用于处理基板的设备制造技术

所公开的是一种用于处理基板的设备，该设备具有用于装载、加工、传递以及卸载基板的多级室结构，由此减小占用面积，并且该设备包括设置在装载室和卸载室的内部的传递单元中的大的辊子，使得基板能够在与基板的传递方向平行的方向上装载和卸载，由此简化了用于装载和卸载基板的结构，并且缩短了用于处理基板的生产节拍。

Apparatus for processing substrates

Disclosed is a substrate for processing equipment, the equipment is used for loading and unloading, processing, transfer substrate multi chamber structure, thereby reducing the occupied area, and the apparatus includes a large roller in the interior of the transfer unit loading chamber and unloading chamber in the substrate can be loaded with the substrate transfer direction parallel to the direction and unloading, thereby simplifying the structure for loading and unloading the substrate, and shorten the production cycle for processing substrates.

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的设备
本专利技术涉及用于处理基板的设备，并且更具体地，涉及下述用于处理基板的设备，所述设备具有用于装载、加工、传递以及卸载基板的多级室结构，由此减小占用面积，并且所述设备包括设置在装载室和卸载室的内部的传递单元中的大的辊子，使得基板能够在与基板的传递方向平行的方向上装载和卸载，由此简化了用于装载和卸载基板的结构，并且缩短了用于处理基板的生产节拍。
技术介绍
通常，用于平板显示器(FPD)、半导体晶片、液晶显示器(LCD)、光掩模玻璃等的基板要经受比如沉积、蚀刻、剥离、清洁、漂洗等一系列加工。韩国专利No.10-0402901涉及用于平板显示器的制造设备的多功能清洁模块以及使用该清洁模块的清洁装置。这指的是设备的各个功能集成为一个复合模块的多功能清洁模块，并且提出了用于平板显示器的制造设备的多功能清洁模块，以便能够使设备的占用面积减至最小即使在狭窄区域内也具有现有设备的所有功能。然而，现有技术并没有提出用于使占用面积减至最小的任何多级结构，以及有关用于传递基板并且干燥基板的气刀的结构和布置的特征。
技术实现思路
因此，构思了本专利技术以解决上述问题，并且本专利技术的一方面是提供一种用于处理基板的设备，该设备具有用于装载、加工、传递以及卸载基板的多级室结构，由此减小占用面积，并且该设备包括设置在装载室和卸载室的内部的传递单元中的大的辊子，使得基板能够在与基板的传递方向平行的方向上装载和卸载，由此简化了用于装载和卸载基板的结构，并且缩短了用于处理基板的生产节拍。本专利技术的另一方面提供了一种用于处理基板的设备，在该设备中，经受加工的基板在加工室的内部以预定角度倾斜的方式传递，并且在高速传递室的内部以高速水平地传递，由此在迅速传递基板的同时改善清洁加工等加工的效率。本专利技术的又一方面提供了一种用于处理基板的设备，在该设备中，气刀设置在干燥室的内部，并且与用于使清洁室与干燥室分离的分隔部相邻，以便使干燥室中的清洁液体减至最少，从而改善干燥效果，并且气刀以与分隔部相邻且平行的方式垂直地设置，以便使下垂和变形减至最小。根据本专利技术的实施方式，提供了一种用于处理基板的设备，该设备包括：装载室，该装载室用于装载基板；至少一个加工室，所述至少一个加工室连接至装载室的第二侧，并且对沿从加工室的第一侧至加工室的第二侧的方向传递的基板应用至少一种加工；提升室，该提升室连接至加工室的第二侧并且接收经加工的基板并且沿向上的方向传递经加工的基板；高速传递室，该高速传递室设置在加工室的上方，并且沿高速传递室的第二侧至高速传递室的第一侧的方向传递从提升室接收的基板；以及卸载室，该卸载室设置在装载室的上方，并且卸载从高速传递室接收的基板；以及传递单元，该传递单元设置在装载室、加工室、提升室、高速传递室以及卸载室的内部并且传递基板，其中，设置在加工室的内部的传递单元设置为倾斜的，并且设置在高速传递室和卸载室的内部传递单元设置为水平的，并且基板通过装载室的第一侧装载并且通过卸载室的第一侧卸载。加工室可以包括：大气压等离子(AP)加工室，该大气压等离子加工室的第一侧连接至装载室的第二侧，并且大气压等离子加工室对正在传递的基板的表面应用等离子处理加工；清洁室，该清洁室连接至AP加工室的第二侧，并且使用至少一个清洁单元对传递的基板应用清洁加工；以及干燥室，该干燥室连接至清洁室的第二侧，并且使用气刀对通过清洁加工进行清洁的传递的基板应用干燥加工。基板可以同时经受等离子处理加工以及基于至少一个清洁单元的清洁加工两者。设置在装载室和卸载室的内部的传递单元可以包括一对支承板、多个轴以及大的辊子，所述一对支承板设置成在装载室和卸载室的相对两侧处面向彼此，所述多个轴具有以可旋转的方式安装至支承板的相反两端并且彼此间隔开，大的辊子分别联接至多个轴并且彼此间隔开。在卸载室的内部设置有第一倾斜单元，用于使传递单元以与设置在加工室的内部的传递单元的倾斜角相同的倾斜角倾斜。提升室可以包括在其中的升降单元和第二倾斜单元，升降单元使设置在提升室的内部的传递单元向上和向下移动；并且第二倾斜单元在从加工室接收基板时使设置在提升室的内部的传递单元的倾斜角保持与设置在加工室的内部的传递单元的倾斜角相同，在通过升降单元进行提升时改变设置在提升室的内部的传递单元的倾斜角，并且在到达高速传递室的第二侧时使设置在提升室的内部的传递单元水平。设备还包括设置为使清洁室与干燥室彼此分离的分隔部，并且包括通孔，基板能够由传递单元穿过该通孔从清洁室传递至干燥室，其中，气刀可以设置在干燥室的内部，并与分隔部相邻，且设置成分别与通过传递单元传递的基板的顶部和底部相对应，从而喷射空气，使得空气能够经由通孔朝向清洁室流动。气刀具有类似于的截面形状，气刀的第一侧包括竖向表面，并且气刀的第二侧包括竖向表面和倾斜表面，并且气刀的第一侧可以与分隔部相邻且平行，并且空气经由第一侧的下端而被喷射。气刀可以具有联接至支架的纵向上相反的端部，其中，上气刀和下气刀中的一者的高度在竖向方向上是可调节的，由此调节上气刀与下气刀之间的间隙g。支架可以包括观察窗，以用于检查上气刀与下气刀之间的间隙。附图说明本专利技术的上述和/或其他方面将通过结合附图的下述示例性实施方式的描述变得明显并且更容易理解，在附图中：图1是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备的正视图，以及图2是示意性示出图1的设备的视图；图3和图4是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的装载室的侧视图；图5是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的加工室和高速传递室的侧视图；图6至图8是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的提升室的侧视图；图9和图10是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的卸载室的侧视图；图11是示出了根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中清洁室和干燥室的内部的正视图；图12是示出了根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的清洁室和干燥室的内部的平面图；图13至图15是从不同角度观察的图12中标记的方框的局部立体图；图16是图12中在箭头方向上观察的沿线A-A’截取的立体图，以及图17是示出了图16中分离的分隔部的立体图；图18是示出了根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的清洁室的内部的分隔部的第一侧的局部立体图；图19是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的气刀的立体图，图20是图19的气刀的示意性截面图，以及图21是图19的气刀的透视立体图；图22示出了联接至根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备中的支架的气刀的正视图和立体图，图23是从相反一侧观察的联接至图22的支架的气刀的立体图，以及图24是图示了通过设置在图23的支架中的观察窗对气刀的尖端进行观察的示意图。具体实施方式关于上述问题、解决方案和效果，下文将参照附图对根据本专利技术的用于处理基板的设备的示例性实施方式进行描述。为了描述的清楚和方便，元件的尺寸、形状在图中可能是被放大的。另外，考虑到元件的结构和功能而特别定义的术语可以根据用户和操作者的意向或习惯而改变。图1是根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备的正视图，以及图2是示意性示出图1的设备的视图；如图1和图2中所示，根据本专利技术的实施方式的用于处理基板的设备100包括：装载室3，基板被装载到该装载本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理基板的设备，所述设备包括：装载室，所述装载室用于装载基板；至少一个加工室，所述至少一个加工室连接至所述装载室的第二侧，并且对沿从所述至少一个加工室的第一侧至所述至少一个加工室的第二侧的方向传递的所述基板应用至少一种加工；提升室，所述提升室连接至所述加工室的所述第二侧并且接收经加工的基板并且沿向上的方向传递所述经加工的基板；高速传递室，所述高速传递室设置在所述加工室的上方，并且沿所述高速传递室的第二侧至所述高速传递室的第一侧的方向传递从所述提升室接收的所述基板；以及卸载室，所述卸载室设置在所述装载室的上方，并且卸载从所述高速传递室接收的所述基板；以及传递单元，所述传递单元设置在所述装载室、所述加工室、所述提升室、所述高速传递室以及所述卸载室的内部并且传递所述基板，其中，设置在所述加工室的内部的所述传递单元设置为倾斜的，并且设置在所述高速传递室和所述卸载室的所述内部的所述传递单元设置为水平的，并且所述基板通过所述装载室的第一侧装载并且通过所述卸载室的第一侧卸载。

【技术特征摘要】
2016.01.20 KR 10-2016-00071791.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：装载室，所述装载室用于装载基板；至少一个加工室，所述至少一个加工室连接至所述装载室的第二侧，并且对沿从所述至少一个加工室的第一侧至所述至少一个加工室的第二侧的方向传递的所述基板应用至少一种加工；提升室，所述提升室连接至所述加工室的所述第二侧并且接收经加工的基板并且沿向上的方向传递所述经加工的基板；高速传递室，所述高速传递室设置在所述加工室的上方，并且沿所述高速传递室的第二侧至所述高速传递室的第一侧的方向传递从所述提升室接收的所述基板；以及卸载室，所述卸载室设置在所述装载室的上方，并且卸载从所述高速传递室接收的所述基板；以及传递单元，所述传递单元设置在所述装载室、所述加工室、所述提升室、所述高速传递室以及所述卸载室的内部并且传递所述基板，其中，设置在所述加工室的内部的所述传递单元设置为倾斜的，并且设置在所述高速传递室和所述卸载室的所述内部的所述传递单元设置为水平的，并且所述基板通过所述装载室的第一侧装载并且通过所述卸载室的第一侧卸载。2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述加工室包括：大气压等离子(AP)加工室，所述大气压等离子加工室的第一侧连接至所述装载室的所述第二侧，并且所述大气压等离子加工室对正在传递的基板的表面应用等离子处理加工；清洁室，所述清洁室连接至所述AP加工室的第二侧，并且使用至少一个清洁单元对传递的基板应用清洁加工；以及干燥室，所述干燥室连接至所述清洁室的第二侧，并且使用气刀对通过所述清洁加工而被清洁的所传递的基板应用干燥加工。3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述基板同时经受所述等离子处理加工以及基于所述至少一个清洁单元的所述清洁加工两者。4.根据权利要求1所述的设备，其中，设置在所述装载室和所述卸载室的内部的所述传递单元包括一对支承板、多个轴以及大的辊子，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：高永旭，
申请(专利权)人：威海机械系统显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR