气体溶解水制造装置及制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的臭氧水制造装置(1)具备：流量控制器(4、5)，控制作为原料的气体的流量；流量计(12)，测定作为原料的水的流量；升压泵(13)，控制水的压力；臭氧水生成部(8)，将臭氧气体与水进行混合而生成臭氧水；以及压力传感器(17)，测定供给至使用点(19)的臭氧水的压力。升压泵(13)控制水的压力，使由压力传感器(17)测定的臭氧水的压力成为恒定，流量控制器(4、5)根据由流量计(12)测定的水的流量来控制气体的流量。

Apparatus for producing gas dissolved water and method for manufacturing the same

The invention of the ozone water producing device (1) includes a flow controller (4, 5), the control of raw materials as the gas flow meter; (12) as raw materials, determination of water flow; the booster pump (13), the control of water pressure; ozone water department (8), the ozone gas and water are mixed and ozone water is generated; and a pressure sensor (17), were supplied to the point of use (19) the ozone water pressure. The booster pump (13) controls the pressure of the water so that the pressure of the ozone water measured by the pressure sensor (17) becomes constant, and the flow controller (4, 5) controls the flow of the gas based on the flow of water measured by the flowmeter (12).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】气体溶解水制造装置及制造方法
本专利技术涉及一种将作为原料的气体与水进行混合来制造气体溶解水的气体溶解水制造装置。
技术介绍
近年来，半导体装置工厂、液晶等的电子组件制造工厂中的产品的清洗，是随着制造程序的复杂化、电路图案的微细化而越来越高度化。例如，将高纯度的气体或使高纯度气体与药品溶解而得的特殊液体(被称为清洗液)使用在机能水(超纯水等)，来去除附着在硅晶片的微粒、金属、有机物等。就清洗处理方式而言，除了对多个硅晶片同时反复地进行浸渍及清洗操作的“批处理方式”以外，也采用对应于多品种少量生产的产品而依每1片晶片进行药品清洗及超纯水清洗的“单片处理方式”。单片处理方式与批处理方式相比较，由于每一片晶片的清洗工序时间(产距时间)较长，且清洗液的使用量会变多，因此要求产距时间的缩短及清洗液使用量的降低。目前，为了在短时间进行有效的清洗及降低清洗液使用量，单独或同时地使用多个机能水及药品，以进行在短时间切换清洗工序的高度的清洗程序。就机能水而言，采用将臭氧气体溶解于超纯水的臭氧水。臭氧水一般由臭氧水制造装置制造。随着清洗程序的高度化及复杂化，虽要求在短时间内进行对清洗装置的臭氧水的供给及停止，但以往的装置一旦暂时停止臭氧水的制造时，则至可再次进行要求臭氧浓度及要求流量的臭氧水的供给之前需要一定的时间(启动时间)。因此，为了应对臭氧水的向清洗装置的供给要求，由臭氧水制造装置一直制造臭氧水，以对清洗装置连续地供给。结果，会供给过度的臭氧水至清洗装置，且在硅晶片的清洗中未使用的未使用臭氧水作为排水从清洗装置排出。因此，以往提出有一种循环式的臭氧水供给装置(参照专利文献1)，不论使用点的臭氧水的使用量如何，均可供给恒定浓度及恒定压力的臭氧水，且可再利用未使用的臭氧水。在以往的循环式的臭氧水供给装置中，如图4所示，将水与臭氧气体供给至臭氧溶解槽12来产生臭氧水，且将臭氧水从臭氧溶解槽12供给至循环槽21，经由臭氧水送水配管22从循环槽21供给至使用点，并经由臭氧水回流配管23使在使用点未消耗的臭氧水回流至循环槽21，再将臭氧水从循环槽21供给至使用点。并且，将臭氧溶解槽12槽内压力、循环槽21内压力、臭氧水回流配管23内压力分别维持为恒定，而循环槽内压力被控制成比臭氧溶解槽内及臭氧水回流配管内的各压力低的压力。然而，在以往的臭氧水供给装置中，由于是使再利用的臭氧水(未使用的臭氧水)循环的循环式，因此需要对臭氧水(未使用的臭氧水)的循环所造成的臭氧水的温度上升、污染的发生寻求对策。因此，期待开发一种制造与使用点所需的量对应的臭氧水的技术。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-117628号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术是鉴于上述课题而完成的。本专利技术的目的在于提供一种气体溶解水制造装置，无需对循环所造成的臭氧水的温度上升、污染的发生寻求对策，即可制造与使用点所需的量对应的臭氧水。解决课题的手段本专利技术的一方式是一种气体溶解水制造装置，该气体溶解水制造装置具备：气体流量控制部，该气体流量控制部控制作为原料的气体的流量；水流量测定部，该水流量测定部测定作为原料的水的流量；水压力控制部，该水压力控制部控制所述水的压力；气体溶解水生成部，该气体溶解水生成部将所述气体与所述水进行混合而生成气体溶解水；以及压力测定部，该压力测定部测定供给至使用点的所述气体溶解水的压力，所述水压力控制部控制所述水的压力，以使由所述压力测定部测定的所述气体溶解水的压力成为恒定，所述气体流量控制部根据由所述水流量测定部测定的所述水的流量来控制所述气体的流量。