一种深凹槽PCB板及其加工方法技术

技术编号:14636436 阅读:92 留言:0更新日期:2017-02-15 10:34
本发明专利技术公开一种深凹槽PCB板及其加工方法,方法包括步骤E、外层图形制作:将PCB板依次经贴干膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出外层图形;F、凹槽预锣:将上述PCB板利用控深锣机,加工出凹槽;G、镭射激光资料制作:制作镭射资料;H、凹槽成型:将PCB板放入二氧化碳激光镭射机内,调入已制作的镭射资料,加工凹槽底部的介电层;I:除胶:除去凹槽内残留的胶渣;J、防焊及表面处理:在上述除胶后的PCB板上丝印防焊油墨,形成防焊层;再经过沉金表面处理,形成深凹槽PCB板。通过本发明专利技术的方法提高了PCB板凹槽加工精度,避免铜层在PCB板凹槽加工过程中损坏,同时也提高了加工效率,避免了凹槽槽边翘曲现象发生。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及PCB板领域,尤其涉及一种深凹槽PCB板及其加工方法
技术介绍
PCB凹槽加工方法一般有两种:一种是采用具有控深功能的控深锣机通过控制深度来加工制作凹槽,使用这种方法控深精度在±0.1mm左右,但这种加工精度容易损坏铜层;另一种是采用UV激光设备切割凹槽,这种方法由于UV激光的光斑只有25μm,加工效率较低,另外在加工过程中容易出现凹槽槽边翘曲现象。因此,现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种深凹槽PCB板及其加工方法,旨在解决现有的深凹槽PCB加工方法存在容易损坏铜层、加工效率低、容易出现凹槽槽边翘曲现象的问题。本专利技术的技术方案如下:一种深凹槽PCB板的加工方法,其中,包括:步骤A、开料:选取双面芯板、PP和铜箔,并按照设计尺寸切割;步骤B、内层图形制作:将上述双面芯板经涂膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出内层图形;步骤C、压合:将上述双面芯板、PP和铜箔,按照铜箔、PP、双面芯板、PP、铜箔的顺序叠层,然后进行压合;步骤D、导通孔制作:将上述压合后得到的PCB板进行钻孔,形成导通孔,再经过化学沉铜和电镀,使导通孔孔壁金属化;步骤E、外层图形制作:将上述PCB板依次经贴干膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出外层图形;步骤F、凹槽预锣:将上述PCB板利用控深锣机,加工出凹槽;步骤G、镭射激光资料制作:制作镭射资料;步骤H、凹槽成型:将PCB板放入二氧化碳激光镭射机内,调入已制作的镭射资料,加工凹槽底部的介电层;步骤I:除胶:除去凹槽内残留的胶渣;步骤J、防焊及表面处理:在上述除胶后的PCB板上丝印防焊油墨,形成防焊层;再经过沉金表面处理,形成深凹槽PCB板。所述的深凹槽PCB板的加工方法,其中,所述PCB板为6层PCB板。所述的深凹槽PCB板的加工方法,其中,所述步骤F中,加工出的凹槽深度为第三层铜层以上0.1~0.2mm的高度。所述的深凹槽PCB板的加工方法,其中,所述步骤H中,加工凹槽底部的介电层,使凹槽深度达到第三层铜层。所述的深凹槽PCB板的加工方法,其中,所述步骤G中,镭射资料为:以半径为0.2mm的圆进行加工。所述的深凹槽PCB板的加工方法,其中,相邻圆的圆心间距为0.25mm。一种深凹槽PCB板,其中,采用如上任一项所述的加工方法加工而成。有益效果:通过本专利技术的方法提高了PCB板凹槽加工精度,避免铜层在PCB板凹槽加工过程中损坏,同时也提高了加工效率,避免了凹槽槽边翘曲现象发生。附图说明图1为本专利技术一种深凹槽PCB板的加工方法较佳实施例的流程图。图2为本专利技术的方法加工得到的深凹槽PCB板。图3为本专利技术预锣出的凹槽结构示意图。图4为本专利技术中镭射后的凹槽结构示意图。具体实施方式本专利技术提供一种深凹槽PCB板及其加工方法,为使本专利技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下对本专利技术进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。请参阅图1,图1为本专利技术一种深凹槽PCB板的加工方法较佳实施例的流程图,如图所示,其包括:步骤S1、开料:选取双面芯板、PP和铜箔,并按照设计尺寸切割;步骤S2、内层图形制作:将上述双面芯板经涂膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出内层图形;步骤S3、压合:将上述双面芯板、PP和铜箔,按照铜箔、PP、双面芯板、PP、铜箔的顺序叠层,然后进行压合;步骤S4、导通孔制作:将上述压合后得到的PCB板进行钻孔,形成导通孔,再经过化学沉铜和电镀,使导通孔孔壁金属化;步骤S5、外层图形制作:将上述PCB板依次经贴干膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出外层图形;步骤S6、凹槽预锣:将上述PCB板利用控深锣机,加工出凹槽;步骤S7、镭射激光资料制作:制作镭射资料;步骤S8、凹槽成型:将PCB板放入二氧化碳激光镭射机内,调入已制作的镭射资料,加工凹槽底部的介电层;步骤S9:除胶:除去凹槽内残留的胶渣;步骤S10、防焊及表面处理:在上述除胶后的PCB板上丝印防焊油墨,形成防焊层;再经过沉金表面处理,形成深凹槽PCB板。本专利技术中,采用传统控深锣机与二氧化碳激光镭射机加工相结合,先利用控深锣机进行预锣,再利用二氧化碳激光镭射机按照设定的镭射资料加工剩余的介电层。这样既能保证加工精度,又能避免铜层在PCB板凹槽加工过程中损坏,同时也提高了加工效率,避免了凹槽槽边翘曲现象发生。进一步,所述PCB板为6层PCB板。以下以6层PCB板为例进行说明。具体来说,在所述步骤S1中,先进行开料,选取双面芯板、PP和铜箔,并按照设计尺寸切割。在所述步骤S2中,进行内层图形制作,具体是将上述双面芯板按照设计参数,经涂膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出内层图形。在所述步骤S3中,进行压合处理,具体是将上述芯板、PP和铜箔,按照铜箔、PP、双面芯板、PP、铜箔的叠层顺序进行压板。这样就得到如图2所示的叠层结构,从上至下依次包括L1(第一层)、L2(第二层)、L3(第三层)、L4(第四层)、L5(第五层)、L6(第六层)共6层铜层。其中的PP即为介质层100。在所述步骤S4中,进行导通孔制作,具体是将上述压合后得到的PCB板进行钻孔,形成导通孔120,再经过化学沉铜和电镀,使导通孔120孔壁金属化。在所述步骤S5中,进行外层图形制作,具体将上述PCB板经贴干膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出外层图形。在所述步骤S6中,进行凹槽预锣,具体是将上述PCB板利用控深锣机,加工凹槽110,加工深度至离L3层0.1~0.2mm的高度,如图3所示,即a为0.1~0.2mm,即高于L3层0.1~0.2mm的高度,例如0.15mm。在所述步骤S7中,进行镭射激光资料制作,镭射资料为:以半径为0.2mm的圆进行加工,相邻圆的圆心间距为0.25mm,这样各圆相互重叠,从而不留间隙,避免凹槽区域漏加工。在所述步骤S8中,进行PCB板凹槽成型,具体是将PCB板放入二氧化碳镭射机内,调入已制作的镭射资料,按照设定参数,加工制作凹槽110。即加工凹槽110底部的介电层(即将前述a的高度去除),使凹槽110深度达到L3层,如图4所示。在所述步骤S9中,进行除胶处理,具体是将已加工凹槽110的PCB板放入沉铜线除胶缸,利用高锰酸钾强氧化性,除去凹槽110内残留的胶渣。在所述步骤S10中,进行防焊及表面处理,具体是将上述除胶后的PCB板经丝印防焊油墨,形成防焊层;再经过沉金表面处理,形成最终PCB深凹槽板。本专利技术还提供一种深凹槽PCB板,其中,采用如上任一项所述的加工方法加工而成。采用本专利技术的制作方法,可避免采用控深锣机加工容易损坏L3层铜层的问题,也避免出现凹槽槽边翘曲的现象。综上所述,通过本专利技术的方法提高了PCB板凹槽加工精度,避免铜层在PCB板凹槽加工过程中损坏,同时也提高了加工效率,避免了凹槽槽边翘曲现象发生。应当理解的是,本专利技术的应用不限于上述的举例,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,所有这些改进和变换都应属于本专利技术所附权利要求的保护范围。本文档来自技高网...
一种深凹槽PCB板及其加工方法

【技术保护点】
一种深凹槽PCB板的加工方法,其特征在于,包括:步骤A、开料:选取双面芯板、PP和铜箔,并按照设计尺寸切割;步骤B、内层图形制作:将上述双面芯板经涂膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出内层图形;步骤C、压合:将上述双面芯板、PP和铜箔,按照铜箔、PP、双面芯板、PP、铜箔的顺序叠层,然后进行压合;步骤D、导通孔制作:将上述压合后得到的PCB板进行钻孔,形成导通孔,再经过化学沉铜和电镀,使导通孔孔壁金属化;步骤E、外层图形制作:将上述PCB板依次经贴干膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出外层图形;步骤F、凹槽预锣:将上述PCB板利用控深锣机,加工出凹槽;步骤G、镭射激光资料制作:制作镭射资料;步骤H、凹槽成型:将PCB板放入二氧化碳激光镭射机内,调入已制作的镭射资料,加工凹槽底部的介电层;步骤I:除胶:除去凹槽内残留的胶渣;步骤J、防焊及表面处理:在上述除胶后的PCB板上丝印防焊油墨,形成防焊层;再经过沉金表面处理,形成深凹槽PCB板。

【技术特征摘要】
1.一种深凹槽PCB板的加工方法,其特征在于,包括:步骤A、开料:选取双面芯板、PP和铜箔,并按照设计尺寸切割;步骤B、内层图形制作:将上述双面芯板经涂膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出内层图形;步骤C、压合:将上述双面芯板、PP和铜箔,按照铜箔、PP、双面芯板、PP、铜箔的顺序叠层,然后进行压合;步骤D、导通孔制作:将上述压合后得到的PCB板进行钻孔,形成导通孔,再经过化学沉铜和电镀,使导通孔孔壁金属化;步骤E、外层图形制作:将上述PCB板依次经贴干膜、曝光、显影和蚀刻处理制作出外层图形;步骤F、凹槽预锣:将上述PCB板利用控深锣机,加工出凹槽;步骤G、镭射激光资料制作:制作镭射资料;步骤H、凹槽成型:将PCB板放入二氧化碳激光镭射机内,调入已制作的镭射资料,加工凹槽底部的介电层;步骤I:除胶:除去凹槽内残留的胶渣;步骤J、防焊及表面...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘羽付凤奇王俊陆玉婷邝美娟田晓燕
申请(专利权)人:深圳市景旺电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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