【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请案本申请案主张2013年9月10日申请的标题为“具有改进稳定性的CWDUV激光(CWDUVLaserWithImprovedStability)“的美国临时专利申请案61/876,201的优先权。
本专利技术涉及低噪声、高稳定性、深紫外光(DUV)的连续波(CW)激光以及包含此类激光的检验及度量系统。
技术介绍
半导体检验及度量需要非常稳定、低噪声的光源以检测小缺陷及/或进行小尺寸的非常精确测量。UV光源是重要的，因为较短波长通常对小缺陷或尺寸的更敏感。低噪声、高稳定性激光当前可用于可见及近红外(IR)的波长。然而，存在非常少的CW激光可用于DUV的波长。即使在可用时，此类激光也是昂贵且有噪声的、具有较差长期稳定性且可能需要频繁调整及/或维护。此外，此类激光通常具有小于250mW的功率，而大多数工业应用需要较高功率，因为其实现更快且更精确的检验及测量。已知DUVCW激光通常通过产生IR基频激光的四次谐波而操作。通常使用两个频率转换级，其中第一级从基频产生...
【技术保护点】
一种用于产生深紫外光DUV的连续波CW光的激光，所述激光包括：二次谐波产生器，其用于将具有基波长的光转换为具有二次谐波波长的光；及四次谐波产生器，其用于将具有所述二次谐波波长的所述光转换为具有四次谐波波长的光，所述四次谐波产生器包含：多个镜；第一非线性光学NLO晶体，其用于产生具有所述四次谐波波长的所述光，所述第一NLO晶体与所述多个镜成操作关系；及第二NLO晶体，其与所述第一NLO晶体成操作关系，使得具有所述二次谐波波长的所述光穿过所述第一NLO晶体及所述第二NLO晶体两者，所述第二NLO晶体的第二光学轴围绕所述第二NLO晶体内具有所述二次谐波波长的所述光的传播方向相对于...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.09.10 US 61/876,201;2013.11.14 US 14/080,7461.一种用于产生深紫外光DUV的连续波CW光的激光，所述激光包括：
二次谐波产生器，其用于将具有基波长的光转换为具有二次谐波波长的光；及
四次谐波产生器，其用于将具有所述二次谐波波长的所述光转换为具有四次谐波
波长的光，所述四次谐波产生器包含：
多个镜；
第一非线性光学NLO晶体，其用于产生具有所述四次谐波波长的所述光，所
述第一NLO晶体与所述多个镜成操作关系；及
第二NLO晶体，其与所述第一NLO晶体成操作关系，使得具有所述二次谐波
波长的所述光穿过所述第一NLO晶体及所述第二NLO晶体两者，所述第二NLO
晶体的第二光学轴围绕所述第二NLO晶体内具有所述二次谐波波长的所述光的
传播方向相对于所述第一NLO晶体的第一光学轴旋转约90度，所述第二NLO
晶体不提供波长转换。
2.根据权利要求1所述的激光，其中所述第一NLO晶体及所述第二NLO晶体中的每
一者经氢退火。
3.根据权利要求1所述的激光，其中所述第一NLO晶体及所述第二NLO晶体中的每
一者包括经氢退火的CLBO(硼酸铯锂)晶体。
4.根据权利要求1所述的激光，其中具有所述二次谐波的所述光被聚焦到所述第一
NLO晶体中或接近于所述第一NLO晶体的大体上椭圆光束腰，其中椭圆的长轴大
体上平行于第一e轴。
5.根据权利要求1所述的激光，其中所述第一NLO晶体及所述第二NLO晶体的温度
经控制以减少所述第一NLO晶体中由其中的聚焦光束产生的像散。
6.根据权利要求1所述的激光，其中至少所述第一NLO晶体的温度经控制以减少所
述第一NLO晶体中由其中的聚焦光束产生的像散。
7.根据权利要求6所述的激光，其中受控温度是约50℃或更低。
8.根据权利要求1所述的激光，所述四次谐波产生器进一步包含具有平行表面的一对
薄板，所述对薄板以大体上相等且相反的角度倾斜以便最小化在补偿像散时光束的
任何位移。
9.根据权利要求1所述的激光，所述四次谐波产生器进一步包含反馈控制回路，所述
反馈控制回路自动调整像散补偿以便大体上消除由所述第一NLO晶体引入的像
散。
10.一种用于检验晶片、主光罩或光掩模的系统，所述系统包括：
深紫外光DUV的连续波CW激光，其包含：
二次谐波产生器，其用于将具有基波长的光转换为具有二次谐波波长的光；及
四次谐波产生器，其用于将具有所述二次谐波波长的所述光转换为具有四次谐
波波长的光，所述四次谐波产生...
【专利技术属性】
技术研发人员：勇霍·亚历克斯·庄，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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