OLED显示面板、显示装置、阵列基板及其制作方法制造方法及图纸

本申请公开了一种OLED显示面板、显示装置、阵列基板及其制作方法，其中，所述阵列基板包括：第一基板、像素驱动膜层、平坦层、第一像素定义层、反射层、阳极层和第二像素定义层；其中，所述第一像素定义层具有多个像素凹槽，所述反射层位于所述第一像素定义层表面且完全覆盖所述像素凹槽以提升所述显示子像素的出射光的利用效率；另外，所述反射层背离所述第一基板一侧具有粗糙表面，入射的环境光不会经过所述反射层形成镜面反射，从而不会出现眩光问题，避免了采用线性偏振片来解决眩光问题而出现的吸收显示子像素出射光的问题，提升了应用所述阵列基板的OLED显示面板的显示子像素的出光效率，提升了所述OLED显示面板的抗挠曲性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示
，更具体地说，涉及一种OLED显示面板、显示装置、阵列基板及其制作方法。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，显示面板的应用越来越广泛，有机电致发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示面板以其响应速度快、色彩绚丽、轻薄方便等优点成为显示面板行业的后起之秀。为了提高OLED显示面板的出光效率，通常需要在阵列基板上设置一层反射金属层，使OLED显示面板的显示子像素发出的光朝一面发出。但是所述反射金属层同时也会反射环境光，导致出现眩光的问题，影响OLED显示面板的显示效果。现有技术中解决OLED显示面板出现眩光问题的方案通常是在OLED显示面板的盖板表面依次设置一层1/4λ波片和一层线性偏振片，以使环境光经过所述线性偏振片和1/4λ波片后成为线偏振光，成为线偏振光的环境光在经过所述反射金属层反射以及1/4λ波片后，成为偏振角度与所述线性偏振片垂直的线偏振光，与所述线性偏振片垂直的线偏振光在经过所述线性偏振片时被吸收，从而有效地减少了所述反射金属层反射的环境光的出射量，继而解决了所述OLED显示面板出现眩光的问题。但是所述线性偏振片还会吸收所述OLED显示面板中显示子像素50％的出射光，降低了所述OLED显示面板的出光效率，并且所述线性偏振片是多层膜结构，其抗挠曲性很差，很难应用在柔性显示装置中。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种OLED显示面板、显示装置、阵列基板及其制作方法，以实现不需要设置线性偏振片即可解决OLED显示面板的眩光问题，从而提高所述OLED显示面板的出光效率，并提高应用所述阵列基板的OLED显示面板的抗挠曲性的目的。为实现上述技术目的，本专利技术实施例提供了如下技术方案：一种阵列基板，应用于有机电致发光二极管OLED显示面板，所述阵列基板包括：第一基板；像素驱动膜层，位于所述第一基板表面；平坦层，位于所述像素驱动膜层背离所述第一基板一侧；第一像素定义层，位于所述平坦层背离所述第一基板一侧，所述第一像素定义层具有多个像素凹槽；反射层，位于所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧，所述反射层背离所述第一基板一侧具有粗糙表面；阳极层，位于所述反射层背离所述第一基板一侧，所述反射层及所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；第二像素定义层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧，且所述第二像素定义层至少覆盖所述阳极层在所述像素凹槽侧壁部分的表面。可选的，所述反射层的粗糙表面的粗糙度Rz大于或等于1nm。可选的，所述第一像素定义层与所述平坦层的材质相同。可选的，所述反射层为具有粗糙表面的金属层。可选的，所述像素凹槽背离所述第一基板一侧表面具有粗糙表面。可选的，所述像素驱动膜层包括：位于所述第一基板表面沿第一方向排列的多条栅极线、沿第二方向排列的多条数据线以及位于所述栅极线与所述数据线限定区域中的薄膜晶体管，所述第一方向与所述第二方向交叉，其中，每个所述薄膜晶体管的漏极与其对应的显示子像素的阳极电连接。可选的，还包括：发光材料层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧表面；阴极层，位于所述发光材料层背离所述第一基板一侧；所述阳极层包括多个阵列排布的阳极，所述发光材料层包括与所述多个阳极一一对应的多个发光结构，所述阴极层、所述多个阳极和所述多个发光结构构成多个显示子像素。一种阵列基板的制备方法，包括：提供第一基板；在所述第一基板表面依次形成像素驱动膜层和平坦层；在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层；在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层；在所述反射层背离所述第一基板一侧形成阳极层，并对所述反射层和阳极层进行刻蚀，刻蚀后的所述反射层和所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成第二像素定义层，所述第二像素定义层至少覆盖所述阳极层在所述像素凹槽侧壁部分的表面。可选的，所述在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层包括：在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成光敏材料层；利用掩膜板对所述光敏材料层进行曝光，并对曝光后的光敏材料层进行显影，形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层。可选的，所述在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成光敏材料层包括：在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成与所述平坦层材质相同的光敏材料层。可选的，所述在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层包括：在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面设置半色调掩膜板；利用所述半色调掩膜板对所述平坦层进行曝光，并对曝光后的平坦层进行显影，形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层。可选的，所述在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层包括：对所述多个第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面进行粗糙化处理；在经过粗糙化处理的第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成反射层。可选的，所述在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层包括：在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成反射层；对所述反射层背离所述第一基板一侧表面进行粗糙化处理。可选的，所述阳极层包括多个阵列排布的阳极；所述在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成第二像素定义层之后还包括：在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成发光材料层，所述发光材料层包括与所述多个阳极一一对应的多个发光结构；在所述发光材料层背离所述第一基板一侧表面形成阴极层，所述阴极层、所述多个阳极和所述多个发光结构构成多个显示子像素。一种OLED显示面板，包括：相对设置的对置基板和阵列基板，其中，所述阵列基板为上述任一项所述的阵列基板。一种显示装置，包括至少一个如上述一项所述的OLED显示面板。从上述技术方案可以看出，本专利技术实施例提供了一种OLED显示面板、显示装置、阵列基板及其制作方法，其中，所述阵列基板的第一像素定义层具有多个像素凹槽，所述反射层位于所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧且完全覆盖所述像素凹槽，这样所述OLED显示面板的显示子像素的发射光会在所述像素凹槽底面和侧壁的反射层表面进行多次反射，直至从所述像素凹槽中出射，而不会被所述第一像素定义层吸收，从而提升了所述显示子像素的出射光的利用效率；另外，所述反射层背离所述第一基板一侧具有粗糙表面，入射的环境光不会经过所述反射层形成镜面反射，从而不会出现眩光问题，避免了采用线性偏振片来解决眩光问题而出现的线性偏振片吸收所述OLED显示面板的显示子像素出射光的问题，提升了应用所述阵列基板的OLED显示面板的显示子像素的出光效率，并且提升了所述OLED显示面板的抗挠曲性，进而使其可以应用于柔性显示装置中。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本申请的一个实施例提供的一种阵列基板的截面结构示意图；图2为本申请的一个实施例提供的一种平坦层、第一像素定义层、第二像素定义层、反射层及阳极本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，应用于有机电致发光二极管OLED显示面板，所述阵列基板包括：第一基板；像素驱动膜层，位于所述第一基板表面；平坦层，位于所述像素驱动膜层背离所述第一基板一侧；第一像素定义层，位于所述平坦层背离所述第一基板一侧，所述第一像素定义层具有多个像素凹槽；反射层，位于所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧，所述反射层背离所述第一基板一侧具有粗糙表面；阳极层，位于所述反射层背离所述第一基板一侧，所述反射层及所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；第二像素定义层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧，且所述第二像素定义层至少覆盖所述阳极层在所述像素凹槽侧壁部分的表面。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，应用于有机电致发光二极管OLED显示面板，所述阵列基板包括：第一基板；像素驱动膜层，位于所述第一基板表面；平坦层，位于所述像素驱动膜层背离所述第一基板一侧；第一像素定义层，位于所述平坦层背离所述第一基板一侧，所述第一像素定义层具有多个像素凹槽；反射层，位于所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧，所述反射层背离所述第一基板一侧具有粗糙表面；阳极层，位于所述反射层背离所述第一基板一侧，所述反射层及所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；第二像素定义层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧，且所述第二像素定义层至少覆盖所述阳极层在所述像素凹槽侧壁部分的表面。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射层的粗糙表面的粗糙度Rz大于或等于1nm。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素定义层与所述平坦层的材质相同。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射层为具有粗糙表面的金属层。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素凹槽背离所述第一基板一侧表面具有粗糙表面。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素驱动膜层包括：位于所述第一基板表面沿第一方向排列的多条栅极线、沿第二方向排列的多条数据线以及位于所述栅极线与所述数据线限定区域中的薄膜晶体管，所述第一方向与所述第二方向交叉，其中，每个所述薄膜晶体管的漏极与其对应的显示子像素的阳极电连接。7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：发光材料层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧表面；阴极层，位于所述发光材料层背离所述第一基板一侧；所述阳极层包括多个阵列排布的阳极，所述发光材料层包括与所述多个阳极一一对应的多个发光结构，所述阴极层、所述多个阳极和所述多个发光结构构成多个显示子像素。8.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：提供第一基板；在所述第一基板表面依次形成像素驱动膜层和平坦层；在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层；在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层；在所述反射层背离所述第一基板一侧形成阳极层，并对所述反射层和阳极层进行刻蚀，刻蚀后的所述反射层和所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成第二像素定义...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖灿俊，
申请(专利权)人：上海天马微电子有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31