The utility model discloses a crystal homogeneity test platform correction module, including standard crystal and crystal array test platform, the standard set in the crystal crystal array test platform, the upper part of the standard crystal array placed large lyso (LYSO) or (lutetiumoxyorthosilicate (LSO) crystal; the crystal the test platform includes M * N silicon photoelectric uniformly distributed set of photomultiplier tube formation of SiPM arrays, each of the silicon photomultiplier tube for effective detection area of mm * X mm X, each of the silicon photomultiplier tube distance between Y mm; the standard crystal array including M * N the size is X * X * mm mm H mm LYSO or LSO crystal, the crystal spacing between the Y mm, the crystal six surface polished white opaque material is filled between the crystals; the standard crystal The sides and upper surfaces of the array are wrapped in white opaque reflective material. The utility model can greatly improve the uniformity and the correction speed of the crystal test platform, thereby reducing the production cost of the crystal test platform.
【技术实现步骤摘要】
一种晶体测试平台的均一性校正模块
本专利技术涉及核辐射探测
,特别是涉及一种晶体测试平台均一性校正模块。
技术介绍
硅光电倍增管(SiliconPhotomultiplier,简称SiPM)被越来越多地应用在核辐射探测及核医学成像领域。与PMT相比,SiPM拥有工作电压低,光电探测效率高,体积小,光输出均一性好,对电磁场不敏感,价格低(单位面积价格已降低至PMT的50%以下)等诸多优点。SiPM可以设计成MxN的阵列用来进行各种不同尺寸和形式(单根晶体,晶体阵列,晶体线列等)的晶体性能测量。由于每个SiPM的信号输出特性都存在一定差异,基于SiPM阵列的晶体测试平台在出厂之前必须要进行均一性校正。
技术实现思路
专利技术目的:为了克服现有技术中存在的不足,本专利技术提供一种晶体测试平台均一性校正模块,可以一次采集获得基于SiPM阵列的晶体测试平台所有输出通道的校正系数,迅速而准确地完成晶体测试体平台的均一化校正,降低晶体测试平台生产成本。技术方案:为实现上述目的,本专利技术的技术方案如下:一种晶体测试平台均一性校正模块,包括标准晶体阵列和晶体测试平台,所述标准晶体阵列设置在晶体测试平台上,所述标准晶体阵列的上部放置大块LYSO或LSO晶体;所述晶体测试平台包括M×N个均匀分布设置的硅光电倍增管形成的SiPM阵列,每个所述硅光电倍增管的有效探测面积为Xmm×Xmm,每个所述硅光电倍增管之间的间距为Ymm;所述标准晶体阵列包括M×N个尺寸为Xmm×Xmm×Hmm的LYSO或者LSO晶体条,所述晶体条之间的间距为Ymm,所述晶体条六面均经抛光处理,所述晶体条之 ...
【技术保护点】
一种晶体测试平台的均一性校正模块,其特征在于:包括标准晶体阵列和晶体测试平台,所述标准晶体阵列设置在晶体测试平台上,所述标准晶体阵列的上部放置大块LYSO或LSO晶体;所述晶体测试平台包括M×N个均匀分布设置的硅光电倍增管形成的SiPM阵列,每个所述硅光电倍增管的有效探测面积为Xmm×Xmm,每个所述硅光电倍增管之间的间距为Ymm;所述标准晶体阵列包括M×N个尺寸为Xmm×Xmm×Hmm的LYSO或者LSO晶体条,所述晶体条之间的间距为Ymm,所述晶体条六面均经抛光处理,所述晶体条之间填充有白色不透明反光材料;所述标准晶体阵列的侧面及上表面均被白色不透明反光材料包裹。
【技术特征摘要】
1.一种晶体测试平台的均一性校正模块,其特征在于:包括标准晶体阵列和晶体测试平台,所述标准晶体阵列设置在晶体测试平台上,所述标准晶体阵列的上部放置大块LYSO或LSO晶体;所述晶体测试平台包括M×N个均匀分布设置的硅光电倍增管形成的SiPM阵列,每个所述硅光电倍增管的有效探测面积为Xmm×Xmm,每个所述硅光电倍增管之间的间距为Ymm;所述标准晶体阵列包括M×N个尺寸为Xmm×Xmm×Hmm的LYSO或者LSO晶体条,所述晶体条之间的间距为Ymm,所述晶体条六面均经抛光处理,所述晶体条之间填充有白色不透明反光材料;所述标准晶体阵列的侧面及上表面均被白色不透明反光材料包裹。2.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:屈春蕾,
申请(专利权)人:无锡通透光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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