一种COA基板及其制作方法技术

技术编号:15103447 阅读:43 留言:0更新日期:2017-04-08 13:44
本发明专利技术提供了一种COA基板,包括衬底基板,以及依次设置在衬底基板上的栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极、第一钝化层、色阻层、第二钝化层、以及透明导电层,其中所述色阻层设置有贯通的第一过孔,以使所述第一钝化层暴露,所述第二钝化层设置在所述色阻层上和所述第一过孔内,且所述第一过孔内设有贯通所述第二钝化层和所述第一钝化层的第二过孔,以使所述源极和漏极暴露,所述第一过孔和第二过孔内设置导电填充层。本发明专利技术通过设置导电填充层填充过孔,使接触过孔内部填满导电填充材料,增大了像素开口率,降低了出现气泡不良的风险,同时防止了像素电极爬坡断线,提高了液晶面板的显示品质。本发明专利技术还提供了该COA基板的制作方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
,特别是涉及一种COA基板及其制作方法
技术介绍
TFT-LCD,薄膜晶体管液晶显示器由于具有体积小、功耗低、无辐射等特点而备受关注,在平板显示领域中占据了主导地位,被广泛地应用到各行各业中。该液晶显示器通常由彩膜基板和阵列基板对盒而成,其R、G、B色阻位于彩膜基板上。而COA(ColorFilteronArray)基板是一种将彩膜基板制作于阵列基板上的结构,该结构可有效地减少由于对盒偏差导致的漏光问题,并且降低信号线与像素电极间的耦合电容,从而有效地提高像素开口率。因此,目前在液晶显示领域被广泛应用。然而现有的COA基板结构中,由于彩色滤光片(ColorFilter)较厚,通常会有几个微米的厚度,这就使得联通信号线与像素电极的接触过孔需要做很大才能保证有效接触。由于接触过孔的坡脚距离较大,且过孔较深,所以在制造过程中容易隐藏多余的气体,使得在后期液晶面板中出现气泡(Bubble)不良。而且在过孔位置处,液晶分子会出现不规则排列,而导致漏光现象。通常为了避免漏光现象,会增加此处的遮挡而使得开口率下降。同时,由于过孔坡度较大,将可能引起像素电极的爬坡断线,导致像素电极无法充电,进而影响液晶面板的显示品质。因此,有必要提供一种新型的COA基板及其制作方法以解决上述方面的不足。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种COA基板及其制作方法,以解决现有COA基>板由于接触过孔过大、过深引起的气泡不良,像素开口率下降,像素电极爬坡断线等问题。为解决上述问题,本专利技术第一方面提供了一种COA基板,包括:衬底基板;栅极,设于所述衬底基板上;栅绝缘层,设于所述栅极和所述衬底基板上,覆盖所述衬底基板和所述栅极;有源层,位于所述栅极上方设于所述栅绝缘层上,用于形成沟道;源极和漏极,设于所述栅绝缘层上并分别与所述有源层的两端相接触;第一钝化层,覆盖所述源极、漏极、所述栅绝缘层以及所述有源层;色阻层,设于所述第一钝化层上,所述色阻层设置有贯通的第一过孔,以使所述第一钝化层暴露;第二钝化层,设于所述色阻层上和所述第一过孔内,所述第一过孔内设有贯通所述第二钝化层和所述第一钝化层的第二过孔,以使所述源极和漏极暴露;导电填充层,所述导电填充层充满所述第一过孔和所述第二过孔,所述导电填充层的导电填充材料包括有机导电材料;以及透明导电层,设于所述第二钝化层及所述导电填充层上。在本专利技术COA基板中,所述有机导电材料为聚对苯(PPP)、聚吡咯(PPY)、聚噻吩(PTH)、聚苯基乙炔(PPV)、聚苯胺(PANI)中的一种或多种。在本专利技术COA基板中,所述导电填充层通过采用喷墨打印的方法获得。在本专利技术COA基板中,所述导电填充层通过涂覆所述有机导电材料,再涂覆光刻胶,然后经光刻工艺获得。在本专利技术COA基板中,所述导电填充层的表面与所述第二钝化层的表面齐平。本专利技术第二方面提供了一种COA基板的制作方法,包括以下步骤:提供衬底基板,在所述衬底基板上形成栅极;在所述栅极及未被所述栅极覆盖的衬底基板上形成栅绝缘层;在所述栅极上方所述栅绝缘层上形成有源层;在所述栅绝缘层上形成分别与所述有源层的两端相接触的源极和漏极;在所述源极和漏极上形成覆盖所述源极、漏极、所述栅绝缘层以及所述有源层的第一钝化层;在所述第一钝化层上形成色阻层,所述色阻层设置有贯通的第一过孔,以使所述第一钝化层暴露;在所述色阻层上和所述第一过孔内形成第二钝化层,所述第一过孔内设有贯通所述第二钝化层和所述第一钝化层的第二过孔,以使所述源极和漏极暴露;在所述第一过孔和所述第二过孔内填充导电填充材料形成导电填充层,所述导电填充层的导电填充材料包括有机导电材料;在所述第二钝化层及所述导电填充层上形成透明导电层,再将所述透明导电层进行图案化处理形成像素电极。在本专利技术COA基板的制作方法中,所述有机导电材料为聚对苯(PPP)、聚吡咯(PPY)、聚噻吩(PTH)、聚苯基乙炔(PPV)、聚苯胺(PANI)中的一种或多种。在本专利技术COA基板的制作方法中,所述在所述第一过孔和所述第二过孔内填充导电填充材料形成导电填充层的具体操作为:采用喷墨打印的方法将所述有机导电材料填充在所述第一过孔和所述第二过孔内。在本专利技术COA基板的制作方法中,所述在所述第一过孔和所述第二过孔内填充导电填充材料形成导电填充层的具体操作为:在所述第一过孔和所述第二过孔内涂覆所述有机导电材料,再涂覆光刻胶,然后经光刻工艺获得。在本专利技术COA基板的制作方法中,在填充导电填充材料之后,对所述导电填充层进行平坦化处理,以使所述导电填充层的表面与所述第二钝化层的表面齐平。本专利技术的有益效果:本专利技术通过利用导电填充材料填充过孔的方法,使接触过孔内部填满导电填充材料,减小了地形断差,防止液晶倒向错乱,进一步增大像素开口率;更重要的是,减小了接触过孔内藏匿气体的可能,降低了后期出现Bubble不良的风险;同时,也防止了像素电极爬坡断线的问题,提高了液晶面板的显示品质。本专利技术实施例的优点将会在下面的说明书中部分阐明,一部分根据说明书是显而易见的,或者可以通过本专利技术实施例的实施而获知。附图说明图1为现有技术的COA基板的结构示意图;图2为本专利技术COA基板的结构示意图;图3为本专利技术COA基板的制作方法流程图。具体实施方式以下所述是本专利技术实施例的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术实施例原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本专利技术实施例的保护范围。请参阅图1,图1为现有技术的COA基板的结构示意图。如图1所示,现有技术的COA基板包括衬底基板11、栅极12、栅绝缘层13、有源层14、源极和漏极15、第一钝化层16、色阻层17、第二钝化层18、以及透明导电层19。请参阅图2,图2为本专利技术COA基板的结构示意图。如图2所示,本专利技术COA基板包括衬底基板21、栅极22、栅绝缘层23、有源层24、源极和漏极25、第一钝化层26、色阻层27、第二钝化层28、导电填充层29、以及透明导电层30。所述栅极22,设于所述衬底基板21上;所述栅绝缘层23,设于所述栅极22和衬底基板21上,覆盖所述衬底基板21和栅极22;所述有源层24,位于所述栅极22上方设于所述栅绝缘层23上,用于形成沟道;所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种COA基板,其特征在于,包括:衬底基板;栅极,设于所述衬底基板上;栅绝缘层,设于所述栅极和所述衬底基板上,覆盖所述衬底基板和所述栅极;有源层,位于所述栅极上方设于所述栅绝缘层上,用于形成沟道;源极和漏极,设于所述栅绝缘层上并分别与所述有源层的两端相接触;第一钝化层,覆盖所述源极、漏极、所述栅绝缘层以及所述有源层;色阻层,设于所述第一钝化层上,所述色阻层设置有贯通的第一过孔,以使所述第一钝化层暴露;第二钝化层,设于所述色阻层上和所述第一过孔内,所述第一过孔内设有贯通所述第二钝化层和所述第一钝化层的第二过孔,以使所述源极和漏极暴露;导电填充层,所述导电填充层充满所述第一过孔和所述第二过孔,所述导电填充层的导电填充材料包括有机导电材料;以及透明导电层,设于所述第二钝化层及所述导电填充层上。

【技术特征摘要】
1.一种COA基板,其特征在于,包括:
衬底基板;
栅极,设于所述衬底基板上;
栅绝缘层,设于所述栅极和所述衬底基板上,覆盖所述衬底基板和所述栅
极;
有源层,位于所述栅极上方设于所述栅绝缘层上,用于形成沟道;
源极和漏极,设于所述栅绝缘层上并分别与所述有源层的两端相接触;
第一钝化层,覆盖所述源极、漏极、所述栅绝缘层以及所述有源层;
色阻层,设于所述第一钝化层上,所述色阻层设置有贯通的第一过孔,以
使所述第一钝化层暴露;
第二钝化层,设于所述色阻层上和所述第一过孔内,所述第一过孔内设有
贯通所述第二钝化层和所述第一钝化层的第二过孔,以使所述源极和漏极暴露;
导电填充层,所述导电填充层充满所述第一过孔和所述第二过孔,所述导
电填充层的导电填充材料包括有机导电材料;
以及透明导电层,设于所述第二钝化层及所述导电填充层上。
2.如权利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述有机导电材料为聚
对苯、聚吡咯、聚噻吩、聚苯基乙炔和聚苯胺中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述导电填充层通过采
用喷墨打印的方法获得。
4.如权利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述导电填充层通过涂
覆所述有机导电材料,再涂覆光刻胶,然后经光刻工艺获得。
5.如权利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述导电填充层的表面
与所述第二钝化层的表面齐平。
6.一种COA基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供衬底基板,在所述衬底基板上形成栅极;
在所述栅极及未被所述栅极覆盖的衬底基板上形成栅绝缘层;
在所述栅极上方所述栅绝缘...

【专利技术属性】
技术研发人员:曾勉
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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