一种新型上釉装置制造方法及图纸

技术编号:1487989 阅读:188 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种用在瓷砖凹版辊筒印花机的新型上釉装置。本实用新型专利技术包括上釉系统及胶辊,上釉系统固定在胶辊上方;所述的上釉系统为两套。与现有技术相比,本实用新型专利技术装置的有益效果在于:本实用新型专利技术增加了一套上釉系统,并增加胶辊表面与刮刀片之间釉料的填充次数,从而提高印花质量,减小色差。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用在瓷砖凹版辊筒印花机的新型上釉装置
技术介绍
目前瓷砖凹版辊筒印花机的上釉装置采用单组系统,其上釉过程 为带有用凹坑表征图案的胶辊旋转,在其上方固定有单组的上釉装 置。上釉装置上的刮刀片将釉料填充到旋转的胶辊表面的凹坑内,在 胶辊与瓷砖表面接触时,胶辊表面凹坑内的釉料转移到瓷砖的表面 上。存在以下缺陷1. 胶辊表面凹坑内一次填充的釉料量与二次(或多次)填充的 釉料量相比, 一次填充的釉料量明显较少,造成转移到瓷砖表面的釉 料量不同,造成色差。2. 为了让填充到胶辊表面凹坑内的釉料量一致,只有在每印完 一片瓷砖后,胶辊旋转二次(或多次)填充釉料。然后才能印下一片 瓷砖,造成产量低。
技术实现思路
本技术装置的目的在于克服现有技术存在的不足之处,提供 一种用于改进凹版胶辊印花机的新型上釉装置。本技术可改良生 产大规格瓷砖与生产效率提高时出现色差的弊端。为达到上述目的,本技术采取了如下的技术方案-一种新型上釉装置,包括及上釉系统及胶辊,上釉系统固定在胶辊上方;所述的上釉系统为两套。上述技术方案中,所述的上釉系统由施釉装置及上釉装置构成,上釉装置固定在胶辊上方,施釉装置则固定在上釉装置上。作为上述技术方案的改进,在上釉装置上装有釉料。作为上述技术方案的改进,在上釉装置的底端设有刮刀片。与现有技术相比,本技术装置的有益效果在于本技术增加了一套上釉系统,并增加胶辊表面与刮刀片之间釉料的填充次数,从而提高印花质量,减小色差。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合说明书附图来对本技术作进一步的描述,但本实用 新型所要求保护的范围并不局限于实施方式所描述之范围。如图l所示图中施釉装置l,上釉装置2,胶辊3,施釉装置4,上釉装置5,釉料6,刮刀片7,瓷砖8,传动皮带9。一种新型上釉装置,包括及上釉系统及胶辊,上釉系统固定在胶 辊上方;所述的上釉系统为两套。上述技术方案中,所述的上釉系统由施釉装置及上釉装置构成, 上釉装置固定在胶辊上方,施釉装置则固定在上釉装置上。作为上述技术方案的改进,在上釉装置上装有釉料。作为上述技术方案的改进,在上釉装置的底端设有刮刀片。本技术的工作原理如下瓷砖8由传动皮带9输送到胶辊3的正下方,经胶辊3的转动与 传动皮带9的走动同一线速度来实现印花。再经施釉装置l、施釉装 置4分别将釉料施加到胶辊3与上釉装置2、上釉装置5之间,通过 胶辊3的转动来实现多次填充,如此循环。如图1所示胶辊3上的弧CA刚同瓷砖8印花,胶辊3上的弧 CA釉料已移印到瓷砖8的表面上,由胶辊3的旋转将弧CA经2次的 施釉和上釉来实现多次填充,依次类推。权利要求1.一种新型上釉装置,包括及上釉系统及胶辊,上釉系统固定在胶辊上方;其特征在于所述的上釉系统为两套。2. 根据权利要求1所述的一种新型上釉装置,其特征在于所 述的上釉系统由施釉装置及上釉装置构成,上釉装置固定在胶辊上 方,施釉装置则固定在上釉装置上。3. 根据权利要求2所述的一种新型上釉装置,其特征在于在 上釉装置上装有釉料。4. 根据权利要求3所述的一种新型上釉装置,其特征在于在 上釉装置的底端设有刮刀片。专利摘要本技术公开了一种用在瓷砖凹版辊筒印花机的新型上釉装置。本技术包括上釉系统及胶辊,上釉系统固定在胶辊上方;所述的上釉系统为两套。与现有技术相比,本技术装置的有益效果在于本技术增加了一套上釉系统,并增加胶辊表面与刮刀片之间釉料的填充次数,从而提高印花质量,减小色差。文档编号C04B41/86GK201180114SQ20082004330公开日2009年1月14日 申请日期2008年1月25日 优先权日2008年1月25日专利技术者何小燕 申请人:佛山市南海区希望陶瓷机械设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型上釉装置,包括及上釉系统及胶辊,上釉系统固定在胶辊上方;其特征在于:所述的上釉系统为两套。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:何小燕
申请(专利权)人:佛山市南海区希望陶瓷机械设备有限公司
类型:实用新型
国别省市:44[中国|广东]

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