在低于中心部40的位置处,所述密封构件设置在保持构件16上并且限定空间42。独立于排空系统的孔33形成在外周边部41和/或密封构件31中,所述排空系统连接到吸气孔32。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板保持装置、光刻设备以及物品制造方法
本专利技术涉及基板保持装置、光刻设备以及物品制造方法。
技术介绍
有时会将具有不平度或翘曲的基板供给到用于在制造半导体装置等等的方法中所使用的曝光设备。当基板通过真空吸引被保持时,基板的外周边缘的翘曲会导致泄漏,这会削弱吸引力。PTL1和PTL2涉及基板保持装置,在所述基板保持装置中,沿保持构件的基板相对表面的外周边设置弹性密封构件。密封构件沿基板的外周边缘的形状而变形以便降低来自基板和基板相对表面之间的空间的泄漏。这增加了吸引力。PTL2所公开的是,在经受了曝光过程的基板的搬出操作中,空气从孔喷出(所述孔用来从空间排出空气)使得基板容易从密封构件分离。引用文献列表专利文献PTL1:日本专利特开No.2002-217276PTL2:日本专利特开No.2010-197415
技术实现思路
技术问题在PTL2所描述的基板保持装置中,连接到用于排出空气的孔的管道处于压力降低状态,首先需要时间以便利用空气替换充满管道的内部。因为所有的孔都连接到共同的管道,所以管道的长度随着所连接的孔离基板的端部的距离的增加而增加。为此,尽管基板与基板的端部处的密封构件之间本文档来自技高网...
基板保持装置、光刻设备以及物品制造方法

【技术保护点】
一种基板保持装置,所述基板保持装置构造成保持基板,所述基板保持装置包括:保持构件,所述保持构件包括中心部和外周边部,所述中心部具有吸气孔,空气通过所述吸气孔从基板与所述保持构件之间的空间排出,所述外周边部设置在低于所述中心部的位置处以便围绕所述中心部;和密封构件,所述密封构件设置在所述保持构件中以便限定所述空间,其中所述外周边部和密封构件中的至少一个具有独立于通向吸气孔的排出系统的孔。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板保持装置,所述基板保持装置构造成保持基板,所述基板保持装置包括:保持构件,所述保持构件包括中心部和外周边部,所述中心部具有吸气孔,空气通过所述吸气孔从基板与所述保持构件之间的空间排出,所述外周边部设置在低于所述中心部的位置处以便围绕所述中心部;和密封构件,所述密封构件设置在所述保持构件中以便限定所述空间,其中所述外周边部和密封构件中的至少一个具有独立于通向吸气孔的排出系统的孔。2.根据权利要求1所述的基板保持装置,其中所述孔是沿保持构件的厚度方向设置在外周边部中的通孔。3.根据权利要求1或2所述的基板保持装置,其中所述孔在一个端部处面向所述空间,在另一个端部处面向大气空间。4.根据权利要求3所述的基板保持装置,其中所述孔是第一孔,中心部具有独立于排出系统设置的第二孔,所述第二孔面向大气空间,所述第一孔和所述第二孔在沿基板保持表面的方向上的横截面面积的总和是所述空间在沿基板保持表面的方向上的横截面面积的0.03%或更少。5.根据权利要求4所述的基板保持装置,其中所述第一孔和所述第二孔在沿基板保持表面的方向上的横截面面积的总和处于所述空间在沿基板保持表面的方向上的横截面面积的0.0005%至0.00...

【专利技术属性】
技术研发人员:舟桥直纪
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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