一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法技术

技术编号:15623455 阅读:491 留言:0更新日期:2017-06-14 05:35
本发明专利技术涉及一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法。该纳米级金刚石微粉的制备包括:1)将中值粒径为0.3μm以细的金刚石微粉与水混合,制备原料料浆;2)向原料料浆中加入超硬磨料颗粒作为研磨介质进行研磨整形,过滤,得到整形料浆;研磨介质的粒度大于步骤1)中金刚石微粉的粒度;3)将步骤2)所得整形料浆进行分级,即得。本发明专利技术提供的窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法,以相对金刚石微粉更粗粒度的超硬磨料颗粒作为研磨介质,其强度高,相较于钢球之间只有接触点上的接触、碰撞整形,研磨介质之间的摩擦、碰撞、剪切等效应更加有效,大大提高了整形效率,有利于获得形状规则、粒度集中度较高的纳米级金刚石微粉产品。

【技术实现步骤摘要】
一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法
本专利技术属于超硬磨料领域,具体涉及一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法。
技术介绍
金刚石微粉是以人造金刚石为原料,经过破碎、整形、提纯、分级、烘干等工序加工制成,根据产品粒度大小的不同,广泛应用于切削、研磨和抛光等不同领域。由于金刚石的高硬度带来的高效率,细粒度金刚石微粉曾经是很多抛光领域企业的不二选择,但随着技术进步,特别是电子信息技术的飞速发展,对材料抛光后的表面光洁度的要求越来越高,选用的金刚石微粉越来越向超细粒度发展,如早期的电脑硬盘、磁头、存储芯片等材料抛光,开始选用金刚石微粉粒度中值粒径(D50)为0.5μm的产品,很快转变为0.2μm直至0.1μm,但随着这些领域对表面光洁度要求的提高,更细粒度的金刚石微粉应用在超精密抛光后往往伴随浅表划伤,无法满足上述产品对表面光洁度的要求,逐渐被氧化硅、氧化铝等其他材料替代,近年来快速发展的半导体、光通信和高性能陶瓷等领域也存在相同问题,细粒度金刚石只能完成前期的粗抛,最后一道的超精密抛光依然不得不选用效率较低的氧化硅、氧化铝、氧化铈等材料。超细粒度金刚石微粉之所以会造成浅表划伤本文档来自技高网...
一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法

【技术保护点】
一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将中值粒径为0.3μm以细的金刚石微粉与水混合,制备原料料浆;2)向原料料浆中加入超硬磨料颗粒作为研磨介质进行研磨整形,过滤,得到整形料浆;研磨介质的粒度大于步骤1)中金刚石微粉的粒度;3)将步骤2)所得整形料浆进行分级,即得。

【技术特征摘要】
1.一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将中值粒径为0.3μm以细的金刚石微粉与水混合,制备原料料浆;2)向原料料浆中加入超硬磨料颗粒作为研磨介质进行研磨整形,过滤,得到整形料浆;研磨介质的粒度大于步骤1)中金刚石微粉的粒度;3)将步骤2)所得整形料浆进行分级,即得。2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤1)中,金刚石微粉与水的质量比为1:(5~16)。3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤1)中,将金刚石微粉、水、助磨剂混合,配制原料料浆;其中,金刚石微粉与水的质量比为1:(5~16);助磨剂与金刚石微粉的质量比为1:(100~1000)。4.如权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述助磨剂为十二烷基苯磺酸钠、六偏磷酸钠、三乙醇胺、异丙醇、硬脂酸中的一种或多种组合...

【专利技术属性】
技术研发人员:陶刚汪静
申请(专利权)人:河南省联合磨料磨具有限公司
类型:发明
国别省市:河南,41

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