一种适用于电子级固体氨基三亚甲基膦酸的制备工艺制造技术

一种适用于电子级固体氨基三亚甲基膦酸的制备工艺，包括：（１）前期准备，将反应釜、冷凝器及其相关设备清洗干净；（２）备料，称取液体氨基三亚甲基膦酸于反应釜中，并开动搅拌；（３）在３５～１２０℃温度下，真空脱水；（４）自然降温至４０～９０℃，加入晶种，加入晶种的量是５０～５００００ｐｐｍ；（５）缓慢搅拌，并缓慢降温，温度降至室温，降温速率为每小时２～４０℃；（６）降至室温后，静置陈化４～２０小时；（７）高速离心机离心脱水，离心速率５００～５０００ｒ／ｍｉｎ；（８）固体包装。本发明专利技术生产的固体ＡＴＭＰ活性含量在９５％以上，砷的含量在７ｐｐｍ以下。其纯度高，可作为纺织印染行业的金属螯合剂、电子行业的清洗剂、金属表面处理剂等。固体ＡＴＭＰ包装储存运输方便，浓度随意调节。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种高纯度的固体氨基三亚甲基膦酸(ATMP)的制备工艺，特别涉及一种可作为电子行业的清洗剂、金属表面处理剂等的适用于电子级固体氨基三亚甲基膦酸(ATMP)的制备工艺。
技术介绍
氨基三亚甲基膦酸(以下简称ATMP)在水中能够离解成6个正离子和含6个负电荷的离子，能与水中钙镁离子形成多元环螯合物，以松散的方式分散于水中，使钙、镁垢的正常结晶遭到破坏。所以，ATMP对水中的碳酸钙、硅酸镁、硫酸钙等具有较好的阻垢作用，一个分子的ATMP可以阻止几十个到几百个钙、镁离子与硫酸根离子等产生水垢沉淀，这是它特有的防垢性能。它具有良好的化学稳定性、不易水解，能耐较高的温度(200℃)。ATMP一般用作循环冷却水、油田注水和印染用水的防垢剂，以及锻炉系统软垢的调节剂。另外，可与多种缓冲剂、阻垢剂配合使用。与聚羧酸盐等有协同作用，可增加缓蚀阻垢效果，也可作为清洗剂，除去金属表面油脂。还可作为洗涤剂的添加剂，金属离子的掩蔽剂、无氰电镀添加剂和稀有金属萃取剂等。此外，由于ATMP较好的阻垢作用，在民用洗涤剂及化妆品行业也有一定的应用。在电子行业，ATMP由于具有较好的缓蚀效果、防垢效果以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于电子级固体氨基三亚甲基膦酸的制备工艺，其特征在于：制备工艺包括以下步骤：（１）前期准备，将反应釜、冷凝器及其它相关设备清洗干净；（２）备料，称取液体氨基三亚甲基膦酸于反应釜中，并开动搅拌；（３）在３５～１２ ０℃温度下，通过真空脱水或是在常压下升温浓缩脱去一部分水份；（４）自然降温至４０～９０℃，加入晶种，加入晶种的量是５０～５００００ｐｐｍ；自然降温至４０～９０℃，是指步骤（３）真空脱水后或是在常压下升温浓缩脱水后２０～１２０分钟后开 始降温，温度降至４０～９０℃；加入晶种是指硫酸钠、硝酸钠、氯化钠、乙酸钠、氨基三亚甲基膦...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：程终发，孙宝季，刘坤，
申请(专利权)人：山东省泰和水处理有限公司，
类型：发明
国别省市：37[中国|山东]