研磨腔体及靶材打磨清洗机制造技术

本实用新型专利技术提供一种研磨腔体及靶材打磨清洗机，所述研磨腔体包括：腔体主体，所述腔体主体内形成有空腔，所述空腔内填充有与靶材材质相同的研磨颗粒。本实用新型专利技术的研磨腔体通过在空腔内填充与靶材材质相同的研磨颗粒，在外界驱动力的作用下可以在设备维护保养时对金属靶材进行打磨清洗工作，打磨清洗的质量较高；金属靶材不与外界直接接触，避免外部污染物进入，不会对金属靶材造成污染，降低保养风险；所述研磨腔体还可以将研磨清洗过程中产生的粉尘控制在所述研磨腔体内，使得研磨清洗可以在无尘室中进行。

Grinding cavity and target grinding and cleaning machine

The utility model provides a grinding chamber and target polishing cleaning machine, comprising a grinding chamber: the chamber body, a cavity formed within the body cavity, the cavity is filled with abrasive particles with the same target material. The utility model of the grinding chamber filled with abrasive particles with the same target material in the cavity, in the outside world under the effect of driving force in the equipment maintenance of metal material for polishing cleaning, polishing high quality cleaning; metal target is not in direct contact with the outside world, to avoid external pollutants enter, no pollution to metal the target, reduce the maintenance risk; the grinding chamber can also be produced in the process of grinding and cleaning dust control in the grinding chamber, the abrasive cleaning can be carried out in a clean room.

【技术实现步骤摘要】
研磨腔体及靶材打磨清洗机
本技术属于半导体设备
，特别是涉及一种研磨腔体及靶材打磨清洗机。
技术介绍
蒸镀工艺是现有半导体工艺中最常用的工艺之一，用于蒸镀工艺的蒸镀设备需要定期保养维护，在蒸镀设备定期保养维护的过程中，需要对蒸镀设备中的金属靶材进行清洗处理，现有对所述金属靶材进行清洗的方法为使用电动磨具人为手工对所述金属靶材进行打磨清洗。但上述清洗方式存在如下缺陷：1、手工打磨清洗会产生粉尘，不能在无尘室内操作；2、手工打磨清洗时所述金属靶材可能会接触到操作者的双手，从而引入有机物而污染靶材；3、手工打磨清洗时打磨清洗的效果因人而异，参数不能量化，保养质量无法保证；4、手工打磨清洗增加了人力消耗。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种研磨腔体及靶材打磨清洗机，用于解决现有技术中使用电动磨具人为手工对所述金属靶材进行打磨清洗而存在的粉尘释放、靶材容易受污染、打磨清洗质量不稳定及增加人力消耗等问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种研磨腔体，所述研磨腔体包括：腔体主体，所述腔体主体内形成有空腔，所述空腔内填充有与靶材材质相同的研磨颗粒。作为本技术的研本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨腔体，其特征在于，所述研磨腔体包括：腔体主体，所述腔体主体内形成有空腔，所述空腔内填充有与靶材材质相同的研磨颗粒。

【技术特征摘要】
1.一种研磨腔体，其特征在于，所述研磨腔体包括：腔体主体，所述腔体主体内形成有空腔，所述空腔内填充有与靶材材质相同的研磨颗粒。2.根据权利要求1所述的研磨腔体，其特征在于：所述研磨腔体还包括盖体，所述盖体扣置于所述腔体主体的顶部，以将所述空腔密封。3.一种靶材打磨清洗机，其特征在于，所述靶材打磨清洗机包括：如权利要求1或2所述的研磨腔体、连接器及驱动装置；所述连接器一端与所述研磨腔体的底部相连接，另一端与所述驱动装置相连接；所述驱动装置适于驱动所述连接器以带动所述研磨腔体旋转。4.根据权利要求3所述的靶材打磨清洗机，其特征在于：所述靶材打磨清洗机还包括转速传感器，所述转速传感器固定于所述连接器上，以监测所述驱动装置的转速。5.根据权利要求3或4所述的靶材打磨清洗机，其特征在于：所述靶材打磨清洗机还包括保护箱，所述保护箱位于所述研磨腔体、所述连接器及所述驱动装置的外围。6.根据权利要求5所述的靶材打磨清洗机，其特征在于：所述靶材打磨清洗机还包括隔音结构，所述隔音结构贴置于所述保护箱的内...

【专利技术属性】
技术研发人员：周尧，黄康，张颂周，
申请(专利权)人：中航重庆微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆,50