阵列基板及其制作方法、显示面板技术

本发明专利技术提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，属于显示技术领域。所述阵列基板的像素区域包括多个周期性间隔排列的滤光图形，所述滤光图形用于形成彩色滤光层，其中，不同颜色的亚像素区域对应的滤光图形的排列周期不同。本发明专利技术的技术方案能够简化液晶显示器的制作工艺，降低液晶显示器的成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，特别是指一种阵列基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。彩色滤光片是液晶显示器中的重要组件，在液晶显示器中，背光模组发射的光经过彩色滤光片的处理，而呈现出彩色的画面。现有的液晶显示器多采用传统的有机颜料或者染料来制作彩色滤光片，制作彩色滤光片的方法通常是：首先在透明基板上制作黑色矩阵形成间隔；然后再分别制作红色滤色单元、绿色滤色单元和蓝色滤色单元，制作工艺复杂，导致液晶显示器的成本较高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，能够简化液晶显示器的制作工艺，降低液晶显示器的成本。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板的像素区域包括多个周期性间隔排列的滤光图形，所述滤光图形用于形成彩色滤光层，其中，不同颜色的亚像素区域对应的滤光图形的排列周期不同。进一步地，所述滤光图形在所述阵列基板的亚像素区域内成矩阵排列。进一步地，所述阵列基板上形成有多个不同颜色的亚像素区域，不同颜色亚像素区域的滤光图形的排列周期和尺寸不同；亚像素区域对应颜色的波长越长，滤光图形的尺寸越大；亚像素区域对应颜色的波长越长，滤光图形的排列周期越宽。进一步地，所述滤光图形为圆形、椭圆形、正方形或正多边形，所述滤光图形的排列周期为所述滤光图形上两点之间的最大距离与相邻两滤光图形之间的间距的和。进一步地，所述阵列基板上形成有红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域，在所述滤光图形为圆形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的直径范围为165-185nm，周期范围为340-360nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的直径范围为110-130nm，周期范围为230-250nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的直径范围为95-115nm，周期范围为200-220nm；在所述滤光图形为正方形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为165-185nm，周期范围为340-360nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为110-130nm，周期范围为230-250nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为95-115nm，周期范围为200-220nm。进一步地，在所述滤光图形为圆形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的直径为175nm，周期为350nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的直径为120nm，周期为240nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的直径为105nm，周期为210nm；在所述滤光图形为正方形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的宽度为175nm，周期为350nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的宽度为120nm，周期为240nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的宽度为105nm，周期为210nm。进一步地，所述滤光图形为长方形，所述滤光图形在所述阵列基板的亚像素区域内成行排列或成列排列。进一步地，所述阵列基板上形成有多个不同颜色的亚像素区域，不同颜色亚像素区域的滤光图形的排列周期和宽度不同；亚像素区域对应颜色的波长越长，滤光图形的宽度越宽；亚像素区域对应颜色的波长越长，滤光图形的周期越宽，其中，所述滤光图形的周期为相邻两滤光图形相对距离最近的两侧边之间的距离与其中一个滤光图形的宽度之和。进一步地，所述阵列基板上形成有红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域，所述红色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为165-185nm，周期范围为340-360nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为110-130nm，周期范围为230-250nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为95-115nm，周期范围为200-220nm。进一步地，所述红色亚像素区域的滤光图形的宽度为175nm，周期为350nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的宽度为120nm，周期为240nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的宽度为105nm，周期为210nm。进一步地，所述阵列基板上还形成有多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的有源层与所述彩色滤光层为同层同材料设置。进一步地，所述有源层和所述滤光图形采用多晶硅材料制备。进一步地，所述阵列基板具体包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的遮光层；缓冲层；位于所述缓冲层上的所述有源层和所述滤光图形；栅绝缘层；位于所述栅绝缘层上的栅极；层间绝缘层；位于所述层间绝缘层上的源极和漏极，所述源极和漏极通过贯穿所述栅绝缘层和层间绝缘层的过孔分别与所述有源层连接；钝化层；位于所述钝化层上的像素电极，所述像素电极通过贯穿所述钝化层的过孔与所述漏极连接。本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括如上所述的阵列基板。本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，所述制作方法包括：在所述阵列基板的像素区域形成多个周期性排列的滤光图形，所述滤光图形用于形成彩色滤光层，其中，不同颜色的亚像素区域对应的滤光图形的排列周期不同。进一步地，所述阵列基板上还形成有多个薄膜晶体管，形成所述滤光图形包括：通过一次构图工艺同时形成所述滤光图形和所述薄膜晶体管的有源层的图形。进一步地，形成所述有源层的图形和所述滤光图形包括：在基板上沉积缓冲层；在所述缓冲层上沉积非晶硅层，并对所述非晶硅层进行退火或离子处理形成多晶硅层；对所述多晶硅层进行构图形成所述有源层的图形和所述滤光图形。进一步地，形成所述有源层的图形和所述滤光图形之后，所述方法还包括：形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成栅极；形成层间绝缘层；在所述层间绝缘层上形成源极和漏极，所述源极和漏极通过贯穿所述栅绝缘层和层间绝缘层的过孔分别与所述有源层连接；形成钝化层；在所述钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过贯穿所述钝化层的过孔与所述漏极连接。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，周期性排列的滤光图形能够对光线进行滤光，通过设计不同周期和间隔的滤光图形能够过滤出不同的颜色，本专利技术的技术方案不用再通过多个制作工艺来分别制备不同颜色的彩色滤光层，能够简化液晶显示器的制作工艺，降低液晶显示器的成本；同时相比现有的彩色滤光层，能够有效提高滤光效率。附图说明图1为现有反射式液晶显示面板的结构示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的像素区域包括多个周期性间隔排列的滤光图形，所述滤光图形用于形成彩色滤光层，其中，不同颜色的亚像素区域对应的滤光图形的排列周期不同。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的像素区域包括多个周期性间隔排列的
滤光图形，所述滤光图形用于形成彩色滤光层，其中，不同颜色的亚像素区域对应的滤光图
形的排列周期不同。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光图形在所述阵列基板的亚像
素区域内成矩阵排列。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上形成有多个不同颜色
的亚像素区域，不同颜色亚像素区域的滤光图形的排列周期和尺寸不同；亚像素区域对应
颜色的波长越长，滤光图形的尺寸越大；亚像素区域对应颜色的波长越长，滤光图形的排列
周期越宽。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光图形为圆形、椭圆形、正方形
或正多边形，所述滤光图形的排列周期为所述滤光图形上两点之间的最大距离与相邻两滤
光图形之间的间距的和。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上形成有红色亚像素区
域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域，
在所述滤光图形为圆形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的直径范围为165-185nm，
周期范围为340-360nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的直径范围为110-130nm，周期范
围为230-250nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的直径范围为95-115nm，周期范围为200-
220nm；
在所述滤光图形为正方形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为165-
185nm，周期范围为340-360nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为110-130nm，
周期范围为230-250nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的宽度范围为95-115nm，周期范围
为200-220nm。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，
在所述滤光图形为圆形时，所述红色亚像素区域的滤光图形的直径为175nm，周期为
350nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的直径为120nm，周期为240nm；所述蓝色亚像素区
域的滤光图形的直径为105nm，周期为210nm；在所述滤光图形为正方形时，所述红色亚像素
区域的滤光图形的宽度为175nm，周期为350nm；所述绿色亚像素区域的滤光图形的宽度为
120nm，周期为240nm；所述蓝色亚像素区域的滤光图形的宽度为105nm，周期为210nm。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光图形为长方形，所述滤光图
形在所述阵列基板的亚像素区域内成行排列或成列排列。
8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上形成有多个不同颜色
的亚像素区域，不同颜色亚像素区域的滤光图形的排列周期和宽度不同；亚像素区域对应
颜色的波长越长，滤光图形的宽度越宽；亚像素区域对应颜色的波长越长，滤光图形的周期
越宽，其中，所述滤光图形的周期为相邻两滤光图形相对距离最近的两侧边之间的距离与
其中一个滤光图形的宽度之和。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上形...

【专利技术属性】
技术研发人员：张锋，刘震，刘静，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11