制备多异氰酸酯的方法技术

本发明专利技术涉及一种制备低聚异氰酸酯的方法，包括二异氰酸酯在催化剂的存在下进行反应，其中所述催化剂由盐化合物组成，该盐化合物由选自１，２，３－或１，２，４－三唑、１，２，３－或１，２，４－三唑的取代系列者、１，２，４－三唑的碳环稠合系列者、１，２，３－或１，２，４－三唑的杂环稠合系列者的化合物及其混合物的阴离子和选自碱金属、碱土金属和／或通式（５）的一价铵阳离子和／或磷鎓阳离子的阳离子制备，其中Ｅ、Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］如说明书中所定义。本发明专利技术还涉及上述方法制备的产物，以及该产物反应制备的聚合物。本发明专利技术所提供的异氰酸酯低聚用催化剂体系，具有高活性并且还促使生成占制成的多异氰酸酯中相当比例的脲二酮。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及制备多异氰酸酯的新方法、如此制备的多异氰酸酯及 其应用。
技术介绍
异氰酸酯的低聚是通常低分子量二官能异氰酸酯改性实践中十分 成熟和早就知道的方法，旨在获得具有优异使用性能的产品，例如用 于漆和涂料领域，在本文中通常称之为多异氰酸酯(J. Prakt. Chem./Chem. Ztg. 1994， 336， 185~ 200)。为获得光稳定、不泛黄的涂料和涂层，通常都使用基于脂族二异 氰酸酯的多异氰酸酯。术语"脂族，，在这里指单体中NCO基团所连接 的碳原子；换句话说，完全可能，该分子整体包含芳环，而按照定义， 该芳环不带NC0基团。根据相应低聚反应过程中主要由迄今游离的NC0基团生成的结构 类型的本质，形成不同产物和方法之间的差别。尤其重要的有二聚反应，据知，生成例如描述在DE-A 16 70 720 中的通式(理想结构)l的脲二酮(uretdione)结构；以及三聚反应，据 知，生成例如描述在EP-A 0 010 589中的通式(理想结构)2的异氰脲 酸酯结构。除了后面提到的三聚体之外，还可能，例如按照EP-A 0798 299公开的方法，获得异氰脲酸酯的异构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备低聚异氰酸酯的方法，该方法包括二异氰酸酯在催化剂的存在下进行反应，其中所述催化剂由盐化合物组成，该盐化合物由选自１，２，３－或１，２，４－三唑、１，２，３－或１，２，４－三唑的取代系列者、１，２，４－三唑的碳环稠合系列者、１，２，３－或１，２，４－三唑的杂环稠合系列者的化合物及其混合物的阴离子和选自碱金属、碱土金属和／或通式（５）的一价铵阳离子和／或磷鎓阳离子的阳离子制备，　　　　＊＊＊　　（５），　　　　其中　　　　Ｅ代表氮或磷，并且　　　　Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］彼此独立地代表相同或不同的基团，该基团分别选自含有最多１８个碳原子的饱和脂族或脂环族或任选取代的芳...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：J科彻尔，F里奇特，HJ拉亚斯，M温特曼特尔，
申请(专利权)人：拜尔公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]