厚膜图案结构及其形成方法技术

本发明专利技术涉及厚膜图案结构以及形成该厚膜图案结构的方法，其中重复进行层叠步骤，由此在形成过程中逐渐减小正在形成的厚膜图案的宽度，因此层叠相同的材料层，由此使得所有的层均已层叠的图案的边缘处的区域中的锥角减小。厚膜图案包括：具有任一图案宽度的厚膜图案涂层；以及依次层叠在该厚膜图案涂层上的不同的厚膜图案涂层，以致图案宽度从厚膜图案涂层的边缘区域逐渐减小，通过厚膜图案涂层形成的厚膜图案具有阶梯形状。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过重复堆叠工艺而形成的厚膜图案结构。特别地，本专利技术涉及一种厚膜图案结构以及形成该厚膜图案结构的方法，该厚膜图案结构在相同材料的所有层以逐渐减小的图案宽度堆叠之后，在图案边缘区域处具有减小的锥角。
技术介绍
近来，触摸传感器正广泛应用于各种电子产品，例如移动电话、个人数字助理(PDA)和手持个人电脑，其中用于制造电容式触摸传感器的技术的使用最广泛。触摸传感器大多为一种电容式触摸传感器，其包括在玻璃基板上的单个电极层。通常，常规的电容式触摸传感器包括由氧化铟锡(ITO)制成的触摸感测电极层。例如，通过溅射将ITO直接设置在玻璃基板上，然后进行图案化以形成触摸感测电极层的图案。触摸感测电极层的图案包括X轴感测电极图案和Y轴感测电极图案，且其中一个可以包括导电层以形成感测电极图案的一个轴穿过其另一轴的桥结构。此外，对于X轴感测电极图案和Y轴感测电极图案的绝缘，在X轴感测电极图案和Y轴感测电极图案彼此交叉的位置处形成绝缘层。如图1中所示，这种触摸传感器包括：具有有源区11和对应于有源区11周边的无源区12的透明基板10，以及形成在透明基板10的一个表面上的电极单元。透明基板10可以用于提供其中形成用于检测触摸位置的电极单元的区域。透明基板10应当具有用于支撑电极单元的力和透明度，以允许用户感知从图像显示装置提供的图像。因此，触摸传感器可以包括有源区11和与对应于有源区11周边区域的无源区12。有源区11是指进行用户的触摸活动的部分，并且对应于允许用户可视地监视装置的操作场景的显示区域。此外，无源区12为由形成在透明基板10上的边框部分所遮蔽的未暴露区域。边框部分具有在其上形成的具有预定厚度或更厚的屏蔽层、保护层和绝缘层，其设置在有源区11的周边，屏蔽层用于屏蔽来自背光的光，保护层用于保护下部(下层)图案，以及绝缘层用于与上部(上层)电极线绝缘。这些层形成为具有10-20μm或更大的预定厚度的厚膜图案，并且厚膜图案可以通过反复的涂布工艺而不是单一涂布工艺而具有期望的厚度。如图2中所示，当通过重复用于以相同图案宽度堆叠的至少三个涂布工艺来形成厚膜图案时，厚膜图案的锥形区域A处的倾斜角大于或等于20°，如区域B中所示，在随后的光刻工艺期间导致光致抗蚀剂的流动。光致抗蚀剂的流动导致在后续工艺中的断开和缺陷图案。特别地，厚膜图案的厚度和图案宽度在锥形区域A处以大的倾斜角度改变，从而导致器件中的质量缺陷，从而显著降低产率。图3表示根据如上所述的现有技术在形成厚膜图案之后的后续工艺中断开的发生。因此，需要开发新的厚膜图案结构及其制备以解决根据现有技术的厚膜图案的形成中的问题。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的为提供一种厚膜图案结构以及形成该厚膜图案结构的方法，该厚膜图案结构在相同材料的所有层以逐渐减小的图案宽度堆叠之后，在图案边缘区域处具有减小的锥角。本专利技术的另一个目的为提供一种厚膜图案结构以及形成该厚膜图案结构的方法，其在用作保护层或绝缘层的厚膜图案的边缘区域处具有减小的锥角，从而解决后续工艺中的问题，例如膜厚度和图案宽度的变化以及断开的发生。本专利技术的另一个目的为提供一种厚膜图案结构以及形成该厚膜图案结构的方法，其通过逐渐减小图案宽度的逐步堆叠而形成，从而防止在对厚膜图案进行光刻工艺时光致抗蚀剂的向下流动。本专利技术的目的不限于上述目的，本领域技术人员从以下描述中可以理解其未提及的其它目的。技术方案根据本专利技术的一个方面，提供了一种厚膜图案结构，其包括：具有图案宽度的厚膜图案涂层；以及多个厚膜图案涂层，其顺序地堆叠在厚膜图案涂层上，以在厚膜图案涂层的边缘区域处具有逐渐减小的图案宽度，其中厚膜图案涂层提供具有阶梯形状的厚膜图案。在本专利技术中，在厚膜图案涂层的边缘区域处逐渐减小的图案宽度的减小尺寸可以相同，或者可以根据层的堆叠顺序逐渐减小或增大。此外，厚膜图案涂层可以具有相同的厚度或者根据其堆叠顺序逐渐减小或增大的厚度。可以通过改变厚膜图案涂层的逐渐减小的图案宽度的减小尺寸并且改变厚膜图案涂层的厚度来形成厚膜图案。由厚膜涂层组成的厚膜图案在其边缘区域处可以具有5°至10°的锥角。此外，由厚膜涂层组成的厚膜图案可以具有30μm至35μm的总厚度。厚膜图案中的阶梯形状的部分可以设置在触摸传感器的边框区。厚膜图案可以为用于屏蔽来自背光的光的屏蔽层、用于保护下部图案的保护层和用于与上部电极线绝缘的绝缘层中的任一种。