有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法技术

本发明专利技术涉及一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法，涉及真空蒸镀技术领域，解决了现有技术中存在的生产过程中可操作性差、需要进行多次参数的更改和生产效率低的技术问题。本发明专利技术的方法是通过在晶振片不同的寿命周期蒸镀时，采用不用的Z值，以及相应的调整修正值之后在进行下一个寿命周期的蒸镀，能够使生产过程中需要更改的参数大大减少，并且实际膜厚与晶体管的频率之间的变化趋势趋于线性，使产品的品质更可靠，能够提高产品的合格率和生产效率。

Method for compensating evaporation coating of organic light-emitting diode

The present invention relates to an organic light emitting diode evaporation film compensation method, relates to vacuum evaporation technology, solves the operability is poor, the need for multiple parameter changes and the technical problems of low production efficiency of the production process exists in the prior art. The method of the invention is the life cycle in different crystal deposition, without the use of the Z value, and after adjustment of the corresponding value in the next life cycle of evaporation, can make the need to change the parameters in the production process is greatly reduced, and the change trend between the actual film thickness and transistor frequency tends to be linear, the quality of the products is more reliable and can improve the rate of qualified products and production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法
本专利技术涉及真空蒸镀
，特别地涉及一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法。
技术介绍
真空蒸镀有机材料进程，需要对各膜层厚度进行精确管控，才能确保蒸镀出来的器件能够合格。薄薄的一石英圆片，一面全镀，一面镀成钥匙孔形，放在探头夹具内并形成完整的通路，与振荡器相连，通过晶振片上固有频率的变化来监控膜厚。晶振片是根据晶振片固有频率的变化来换算出晶振片上蒸镀有机材料的厚度，当蒸镀膜厚质量远小于晶振片时，晶振片固有频率变化不大，晶振片固有频率变化可以很精确的反应膜厚的变化。但是制程中蒸镀厚膜，晶振片固有频率的变化会受到厚膜的影响，测量精度会越来越低，此时就需要对膜厚进行补偿。目前最简单的膜厚补偿是单一的使用修正值(Tooling)来进行膜厚补偿，即使测量膜厚满足下列定义式：目标膜厚＝测量膜厚/修正值，例如蒸镀的目标膜厚为实际测量的膜厚只有那么修正值设为80％，才能使蒸镀的膜厚为但是随着检测膜厚的晶振片固有频率降低，目标膜厚真实检测出的膜厚会越来越薄(因为晶振片检测精度越来越低)，即测量膜厚的数值将逐渐变小，因此需要通过测量膜厚的厚度差异(即目标膜厚与测量膜厚之差)并手动增加膜厚，给产品的生产带来很大的困难，同时产品生产效率及良率也会很大影响。针对随着检测膜厚的晶振片频率而导致的真实膜厚变薄问题，采用通过不断更改修正值的方法来补偿膜厚；目标膜厚＝测量的膜厚1/修正值1；目标膜厚＝测量的膜厚2/修正值2；目标膜厚＝测量的膜厚3/修正值3；……在晶振片频率衰减的10个寿命周期(lifetime)里测试膜厚衰减差异修正值，也就是需要使用10个修正值来修正膜厚。根据膜厚计算公式：其中，Nq为At切割晶体频率常数，一般为1.688×1013Hz·A；Dq为石英密度，一般为2.648g/cm3；Df为膜材密度，有机材料一般为1g/cm3；Z为材料的Z值；Fq为欲镀膜的石英晶体的频率；Fc为已镀膜的石英晶体的频率。一般情况下，Z默认为1，则可得：当Z(Z-ratio)为1时，此时没有使用Z值进行膜厚补偿，而膜厚测试仪计算膜厚方式是跟晶振片频率有关，因此是忽略膜厚对晶振片固有频率的影响，因此，检测到的膜厚会越来越薄。例如Z值(Z-ratio)为1，对应的修正值T为初始修正值，即T0＝20％，设定蒸镀的目标膜厚开始进行蒸镀：晶振片初始寿命周期的蒸镀(即lifetime＝0)，T0＝20％，实际膜厚即d0＝D，因此在开始下一个寿命周期(即第一寿命周期)的蒸镀时，修正值保持为T0不变；晶振片第一寿命周期的蒸镀(即lifetime＝1)，T1＝20％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分比为4.2％，大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T2，晶振片第二寿命周期的蒸镀(即lifetime＝2)，T2＝19.17％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分比为8.3％，大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T3，T3＝18.33％；晶振片第三寿命周期的蒸镀(即lifetime＝3)，T3＝18.33％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T4，T4＝17.5％；晶振片第四寿命周期的蒸镀(即lifetime＝4)，T4＝17.5％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T5，T5＝16.7％；晶振片第五寿命周期的蒸镀(即lifetime＝5)，T5＝16.7％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T6，T6＝15.8％；晶振片第六寿命周期的蒸镀(即lifetime＝6)，T6＝15.8％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T7，T7＝15％；晶振片第七寿命周期的蒸镀(即lifetime＝7)，T7＝15％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T8，T8＝14.17％；晶振片第八寿命周期的蒸镀(即lifetime＝8)，T8＝14.17％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T9，T9＝13.33％；晶振片第九寿命周期的蒸镀(即lifetime＝9)，T9＝13.33％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为T10，T10＝12.5％；晶振片第十寿命周期的蒸镀(即lifetime＝10)，T10＝12.5％，实际膜厚目标膜厚与实际膜厚的差异百分大于差异常数(1.5％)，因此需要对修正值进行修正后再开始下一个寿命周期的蒸镀，即将修正值改为11.67％。从上述例子可看出，检测到的实际膜厚越来越薄，而在Z值为1时，理论膜厚，即目标膜厚保持不变，因此理论膜厚与实际膜厚的变化趋势存在很大的差异，特别是在晶振片的寿命周期较大时，差异很明显。此外，在晶振片的10个寿命周期内，需要对修正值进行10次修改，就需要10个修正值，而当硬件稍有变化，这10个修正值就得重新修正，工作量太大，严重影响生产效率。
技术实现思路
本专利技术提供一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法，用于解决上述生产过程中可操作性差、需要进行多次参数的更改和生产效率低的技术问题。本专利技术提供一种宏观自动检查机，包括以下步骤：S10：将Z值设定为Z0，Z0为大于1且小于99的整数；将修正值T设定为与Z0对应的初始修正值T0；设定目标膜厚D后从晶振片的初始寿命周期开始进行蒸镀；S20：获得步骤S10中的实际膜厚d0，所述实际膜厚d0与目标膜厚D相同；S30：进行晶振片的第n个寿命周期蒸镀，获得相应的实际膜厚dn，若实际膜厚dn与目标膜厚D满足下列定义式：其中，n为大于等于1的整数；D为目标膜厚；dn为晶振片的第n个寿命周期的实际膜厚；Q为1.5％；则将Z值更改为Zn，Zn为大于1且小于99的整数，且Zn不等于Z0；其中，Zn为晶振片的第n个寿命周期的Z值；Z0为晶振片的初始寿命周期的Z值；并将修正值T更改为与Zn对应的初始修正值Tn0；S40：进行晶振片的第n+1个寿命周期蒸镀，直至最后一个寿命周期结束为止。在一个实施方式中，步骤S30中，若Z0小于或等于5，则Zn满足下列定义式：Zn>Z0；在一个实施方式中，步骤S30中，若Z0大于5，则Zn满足下列定义式：Zn<Z0；在一个实施方式中，步骤S30中更改Z值的次数为一次或两次。在一个实施方式中，步骤S30中，若实际膜厚dn与目标膜厚D满足下列定义式：则将修正值T更改为Tn，所述Tn满足下列定义式：其中，Tn为晶振片的第n个寿命周期的修正值，T0为与Z0本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法的方法，其特征在于，包括以下步骤：S10：将Z值设定为Z0，Z0为大于1且小于99的整数；将修正值T设定为与Z0对应的初始修正值T0；设定目标膜厚D后从晶振片的初始寿命周期开始进行蒸镀；S20：获得步骤S10中的实际膜厚d0，所述实际膜厚d0与目标膜厚D相同；S30：进行晶振片的第n个寿命周期蒸镀，获得相应的实际膜厚dn，若实际膜厚dn与目标膜厚D满足下列定义式：

【技术特征摘要】
1.一种有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法的方法，其特征在于，包括以下步骤：S10：将Z值设定为Z0，Z0为大于1且小于99的整数；将修正值T设定为与Z0对应的初始修正值T0；设定目标膜厚D后从晶振片的初始寿命周期开始进行蒸镀；S20：获得步骤S10中的实际膜厚d0，所述实际膜厚d0与目标膜厚D相同；S30：进行晶振片的第n个寿命周期蒸镀，获得相应的实际膜厚dn，若实际膜厚dn与目标膜厚D满足下列定义式：其中，n为大于等于1的整数；D为目标膜厚；dn为晶振片的第n个寿命周期的实际膜厚；Q为1.5％；则将Z值更改为Zn，Zn为大于1且小于99的整数，且Zn不等于Z0；其中，Zn为晶振片的第n个寿命周期的Z值；Z0为晶振片的初始寿命周期的Z值；并将修正值T更改为与Zn对应的初始修正值Tn0；S40：进行晶振片的第n+1个寿命周期蒸镀，直至最后一个寿命周期结束为止。2.根据权利要求1所述的有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法的方法，其特征在于，步骤S30中，若Z0小于或等于5，则Zn满足下列定义式：Zn>Z0。3.根据权利要求1所述的有机发光二极管蒸镀膜补偿的方法的方法，其特征在于，步骤S30中，若Z0大于5，则Zn满足下列定义式：Zn<Z0。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴龙，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42