一种Low-E玻璃的生产新工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种Low-E玻璃的生产新工艺，其特征在于：其工艺流程为：1.上片；2.清洗；3.检测；4.镀膜；5.在线光度计测颜色；6.后清洗；7.在线外观检测；8.下片；9.成品包装，步骤4中的镀膜在磁控溅射镀膜室内完成，包括金属氧化层沉积和功能层沉积。本发明专利技术的有益效果是：增加了SST及Cu层，与电离子进行化学反应，形成新的功能膜；通过SST及Cu层的加入使功能膜的低辐射性能提高，同时，新的功能膜层的加入更好的保护了Ag层，提高了膜层的耐腐蚀性和耐磨性。

【技术实现步骤摘要】

：本专利技术涉及一种Low-E玻璃的生产新工艺，属于玻璃加工

技术介绍
：Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。透过玻璃的热量是双向的，热量即能由室内传递到室外，反之亦然，并且是同时进行的，只是传递热量差的问题。在冬天的时候，室内的温度比室外高，要求保温。夏天室内温度比室外的低，要求玻璃能隔热，就是室外热量尽量少的传递到室内。Low-E玻璃能够实现冬天和夏天的要求，既能保温又能隔热，起到环保低碳的效果。我国是一个能源相对匮乏的国度，能源的人均占有量很低，而建筑能耗已经占全国总能耗的27.5％左右。因此，大力开发Low-E玻璃的生产技术并推广其应用领域，必将带来显著的社会效益和经济效益。目前，有两种Low-E玻璃生产方法，一种是在线高温热解沉积法，另一种是离线真空溅射法。在线高温热解沉积法生产的玻璃可以热弯，钢化，不必在中空状态下使用，可以长期储存。但是热学性能比较差，除非膜层非常厚，否则其\u\值只是溅射法\Low-E\镀膜玻璃的一半。如果想通过增加膜厚来改善其热学性能，那么其透明性就非常差。离线真空溅射法生产的\Low-E\玻璃可有多种配置，但是它的缺点是氧化银膜层非常脆弱，所以它不可能象普通玻璃一样使用。它必须要做成中空玻璃，且在未做成中空产品以前，也不适宜长途运输。国产和绝大部分进口磁控溅射镀膜生产线的目标产品均是以镀制单质膜和金属膜为主的阳光控制膜玻璃。这类产品工艺相对简单，对设备的要求较低。因此，这些生产线不能满足镀制LOW-E玻璃的要求。
技术实现思路
：本专利技术的目的是提供一种绝热性能好，产品稳定性高的Low-E玻璃的生产新工艺。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案为：一种Low-E玻璃的生产新工艺，其工艺流程为：1.上片；2.清洗；3.检测；4.镀膜；5.在线光度计测颜色；6.后清洗；7.在线外观检测；8.下片；9.成品包装。所述步骤2中的清洗包括先抛光，再用自来水清洗，然后用纯水清洗。所述步骤3中的检测包括基片外观缺陷的检测和洁净度的检测。所述步骤4中的镀膜在磁控溅射镀膜室内完成，包括金属氧化层沉积和功能层沉积。进一步的，所述金属氧化层沉积在磁控溅射镀膜室内完成，真空镀膜室内的气压恒定为2.0×10-1Pa，温度控制在80℃，经过阴极靶与电离子的反应，在基片上沉积一层金属氧化膜，用于干涉作用，反应的时间为10分钟。进一步的，所述功能层沉积在磁控溅射镀膜室内完成，在金属氧化层沉积完成后，温度调至70℃，气压恒定为2.0×10-1Pa，反应的时间为12分钟，在金属氧化层上面沉积一层SST膜层和Cu膜层，减少所有单色和木纹色膜对红外线的吸热，降低型材内外面温度差，减少能耗，提高型材结构的稳定性，减少型材变形，减少对窗膜耐侯性能的负面影响，延长胶粘结的老化时间。本专利技术的有益效果是：增加了SST及Cu层，与电离子进行化学反应，形成新的功能膜；通过SST及Cu层的加入使功能膜的低辐射性能提高，同时，新的功能膜层的加入更好的保护了Ag层，提高了膜层的耐腐蚀性和耐磨性。具体实施方式：为进一步阐明本方面，下面结合具体实施例来描述本专利技术的优选实施方案，这些描述只是为了进一步说明本专利技术的优点，而不是对本专利技术权利要求的限制。一种Low-E玻璃的生产新工艺，其工艺流程为：1.上片；2.清洗；3.检测；4.镀膜；5.在线光度计测颜色；6.后清洗；7.在线外观检测；8.下片；9.成品包装。将待镀膜的玻璃基片送入2.0×10-1Pa数量级的真空环境中，通入适量的工艺气体如：惰性气体Ar或反应气体O2、N2，并保持真空度稳定；将靶材Ag、SST、Cu依次嵌入阴极，并在与阴极垂直的方向置入磁场从而构成磁控靶；以磁控靶为阴极，加上直流或交流电源，在高电压的作用下，工艺气体发生电离，形成等离子体，电子在电场和磁场的共同作用下，进行高速螺旋运动，碰撞气体分子，产生更多的正离子和电子；正离子在电场的作用下，达一定的能量后撞击阴极靶材，被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜。为了形成均匀一致的膜层，阴极靶靠近玻璃基片表面来回移动。镀膜在磁控溅射镀膜室内完成，包括金属氧化层沉积和功能层沉积。金属氧化层沉积在磁控溅射镀膜室内完成，真空镀膜室内的气压恒定为2.0×10-1Pa，温度控制在80℃，经过阴极靶与电离子的反应，在基片上沉积一层金属Ag的氧化膜，反应的时间为10分钟。功能层沉积在磁控溅射镀膜室内完成，在金属氧化层沉积完成后，温度调至70℃，气压恒定为2.0×10-1Pa，反应的时间为12分钟，在金属氧化层上面沉积一层SST膜层和Cu膜层，减少所有单色和木纹色膜对红外线的吸热，降低型材内外面温度差，减少能耗，提高型材结构的稳定性，减少型材变形，减少对窗膜耐侯性能的负面影响，延长胶粘结的老化时间。本专利技术的优点是：1、新工艺下的产品，增加了新的功能层，进一步提高了Low-E玻璃的性能，达到节能的目的。2、新工艺下的产品，在耐磨性和耐腐蚀性上都得到了大幅提高，使Low-E玻璃的保存时间得以延长。3、新工艺操作性上更加简化，，其产品的稳定性、成品率大为提高。4、SST膜、Cu膜的加入使Low-E玻璃的传热系数更低。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种Low‑E玻璃的生产新工艺，其特征在于：其工艺流程为：1.上片；2.清洗；3.检测；4.镀膜；5.在线光度计测颜色；6.后清洗；7.在线外观检测；8.下片；9.成品包装，步骤4中的镀膜在磁控溅射镀膜室内完成，包括金属氧化层沉积和功能层沉积。

【技术特征摘要】
1.一种Low-E玻璃的生产新工艺，其特征在于：其工艺流程为：1.上片；2.清洗；3.检测；4.镀膜；5.在线光度计测颜色；6.后清洗；7.在线外观检测；8.下片；9.成品包装，步骤4中的镀膜在磁控溅射镀膜室内完成，包括金属氧化层沉积和功能层沉积。2.根据权利要求1所述的Low-E玻璃的生产新工艺，其特征在于：所述金属氧化层沉积在磁控溅射镀膜室内完成，真空镀膜室内的气...

【专利技术属性】
技术研发人员：王加田，
申请(专利权)人：枣庄市榴园磁控玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37