高分子压电膜制造技术

本发明专利技术提供一种高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为25～700，至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及高分子压电膜。
技术介绍
近年来，对螺旋手性高分子压电体的膜在传感器、促动器(actuator)等设备中的应用进行了研究。在批量生产这样的设备时，从生产率的观点考虑，使用已卷绕成卷状的长尺寸的膜或已形成为卷状体的螺旋手性高分子压电体。例如，对于不具有压电性的双轴拉伸的螺旋手性高分子膜或卷状体而言，控制表面粗糙度从而防止粘连是已知的(例如，参见文献1～3)。文献1日本特开2000-044701号公报文献2日本特开2001-059029号公报文献3日本特开2009-285865号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，本申请的专利技术人们发现，在单纯地增大高分子压电膜的表面粗糙度时，虽然由于膜之间的滑动性良好而使得防粘连性变得良好，但是高分子压电膜的外观特性却极度恶化。具体而言，本申请的专利技术人们发现，在将膜粘贴在一起时，有在粘贴的界面处由于空气的夹杂而导致外观恶化的情况。另一方面，在减小高分子压电膜的表面粗糙度的情况下，在高分子压电膜承受应力时，产生由压电特性导致的表面电荷。结果，灰尘等容易吸附于高分子压电膜上，品质有可能降低。另外，在将高分子压电膜用作例如传感器或促动器时，空气的夹杂或灰尘之类的异物不仅会导致外观恶化，而且还有可能导致传感器、促动器发生故障。本专利技术是鉴于上述课题而作出的，目的在于提供一种表面电荷的产生被抑制、且贴合后的外观优异的高分子压电膜。用于解决课题的手段用于解决课题的具体手段例如如下所述。＜1＞高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为25～700，至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜(confocallasermicroscope)测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。＜2＞如＜1＞所述的高分子压电膜，其中，相对于可见光线的内部雾度为40％以下，并且，于25℃利用应力-电荷法测得的压电常数d14为1pC/N以上。＜3＞如＜1＞或＜2＞所述的高分子压电膜，其中，相对于可见光线的内部雾度为20％以下。＜4＞如＜1＞～＜3＞中任一项所述的高分子压电膜，其中，上述标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为40～700。＜5＞如＜1＞～＜4＞中任一项所述的高分子压电膜，其中，上述螺旋手性高分子(A)为具有包含下述式(1)表示的重复单元的主链的聚乳酸系高分子。[化学式1]＜6＞如＜1＞～＜5＞中任一项所述的高分子压电膜，其中，上述螺旋手性高分子(A)的光学纯度为95.00％ee以上。＜7＞如＜1＞～＜6＞中任一项所述的高分子压电膜，其中，上述螺旋手性高分子(A)的含量为80质量％以上。＜8＞如＜1＞～＜7＞中任一项所述的高分子压电膜，其中，相对于可见光线的内部雾度为1％以下。专利技术的效果通过本专利技术，可提供表面电荷的产生被抑制、且贴合后的外观优异的高分子压电膜。具体实施方式本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。另外，本说明书中，“膜”是下述概念：不仅包括通常被称为“膜”的物品，而且还包括通常被称为“片材”的物品。[高分子压电膜]以下，对本专利技术的一个实施方式涉及的高分子压电膜进行说明。本实施方式涉及的高分子压电膜包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为25～700，至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。由于本实施方式的高分子压电膜包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为25～700，因此，取向结晶的生成性、机械强度、尺寸稳定性及透明性优异。此外，在该方式中，本实施方式的高分子压电膜可维持一定程度的高压电性。此外，通过使本实施方式的高分子压电膜的非接触三维表面粗糙度Sa为0.105μm以下，从而在贴合高分子压电膜时不会发生在贴合的表面之间夹杂空气的情况，贴合后的外观优异。此外，通过使本实施方式的高分子压电膜的非接触三维表面粗糙度Sa为0.040μm以上，从而在高分子压电膜承受应力时产生的因压电特性导致的表面电荷被抑制，结果，灰尘等在表面上的附着被抑制，可维持高品质。＜非接触三维表面粗糙度Sa＞本实施方式的高分子压电膜的至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。由此，在将高分子压电膜与其他构件(例如，OCA；OpticalClearAdhesive，光学透明粘合剂)贴合在一起时，大体积的空气夹杂被抑制，外观优异。作为本实施方式的高分子压电膜的非接触三维表面粗糙度Sa，优选为0.040μm～0.102μm，更优选为0.040μm～0.100μm，进一步优选为0.042μm～0.098μm，特别优选为0.045μm～0.095μm。非接触三维表面粗糙度Sa可按照以下方式计算。使用溅射装置(ULVAC公司制J-1000)，在本实施方式的高分子压电膜的测定面上溅射铂，然后，使用激光共聚焦显微镜(OlympusCorporation制LEXTOLS4000，物镜×20)，由645μm×644μm的面积内的图像解析的结果，按照ISO25178计算出非接触三维表面粗糙度Sa。具体而言，在膜测定面内的3个点处实施上述测定，将进行平均而得到的值作为非接触三维表面粗糙度Sa。此处，膜测定面是指主面，另外，在制作高分子压电膜时与辊等构件接触的面、进行粗糙化处理或平滑化处理等表面处理的面、高分子压电膜的形成有硬涂层的面等即属于膜测定面。在高分子压电膜的一面上形成硬涂层时，该面成为膜测定面，在高分子压电膜的两面上形成硬涂层时，将哪一面作为膜测定面均可。对于本实施方式的高分子压电膜而言，优选两个主面中的、非接触三维表面粗糙度Sa大的面的Sa为0.040μm～0.105μm。由此，在将高分子压电膜与其他构件(例如，OCA；OpticalClearAdhesive，光学透明粘合剂)贴合在一起时，大体积的空气夹杂被抑制，外观更优异。需要说明的是，对于非接触三维表面粗糙度Sa小的面而言，表面粗糙度没有特别限制，通过使非接触三维表面粗糙度Sa大的面的Sa为0.040μm～0.105μm，从而可适宜地抑制粘连，贴合后的外观优异。测定表面粗糙度的方法除了包括本实施方式的非接触式之外，还包括接触式。在接触式中需要与试样接触，有可能在被测定物表面上产生污染、损伤，而在非接触式中可抑制这样的被测定物表面的污染、损伤，因而优选。另外，包含螺旋手性高分子的高分子压电膜的表面硬度低，因此，通过采用非接触式，能够进行更正确的评价。非接触三维表面粗糙度Sa例如可通过下述方式进行控制本文档来自技高网...

【技术保护点】
高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与所述结晶度的乘积为25～700，至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.22 JP 2014-1696711.高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与所述结晶度的乘积为25～700，至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。2.如权利要求1所述的高分子压电膜，其中，相对于可见光线的内部雾度为40％以下，并且，于25℃利用应力-电荷法测得的压电常数d14为1pC/N以上。3.如权利要求1或2...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷本一洋，佐藤圭祐，北河敏久，尾崎胜敏，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP