一种自清洗研磨上盘结构，包括研磨上盘、通过支柱固定支撑在研磨上盘上的研磨砂液导槽、研磨上盘提拉支架以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置，其特征在于，所述提拉支架上固定设有进水管，所述进水管位于研磨上盘上方，所述进水管一端连接有进水装置，所述进水管上设置有多个喷头，所述喷头上设置有多个喷嘴，包括中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴，所述中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴在喷头右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，所述中心喷嘴与喷头所成夹角α为90度，所述内侧喷嘴与喷头所成夹角β为60度，所述外侧喷嘴与喷头所成夹角γ为30度。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种自清洗研磨上盘结构，包括研磨上盘、通过支柱固定支撑在研磨上盘上的研磨砂液导槽、研磨上盘提拉支架以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置，其中，所述提拉支架上固定设有进水管，所述进水管位于研磨上盘上方，所述进水管一端连接有进水装置，所述进水管上设置有多个喷头，所述喷头上设置有多个喷嘴，包括中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴，所述中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴在喷头右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，本专利技术在研磨加工结束后，打开进水装置即可实现自动清洗，减少了人工清洗的繁琐过程，大大提高了工作效率。【专利说明】一种自清洗研磨上盘结构
本专利技术涉及一种自清洗研磨上盘结构，属于晶片研磨加工领域。
技术介绍
晶体块出厂时，其表面都是比较粗糙的，需要通过研磨机进行进行研磨。用于晶片研磨加工的研磨机，在加工过程中，一般不单独对研磨上盘进行清洗，而我们都知道，在研磨加工结束后，研磨上盘上会带有研磨砂液以及少许其它杂质，现在的对研磨上盘的清洗大多是采用人工清洗的方式进行，人工清洗费时费力效率低下。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对以上弊端提供一种自清洗研磨上盘结构，在研磨加工结束后，打开进水装置即可实现自动清洗，减少了人工清洗的繁琐过程，大大提高了工作效率。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是: 一种自清洗研磨上盘结构，包括研磨上盘、通过支柱固定支撑在研磨上盘上的研磨砂液导槽、研磨上盘提拉支架以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置，其中，所述提拉支架上固定设有进水管，所述进水管位于研磨上盘上方，所述进水管一端连接有进水装置，所述进水管上设置有多个喷头，所述喷头上设置有多个喷嘴，包括中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴，所述中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴在喷头右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，所述中心喷嘴与喷头所成夹角α为90度，所述内侧喷嘴与喷头所成夹角β为60度，所述外侧喷嘴与喷头所成夹角Y为30度。一种自清洗研磨上盘结构，其中，所述喷头的数量为3个。一种自清洗研磨上盘结构，其中，所述喷嘴的数量为9个。工作方法:在研磨加工结束后，打开进水装置，水通过进水装置流入进水管，进水管内的水经过喷头时通过喷嘴喷出，根据不同角度的喷嘴喷至下方的研磨上盘进行清洗，直至清洗干净关闭进水装置即可。有益效果； 1，在研磨加工结束后，打开进水装置即可实现自动清洗，减少了人工清洗的繁琐过程，大大提高了工作效率。2，根据不同角度的喷嘴对下方的研磨上盘进行喷洒，实现多角度清洗，大大提高清洗效果。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术的示意图。图2为本专利技术的喷头示意图。图3为本专利技术的喷嘴分布示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本专利技术作进一步说明。实施例如图所示，一种自清洗研磨上盘结构，包括研磨上盘1、通过支柱2固定支撑在研磨上盘I上的研磨砂液导槽3、研磨上盘提拉支架4以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置5，其中，所述提拉支架4上固定设有进水管6，所述进水管6位于研磨上盘I上方，所述进水管6 —端连接有进水装置7，所述进水管6上设置有多个喷头8，所述喷头8上设置有多个喷嘴9，包括中心喷嘴91，内侧喷嘴91及外侧喷嘴93，所述中心喷嘴91，内侧喷嘴92及外侧喷嘴93在喷头8右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，所述中心喷嘴91与喷头8所成夹角α为90度，所述内侧喷嘴92与喷头8所成夹角β为60度，所述外侧喷嘴93与喷头8所成夹角Y为30度。所述喷头8的数量为3个。所述喷嘴9的数量为9个。工作方法:在研磨加工结束后，打开进水装置7，水通过进水装置7流入进水管6，进水管6内的水经过喷头8时通过喷嘴9喷出，根据不同角度的喷嘴9喷至下方的研磨上盘I进行清洗，直至清洗干净关闭进水装置7即可。有益效果；在研磨加工结束后，打开进水装置即可实现自动清洗，减少了人工清洗的繁琐过程，大大提高了工作效率。根据不同角度的喷嘴对下方的研磨上盘进行喷洒，实现多角度清洗，大大提高清洗效果。以上所述，仅为本专利技术较佳的【具体实施方式】，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本专利技术的保护范围内。因此，本专利技术的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。【权利要求】1.一种自清洗研磨上盘结构，包括研磨上盘、通过支柱固定支撑在研磨上盘上的研磨砂液导槽、研磨上盘提拉支架以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置，其特征在于，所述提拉支架上固定设有进水管，所述进水管位于研磨上盘上方，所述进水管一端连接有进水装置，所述进水管上设置有多个喷头，所述喷头上设置有多个喷嘴，包括中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴，所述中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴在喷头右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，所述中心喷嘴与喷头所成夹角α为90度，所述内侧喷嘴与喷头所成夹角β为60度，所述外侧喷嘴与喷头所成夹角Y为30度。2.如权利要求1所述的一种自清洗研磨上盘结构，其特征在于，所述喷头的数量为3个。3.如权利要求1所述的一种自清洗研磨上盘结构，其特征在于，所述喷嘴的数量为9个。【文档编号】B24B37/12GK103721967SQ201310747969【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年12月31日 优先权日:2013年12月31日 【专利技术者】聂金根 申请人:镇江市港南电子有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种自清洗研磨上盘结构，包括研磨上盘、通过支柱固定支撑在研磨上盘上的研磨砂液导槽、研磨上盘提拉支架以及通过研磨上盘提拉支架以提拉研磨上盘的提拉装置，其特征在于，所述提拉支架上固定设有进水管，所述进水管位于研磨上盘上方，所述进水管一端连接有进水装置，所述进水管上设置有多个喷头，所述喷头上设置有多个喷嘴，包括中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴，所述中心喷嘴，内侧喷嘴及外侧喷嘴在喷头右侧自中心向外呈“十”字型均匀分布，所述中心喷嘴与喷头所成夹角α为90度，所述内侧喷嘴与喷头所成夹角β为60度，所述外侧喷嘴与喷头所成夹角γ为30度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：聂金根，
申请(专利权)人：镇江市港南电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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