作为表面改性剂的用含硅基团封端的低聚-和聚-碳酸酯制造技术

技术编号:1570540 阅读:225 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种式Ⅰ的新化合物,其中通用符号如权利要求1中定义的,和R↓[1]和R↓[2]彼此独立地是含硅基团。这些式Ⅰ的新的化合物可用作有机材料的表面能降低剂,所述有机材料如聚碳酸酯、聚酯或聚酮或它们的混合物、共混物或掺合物。具有降低的表面能的聚合物具有“容易清洁”、“自清洁”、“防污”、“去污”、“抗涂写”、“抗油性”、“耐溶剂性”、“耐化学性”、“自润滑”、“抗划痕性”、“低水分吸收”“抗积垢”、“滑动性”和“疏水表面”;和对蛋白质以及对如细菌、真菌和藻类等微生物的抗粘附性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明作为表面改性剂的用含硅基团封端的低聚-和聚-碳酸酯 本专利技术涉及用含硅基团封端的新型低聚-和聚-碳酸酯,涉及包含有机材料的组合物,所述有机材料优选是如聚碳酸酯、聚酯、聚丙烯酸酯或聚甲基丙烯酸酯或它们的混合物、共混物或掺合物的合成聚合物,和涉及新的表面改性剂,以及新的化合物作为有机材料的表面能降低剂(reducer)的用途。具有这种降低的表面能的聚合物具有“容易清洁”、“自清洁”“防污”“去污”、“抗涂写(antigraffiti)”、“抗油性”、“耐溶剂性”、“耐化学性”、“自润滑”、“抗划痕性”、“低水分吸收”“抗积垢”、“滑动性”和“疏水表面”;和对蛋白质和对如细菌、真菌和藻类等微生物的抗粘附性。 对于用一定领域的热塑性聚合物制备的制品,对于热塑性上釉特别是在上釉应用中使用的聚碳酸酯透明片材和薄膜,明确需要的是易于自清洁的性能。自清洁可能通过雨水流过片材的表面而发生。易于自清洁对维持透明的或半透明的片材的高透光性和最小化在片材表面上的不想要的材料的堆积是重要的。这也极大地降低了清洁建筑物、覆盖的人行道、温室、汽车和运输应用等的屋顶或玻璃窗的频率。这对如乳白色的或青铜色的热塑性片材等装饰性半透明的热塑性片材也是有利的。 WO-A-03/057767公开了在外表面上具有足够量的具有羟基官能硅氧烷改性的丙烯酸酯聚合物添加剂的涂层组合物的聚碳酸酯片材。这允许容易地通过降低这样的颗粒和/或液体对基材的粘合力来去除在表面上的固体颗粒(污垢)和/或液体。在市场上可买到的聚碳酸酯片材上的水滴的接触角是约66°,和在处理过的片材上是约101°。 WO-A-01/74946公开了结合入热塑性树脂(例如聚碳酸酯树脂)的树状聚合物(dendrimer)添加剂会有效地改变热塑性树脂的表面性能。这样的组合物可以注模来生产制品,树状聚合物添加剂浓缩在制品的表面从而改变树脂的性能。通过选择树状聚合物添加剂的类型,可以控制模制制品所得到的性能。 现在已经发现用含硅基团封端的新型低聚-和聚-碳酸酯可用于各种各样的工业应用,例如有机材料的表面能降低剂,所述有机材料优选是聚碳酸酯、聚酯、聚丙烯酸酯或聚甲基丙烯酸酯或它们的混合物、共混物或掺合物。具有这样的降低的表面能的聚合物具有“容易清洁”、“自清洁”“防污”、“抗污性”、“抗涂写”、“抗油性”、“耐溶剂性”、“耐化学性”、“自润滑”、“抗划痕性”、“低水分吸收”“抗积垢”、“滑动性”和“疏水表面”;和对蛋白质以及对如细菌、真菌和藻类等微生物的抗粘附性。 也已经发现用含硅基团封端的新型低聚-和聚-碳酸酯可用作聚合物的熔融添加剂,而不会影响聚合物的辅助性能和不会释放杀虫添加剂。 因此本专利技术提供了一种式I的化合物 其中 R0是直接键、 -O-、-S-、-SO-、-SO2-或 R1和R2彼此独立地是含硅基团, R3和R4彼此独立地是氢、含氟基团、含硅基团、C1-C12烷基、苯基或 或 R3和R4和与其键合的碳原子一起形成C5-C8-亚环烷基环,其是未取代的或被1-3个C1-C4烷基取代的; R5、R6、R7和R8彼此独立地是氢、C1-C12烷基或C3-C12烯基, X1和X2彼此独立地是直接键或C1-C12亚烷基或被氧间断的C4-C25亚烷基; Y1和Y2彼此独立地是直接键、氧、 或 R9和R10彼此独立地是直接键或C1-C4亚烷基, R11、R12和R13彼此独立地是氢、C1-C12烷基或C3-C12烯基, R14是氢、C1-C12烷基或含硅基团, m是0-10’000,和 n是0-10’000。 含硅基团优选是式II的基团 其中 R17、R18、R19和R20彼此独立地是C1-C12烷基、被羟基或氨基取代的C1-C12烷基;被氧间断的C4-C12羟基烷基;或 R21是C1-C12烷基或 R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28和R29彼此独立地是C1-C12烷基或被羟基或氨基取代的C1-C12烷基; p是0-200,和 q是0-200。 作为含硅基团特别重要的是式II的基团,其中 R17、R18、R19和R20彼此独立地是甲基或 R21是甲基或 R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28和R29是甲基,和 p和q彼此独立地是0-100。 具有至多12个碳原子的烷基是支化或未支化的基团,例如甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基丁基、正戊基、异戊基、1-甲基戊基、1,3-二甲基丁基、正已基、1-甲基已基、正庚基、异庚基、1,1,3,3-四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、正辛基、2-乙基己基、1,1,3-三甲基己基、1,1,3,3-四甲基戊基、壬基、癸基、十一烷基、1-甲基十一烷基或十二烷基。对R3和R4优选的定义是,例如,是C1-C8烷基,例如,C1-C4烷基,如甲基。 被C1-C4烷基取代的C5-C8亚环烷基环,优选包括1-3个、特别是1或2个支化的或未支化的烷基,所述亚环烷基环是,例如,亚环戊基、甲基亚环戊基、二甲基亚环戊基、亚环己基、甲基亚环己基、二甲基亚环己基、三甲基亚环己基、叔丁基亚环己基、亚环庚基或亚环辛基。优选的是亚环己基。 C1-C12亚烷基是支化的或未支化的基团,例如,亚甲基、亚乙基、亚丙基、三亚甲基、四亚甲基、五亚甲基、六亚甲基、七亚甲基、八亚甲基、十亚甲基或十二亚甲基。对X1和X2的优选的定义是C1-C8亚烷基,例如C2-C8亚烷基。对X1和X2特别优选的定义是C2-C4亚烷基,例如,亚乙基。 被氧间断的C4-C25亚烷基是支化的或未支化的基团,例如,-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2-或-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-。 具有3-14个碳原子的烯基是支化的或未支化的基团,例如,丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、异丁烯基、正-2,4-戊二烯基、3-甲基-2-丁烯基、正-2-辛烯基、正-2-十二烯基或异十二烯基。 被氧间断的C4-C12羟烷基是,例如,-CH2CH2-O-CH2CH2CH2OH或-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2OH。 含氟基团是支化的或未支化的基团,其含至少一个氟原子,例如,C1-C25氟烷基;或-(CF2)sF,其中s是1-50。 C1-C25氟烷基例如是全氟烷基、氟代甲基、2-氟代乙基、3-氟代丙基、4-氟代丁基、5-氟代戊基、6-氟代已基、7-氟代庚基、二氟甲基、三氟甲基、五氟乙基、五氟丁基。 重要的是式I的化合物,其中 R0是 R1和R2彼此独立地是含硅基团, R3和R4彼此独立地是氢、三氟甲基、含硅基团、C1-C12烷基,苯基或 或 R3和R4和与其键合的碳原子一起形成C5-C8的亚环烷基环,其是未取代的或被1-3个C1-C4烷基取代的,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式Ⅰ的化合物:    ***  (Ⅰ)    其中    R↓[0]是直接键、-*-、-O-、-S-、-SO-、-SO↓[2]-或-*-,    R↓[1]和R↓[2]彼此独立地是含硅基团,    R↓[3]和R↓[4]彼此独立地是氢、含氟基团、含硅基团、C↓[1]-C↓[12]烷基、苯基或    ***;或    R↓[3]和R↓[4]和与其键合的碳原子一起形成C↓[5]-C↓[8]-亚环烷基环,其是未取代的或被1-3个C↓[1]-C↓[4]烷基取代的;    R↓[5]、R↓[6]、R↓[7]和R↓[8]彼此独立地是氢、C↓[1]-C↓[12]烷基或C↓[3]-C↓[12]烯基,    X↓[1]和X↓[2]彼此独立地是直接键或C↓[1]-C↓[12]亚烷基或被氧间断的C↓[4]-C↓[25]亚烷基;    Y↓[1]和Y↓[2]彼此独立地是直接键、氧、***    R↓[9]和R↓[10]彼此独立地是直接键或C↓[1]-C↓[4]亚烷基,    R↓[11]、R↓[12]和R↓[13]彼此独立地是氢、C↓[1]-C↓[12]烷基或C↓[3]-C↓[12]烯基,    R↓[14]是氢、C↓[1]-C↓[12]烷基或含硅基团,    m是0-10’000,和    n是0-10’000。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:FJ布兰德AK德赛M格斯特SB欣达尔卡SD萨哈斯拉布德PN萨恩基M廷克尔A普雷厄斯J韦萨恩KP孔布哈尔
申请(专利权)人:西巴特殊化学品控股有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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