触控基板及其制备方法、触摸屏技术
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种触控基板及其制备方法、触摸屏。
技术介绍
21世纪是一个快速发展的年代，电子产品的发展也是日新月异，各种电子产品也越来越多的添加触控的元素，比如手机，Pad，Notebook等都开始使用触摸屏。目前市场上触控产品在外观上均进行各种功能孔(例如摄像孔)设计，增加功能孔可增加产品附加值，且优化客户体验。图1为现有技术中一种触控基板的俯视图，图2为图1中A-A向的截面图，如图1和图2所示，为实现触控功能，需要依次在衬底基板的上方依次形成遮光图形、触控电极、第一绝缘层和信号走线(通过过孔与触控电极)。为保证客户样品外观需求和触控基板消影效果，生产厂商往往会在形成触控电极、第一绝缘层和信号走线之后，在第一绝缘层上形成一层消影层，以及在消影层上形成一层用于对消影层进行保护的第二绝缘层，其中，消影层的材料一般为氮氧化硅(化学式SiNxOy)。基于上述工艺，现有触控基板上的功能孔区域由衬底基板、第一绝缘层、消影层、第二绝缘层，共四层结构层叠而成。在现有技术中，由于功能孔区域处需要实现其他功能(例如摄像、拍照功能)，生产厂商对功能孔区域处的...
【技术保护点】
一种触控基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板上形成有遮光图形，所述遮光图形限定出触控区域和功能孔区域；在所述触控区域内，形成有位于所述衬底基板上方的触控单元和位于触控单元上方的第一消影图形；在所述功能孔区域内，形成有位于所述衬底基板上方第一绝缘层、位于所述第一绝缘层上方且覆盖所述功能孔区域内部分区域的第二消影图形、位于所述第二消影图形的上方或下方且与所述第二消影图形对应设置的增透图形；所述第一消影图形与所述第二消影图形同层设置，所述增透图形用于提升所述第二消影图形所对应的区域的透光率。
【技术特征摘要】
1.一种触控基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板上形成有遮光图形，所述遮光图形限定出触控区域和功能孔区域；在所述触控区域内，形成有位于所述衬底基板上方的触控单元和位于触控单元上方的第一消影图形；在所述功能孔区域内，形成有位于所述衬底基板上方第一绝缘层、位于所述第一绝缘层上方且覆盖所述功能孔区域内部分区域的第二消影图形、位于所述第二消影图形的上方或下方且与所述第二消影图形对应设置的增透图形；所述第一消影图形与所述第二消影图形同层设置，所述增透图形用于提升所述第二消影图形所对应的区域的透光率。2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控单元包括：位于所述衬底基板上方的若干个触控电极；所述增透图形位于所述第二消影图形的下方且与所述触控电极同层设置。3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极和所述增透图形的材料为氧化铟锡。4.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述触控单元还包括：信号走线，所述信号走线与所述触控电极通过过孔连接。5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一消影图形的上方设置有第二绝缘层图形；所述增透图形位于所述第二消影图形的上方且与所述第二绝缘层图形同层设置。6.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第二消影图形包括：若干个彼此独立的第二消影子图形；全部所述第二消影子图形在所述功能孔区域内均匀分布。7.根据权利要求1-6中任一所述的触控基板，其特征在于，第二消影图形的面积与所述功能孔区域的面积的比为：80％～90％。8.一种触摸屏，其特征在于，包括如上述权利要求1-7中任一所述的触控基板。9.一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括：在所述衬底基板的上方形成遮光图形，所述遮光图形限定出触控区域和功能孔区域；在所述衬底基板的上方且对应所述触控区域内形成触控单元，以及在所述衬底基板的上方且对应所述功能孔区域的区域形成第一绝缘层；在所述第一绝缘层的上方形成第一消影图形和第二消影图形，所述第一消影图形与所述第二消影图形同层设置，所述第一消影图形覆盖所述触控单元所对应的区域，所述第二消影图形覆盖所述功能孔区域内部分区域；形成增透图形，所述增透图形位于所述第二消影图形的上方或下方且与所述第二消影图形对应设置，所述增透图形用于提升所述第二消影图形所对应的区域的透光率。10.根据权利要求9所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控单元包括：若干个触控电极；所述形成增透图形的步骤与所述形成触控...
【专利技术属性】
技术研发人员：王静，谢晓冬，何敏，张贵玉，许邹明，郑启涛，田新斌，李冬，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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