本专利技术的其他方式是一种气体溶解水制造方法，该气体溶解水制造方法包含如下工序：气体流量控制工序，该气体流量控制工序控制作为原料的气体的流量；水流量测定工序，该水流量测定工序测定作为原料的水的流量；水压力控制工序，该水压力控制工序控制所述水的压力；气体溶解水生成工序，该气体溶解水生成工序将所述气体与所述水进行混合而生成气体溶解水；以及压力测定工序，该压力测定工序测定供给至使用点的所述气体溶解水的压力，在所述水压力控制工序中，控制所述水的压力，以使在所述压力测定工序中测定的所述气体溶解水的压力成为恒定，在所述气体流量控制工序中，根据在所述水流量测定工序中测定的所述水的流量来控制所述气体的流量。如以下说明，在本专利技术中存在有其他方式。因此，本专利技术的公开旨在提供本专利技术的一部分的方式，并不旨在限制在此记载并请求的专利技术范围。附图说明图1是表示本专利技术的第一实施方式的臭氧水制造装置的结构的说明图。图2是本专利技术的第一实施方式的放电体的俯视图。图3是本专利技术的第一实施方式的放电体的剖视图。图4是表示以往的臭氧水制造装置的结构的说明图。图5是表示本专利技术的第二实施方式的臭氧水制造装置的结构的说明图。图6是本专利技术的第二实施方式的气体量反馈控制的说明图。具体实施方式以下陈述本专利技术的详细说明。然而，以下的详细说明及附图并不限定本专利技术。本专利技术的气体溶解水制造装置具备：气体流量控制部，控制作为原料的气体的流量；水流量测定部，测定作为原料的水的流量；水压力控制部，控制水的压力；气体溶解水生成部，将气体与水进行混合而生成气体溶解水；以及压力测定部，测定供给至使用点的气体溶解水的压力；水压力控制部控制水的压力，以使由压力测定部所测定的气体溶解水的压力成为恒定，气体流量控制部依据由水流量测定部所测定的水的流量来控制气体的流量。通过该构成，由于控制水的压力，以使供给至使用点的气体溶解水的压力成为恒定，并且依据供给至气体溶解水生成部的水的流量来控制气体的流量，因此，可制造与使用点所需的量对应的气体溶解水。例如，在使用点需要大量的气体溶解水时，由于供给至使用点的气体溶解水的压力会成为恒定，因此大量的水会供给至气体溶解水生成部，且依据该水的量将大量的气体供给至气体溶解水生成部。结果，制造大量的气体溶解水。再者，在使用点仅需要少量的气体溶解水时，由于供给至使用点的气体溶解水的压力成为恒定，因此少量的水被供给至气体溶解水生成部，且依据该水的量对气体溶解水生成部供给少量的气体。结果，制造少量的气体溶解水。由此，可制造与使用点所需的量对应的气体溶解水。此外，无需如以往技术般对循环所造成的气体溶解水的温度上升、污染发生寻求对策。此外，本专利技术的气体溶解水制造装置也可具备：浓度测定部，测定气体溶解水的浓度；以及控制部，依据由浓度测定部所测定的气体溶解水的浓度，来控制气体的流量，以使气体溶解水的浓度的实测值与目标值的偏差减小。通过该构成，可依据气体溶解水的浓度来控制气体的流量，且使气体溶解水的浓度的实测值与目标值的偏差减小(消除偏差)。因此，在一定期间(例如数日)未运转后再次进行运转时等，即使在气体溶解水的浓度的实测值与目标值容易产生偏差时，也可制造接近目标值的浓度的气体溶解水。再者，在本专利技术的气体溶解水制造装置中，水压力控制部也可在0.1MPa至1MPa的压力范围内控制水的压力。通过该构成，由于在升压至高压力(0.1MPa至1MPa)的状态下将水与气体进行混合，因此可制造高浓度的气体溶解水。此外，在本专利技术的气体溶解水制造装置中，气体溶解水生成部也可具备利用文丘里效应(Venturieffect)来混合气体与水的混合器。通过该构成，可利用文丘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体溶解水制造装置，其特征在于，具备：气体流量控制部，该气体流量控制部控制作为原料的气体的流量；水流量测定部，该水流量测定部测定作为原料的水的流量；水压力控制部，该水压力控制部控制所述水的压力；气体溶解水生成部，该气体溶解水生成部将所述气体与所述水进行混合而生成气体溶解水；以及压力测定部，该压力测定部测定供给至使用点的所述气体溶解水的压力，所述水压力控制部控制所述水的压力，以使由所述压力测定部测定的所述气体溶解水的压力成为恒定，所述气体流量控制部根据由所述水流量测定部测定的所述水的流量来控制所述气体的流量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.18 JP 2014-189639;2014.11.28 JP 2014-240991.一种气体溶解水制造装置，其特征在于，具备：气体流量控制部，该气体流量控制部控制作为原料的气体的流量；水流量测定部，该水流量测定部测定作为原料的水的流量；水压力控制部，该水压力控制部控制所述水的压力；气体溶解水生成部，该气体溶解水生成部将所述气体与所述水进行混合而生成气体溶解水；以及压力测定部，该压力测定部测定供给至使用点的所述气体溶解水的压力，所述水压力控制部控制所述水的压力，以使由所述压力测定部测定的所述气体溶解水的压力成为恒定，所述气体流量控制部根据由所述水流量测定部测定的所述水的流量来控制所述气体的流量。2.根据权利要求1所述的气体溶解水制造装置，其特征在于，具备：浓度测定部，该浓度测定部测定所述气体溶解水的浓度；以及控制部，该控制部依据由所述浓度测定部测定的所述气体溶解水的浓度，控制所述气体的流量，以使所述气体溶解水的浓度的实测值与目标值的偏差变小。3.根据权利要求1所述的气体溶解水制造装置，其特征在于，所述水压力控制部在0.1MPa至1MPa的压力范围内控制所述水的压力。4.根据权利要求1所述的气体溶解水制造装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：小泽卓，原田稔，高桥宗人，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP