【技术实现步骤摘要】
半导体集成电路的电容器以及其制造方法相关申请的交叉引用本申请引用2016年1月11日递交的第10-2016-0003347号韩国专利申请、主张所述韩国专利申请的优先权并主张所述韩国专利申请的权益,所述韩国专利申请的内容在此以全文引入的方式并入本文中。
本专利技术包含的实施例涉及一种半导体集成电路的电容器以及一种其制造方法,且更具体地说,涉及一种半导体集成电路的金属-绝缘体-金属类型电容器以及一种其制造方法,所述半导体集成电路的金属-绝缘体-金属类型电容器能够提高电容器的电极层与介电层之间的粘附力。
技术介绍
一般来说,半导体集成电路(例如,存储器装置)根据信号处理方法分成数字集成电路和模拟集成电路,并且众所周知,每个集成电路根据电容器中积累的电荷的存在和不存在来记录信息而不论数字类型和模拟类型。电容器是一种存储能量的半导体装置,并且以其中层合两个电极层和安置在电极层之间的介电层的结构来制造。因此,当施加DC电压(例如正电压)到一个电极层时,在一个带电的电极层中积累正电荷,在相对的电极层中积累负电荷,以这种方式使得积累电荷以便与所施加的电压均衡,因此电容器处于充电完成状态,并且在此状态中的电流处于截止状态。另一方面,电容器的放电是充电过程的反向过程,并且当连接电阻而不是施加电压时,电荷放电多达充电量,因此电流变为流动状态,并且此外,在AC电压下重复充电和放电过程,因此电流始终处于通过电容器的流动状态。下文将描述相关技术中执行上述功能的半导体集成电路的电容器的结构。图1示出相关技术的电容器的结构。如图1中所示,电容器20包含:下部电极层12,所述下部电极层形成 ...
【技术保护点】
一种半导体集成电路,包括:衬底,所述衬底包括衬底热膨胀系数;以及电容器,所述电容器在所述衬底上并且包括:下部晶种层,所述下部晶种层在所述衬底的最顶层衬底表面上并且包括下部晶种热膨胀系数;下部电极层,所述下部电极层在所述下部晶种层上并且包括下部电极热膨胀系数;缓冲层,所述缓冲层在所述下部电极层上并且包括缓冲热膨胀系数;介电层,所述介电层在所述缓冲层上并且包括介电热膨胀系数;上部晶种层,所述上部晶种层在所述介电层上并且包括上部晶种热膨胀系数;以及上部电极层,所述上部电极层在所述上部晶种层上并且包括上部电极热膨胀系数;其中:所述下部电极热膨胀系数大于所述缓冲热膨胀系数;所述缓冲热膨胀系数大于所述介电热膨胀系数;所述下部电极热膨胀系数大于所述下部晶种热膨胀系数;所述下部晶种热膨胀系数大于所述衬底热膨胀系数;所述上部电极热膨胀系数大于所述上部晶种热膨胀系数;所述上部晶种热膨胀系数大于所述介电热膨胀系数;并且所述下部电极热膨胀系数与所述缓冲热膨胀系数之间的差大于所述缓冲热膨胀系数与所述介电热膨胀系数之间的差。
【技术特征摘要】
2016.01.11 KR 1020160003347;2016.05.06 US 15/149,01.一种半导体集成电路,包括:衬底,所述衬底包括衬底热膨胀系数;以及电容器,所述电容器在所述衬底上并且包括:下部晶种层,所述下部晶种层在所述衬底的最顶层衬底表面上并且包括下部晶种热膨胀系数;下部电极层,所述下部电极层在所述下部晶种层上并且包括下部电极热膨胀系数;缓冲层,所述缓冲层在所述下部电极层上并且包括缓冲热膨胀系数;介电层,所述介电层在所述缓冲层上并且包括介电热膨胀系数;上部晶种层,所述上部晶种层在所述介电层上并且包括上部晶种热膨胀系数;以及上部电极层,所述上部电极层在所述上部晶种层上并且包括上部电极热膨胀系数;其中:所述下部电极热膨胀系数大于所述缓冲热膨胀系数;所述缓冲热膨胀系数大于所述介电热膨胀系数;所述下部电极热膨胀系数大于所述下部晶种热膨胀系数;所述下部晶种热膨胀系数大于所述衬底热膨胀系数;所述上部电极热膨胀系数大于所述上部晶种热膨胀系数;所述上部晶种热膨胀系数大于所述介电热膨胀系数;并且所述下部电极热膨胀系数与所述缓冲热膨胀系数之间的差大于所述缓冲热膨胀系数与所述介电热膨胀系数之间的差。2.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其中:所述衬底包括半导体材料和/或玻璃材料中的一种或两种;所述电容器的每一层形成于所述衬底上;所述下部晶种层的材料、所述缓冲层的材料以及所述上部晶种层的材料彼此相同;所述下部晶种层包括設置到所述最顶层衬底表面上的电镀层;所述下部电极层包括电镀到所述下部晶种层上的电镀层;所述缓冲层包括溅镀到所述下部电极层上的溅镀层;所述介电层包括沉积到所述缓冲层上的化学气相沉积层;所述上部晶种层包括电镀到所述介电层上的电镀层;并且所述上部电极层包括电镀到所述上部晶种层上的电镀层。3.一种半导体集成电路,包括:衬底;以及电容器,所述电容器在所述衬底上并且包括:下部电极层,所述下部电极层耦合到所述衬底并且包括下部电极热膨胀系数;缓冲层,所述缓冲层在所述下部电极层上并且包括缓冲热膨胀系数;介电层,所述介电层在所述缓冲层上并且包括介电热膨胀系数;以及上部电极层,所述上部电极层在所述介电层上;其中:所述下部电极热膨胀系数大于所述缓冲热膨胀系数;并且所述缓冲热膨胀系数大于所述介电热膨胀系数。4.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其中:所述缓冲层包括以下各项中的一种或多种:钛钨、钛、铬和/或钨。5.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其中:所述介电层包括以下各项中的一种或多种:氮化硅、氧化铝和/或二氧化铪)。6.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:李韩民,崔潘秋,欧权孙,洪森门,洪森文,柳坤汉,
申请(专利权)人:艾马克科技公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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