根据本专利技术的另一方面，提供了一种形成厚膜图案的方法，其包括：使用具有图案宽度的掩模涂布厚膜图案形成材料；以及通过顺序地使用提供逐渐减小的图案宽度的掩模来重复地涂覆厚膜图案形成材料，以形成在其边缘区域处具有阶梯形状的厚膜图案。在本专利技术中，形成具有阶梯形状的厚膜图案的掩模的逐渐减小的图案宽度的减小尺寸可以相同或不同。此外，可以进行厚膜图案形成材料的涂布，使得每个涂层具有相同或不同的厚度。逐渐减小的图案宽度可以在由重复涂布厚膜图案形成材料获得的整个厚膜图案的边缘区域处形成5°至10°的锥角。厚膜图案的总厚度为30μm至35μm。厚膜图案形成材料可以为用于屏蔽光的屏蔽层形成材料、用于保护下部图案的保护层形成材料和用于与电极线绝缘的绝缘材料中的任一种。有利效果根据本专利技术的厚膜图案结构及其形成方法具有以下效果：首先，在所有层堆叠后，其可以在厚膜图案的边缘区域处提供减小的锥角。第二，可以通过逐渐减小图案宽度的逐步堆叠方法形成厚膜图案，从而防止在对厚膜图案进行光刻工艺时光致抗蚀剂的向下流动。第三，可以减小厚膜图案的边缘区域处的锥角，从而解决后续工艺中的问题，例如膜厚度和图案宽度的变化以及断开的发生。第四，可以减小厚膜图案的锥形区域处的倾斜角，从而防止厚膜图案中的膜厚度和图案宽度的变化，并提高产率。附图说明图1为通常的触摸传感器的俯视图。图2为表示根据现有技术的厚膜图案的横截面结构的图。图3为表示根据现有技术的在形成厚膜图案和随后的工艺期间发生的断开区域的横截面的照片图像。图4为表示可以在本专利技术中应用的触摸传感器的配置的图。图5为根据本专利技术的厚膜图案的横截面图。图6为表示根据本专利技术的用于形成厚膜图案的工艺步骤的流程图。图7a和7b为根据本专利技术的厚膜图案在其形成和后续工艺中的横截面照片图像。具体实施方式在下文中，将详细描述根据本专利技术的厚膜图案结构及其形成方法的优选实施方式。通过对于每个实施方式的以下详细描述，根据本专利技术的厚膜图案结构及其形成方法的特征和优点将是显而易见的。图4为可以在本专利技术中应用的触摸传感器的配置的图，且图5为根据本专利技术的厚膜图案的横截面图。本专利技术通过在用于形成厚膜图案的重复涂布工艺期间逐渐减小图案宽度的逐步堆叠来形成厚膜图案，被设计为减小用作保护层或绝缘层的厚膜图案的边缘区域处的锥角，以解决后续工艺中的问题，例如膜厚度和图案宽度的变化以及发生断开。以下描述作为能够应用根据本专利技术的厚膜图案结构及其形成方法的实例的触摸传感器，但是显然应用本专利技术的技术方面的装置不限于该触摸传感器。也就是说，它可以应用于制备具有通过重复涂布工艺形成的厚膜图案的所有其它装置。如图4中所示，可应用根据本专利技术的厚膜图案结构及其形成方法的触摸传感器具有设置有电极单元的有源区11和对应于有源区11周边区域的无源区12。无源区12为在透明基板1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种厚膜图案结构，其包括：厚膜图案涂层，其具有图案宽度；以及顺序地堆叠在所述厚膜图案涂层上的多个厚膜图案涂层，以在厚膜图案涂层的边缘区域处具有逐渐减小的图案宽度，其中厚膜图案涂层提供具有阶梯形状的厚膜图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.09 KR 10-2014-00862451.一种厚膜图案结构，其包括：厚膜图案涂层，其具有图案宽度；以及顺序地堆叠在所述厚膜图案涂层上的多个厚膜图案涂层，以在厚膜图案涂层的边缘区域处具有逐渐减小的图案宽度，其中厚膜图案涂层提供具有阶梯形状的厚膜图案。2.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，在厚膜图案涂层的边缘区域处逐渐减小的图案宽度的减小尺寸是相同的或者根据所述层的堆叠顺序而逐渐减小或增大。3.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，所述厚膜图案涂层具有相同的厚度或者根据其堆叠顺序而逐渐减小或增大的厚度。4.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，通过改变厚膜图案涂层的逐渐减小的图案宽度的减小尺寸并且改变厚膜图案涂层的厚度来形成厚膜图案。5.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，由厚膜涂层组成的厚膜图案在其边缘区域处具有5°至10°的锥角。6.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，由厚膜涂层组成的厚膜图案具有30μm至35μm的总厚度。7.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，所述厚膜图案中的阶梯形状的部分设置在触摸传感器...

【专利技术属性】
技术研发人员：金龙焕，尹亿根，崔镕锡，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR