一种二吡咯亚甲基N,O-二氟化硼衍生物的合成方法技术

本发明专利技术公开了一种二吡咯亚甲基N,O-二氟化硼衍生物的合成方法。以二硫缩烯酮、吡咯化合物、三氟化硼乙醚为反应原料，通过一步反应制备得到二吡咯亚甲基N,O-二氟化硼衍生物。与已报道的二吡咯亚甲基二氟化硼类似物的合成方法相比较，本发明专利技术具有原料易得、操作简便、合成反应条件温和等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及二吡咯亚甲基N,O-二氟化硼衍生物的合成方法。以易制备的二硫缩烯酮、吡咯化合物及BF3·OEt2为原料制备二吡咯亚甲基N,O-二氟化硼衍生物。与现有的合成方法相比较，本专利技术具有原料易得、操作简便、合成反应条件温和及收率较高的特点。
技术介绍
吡咯N,N-或N,O-二氟化硼络合物是一类重要的有机发光材料，具有光稳定性好，近红外激发，摩尔吸光系数高，荧光量子产率高等优点，广泛应用于有机光敏剂、激光染料及化学传感器方面等领域(Ziessel,R.etal.Angew.Chem.,Int.Ed.2008,47,1184-1201；Chang,Y.etal.Chem.Sci.2013,4,2168-2176.)。常见的吡咯二氟化硼络合物有二吡咯亚甲基二氟化硼络合物(BODIPY)和N-二吡咯亚甲基二氟化硼络合物(aza-BODIPY)。二吡咯亚甲基硼染料(BODIPY)的合成一般以吡咯为原料，与酰氯或酸酐通过两步反应来制备得到，但是收率较低；也可以以吡咯和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二吡咯亚甲基N,O‑二氟化硼衍生物的合成方法，二吡咯亚甲基N,O‑二氟化硼衍生物1结构式如下：R1为碳原子数1‑4的烷基、芳基、噻吩基、呋喃基、萘基、烯基芳基、2‑噻吩乙烯基或2‑呋喃乙烯基；其中芳基为苯基或苯环上带有取代基的芳基，取代基为甲基、氟、氯、溴、碘、三氟甲基、硝基、氰基、羧基中的1‑5种，取代基的个数为1‑5个；R2为氢、碳原子数1‑4的烷基或芳基；其中芳基为苯基或苯环上带有取代基的芳基，取代基为甲基、氟、氯、溴、碘中的1‑5种，取代基的个数为1‑5个；其特征在于：以二硫缩烯酮2、吡咯化合物3与三氟化硼乙醚为反应原料，在有机溶剂中搅拌反应制备得到二吡咯亚甲基N,O‑二氟化硼衍生...

【技术特征摘要】
1.一种二吡咯亚甲基N,O-二氟化硼衍生物的合成方法，二吡咯
亚甲基N,O-二氟化硼衍生物1结构式如下：
R1为碳原子数1-4的烷基、芳基、噻吩基、呋喃基、萘基、烯基
芳基、2-噻吩乙烯基或2-呋喃乙烯基；其中芳基为苯基或苯环上带有
取代基的芳基，取代基为甲基、氟、氯、溴、碘、三氟甲基、硝基、
氰基、羧基中的1-5种，取代基的个数为1-5个；
R2为氢、碳原子数1-4的烷基或芳基；其中芳基为苯基或苯环上
带有取代基的芳基，取代基为甲基、氟、氯、溴、碘中的1-5种，取
代基的个数为1-5个；
其特征在于：以二硫缩烯酮2、吡咯化合物3与三氟化硼乙醚为
反应原料，在有机溶剂中搅拌反应制备得到二吡咯亚甲基N,O-二氟
化硼衍生物1，合成路线如下述反应式所示：
其中，二硫缩烯酮2的结构如下：
R1为碳原子数1-4的烷基、芳基、噻吩基、呋喃基、萘基、烯基
芳基、2-噻吩乙烯基或2-呋喃乙烯基；其中芳基为苯基或苯环上带有
取代基的芳基，取代...

【专利技术属性】
技术研发人员：余正坤，杨小格，
申请(专利权)人：中国科学院大连化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：辽宁;21