【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及到零禁带半导体的
,尤其是涉及到PbPdO2半导体材料,为一种诱导PbPdO2材料沿[400]晶向择优取向生长的技术,具体为一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料及其制备方法。
技术介绍
近十多年来,PbPdO2作为一种层状过渡金属氧化物材料,由于其独特的结构和性质,研究人员对其进行了广泛的研究。T.C.Ozawa等人首先采用固相反应法合成了单相PbPdO2及Cu掺杂PbPdO2材料,提出了PbPdO2的晶体结构为体心正交结构,并研究了其热电性能,认为其存在一个金属-绝缘转变温度(TMI)。2008年,澳大利亚Wollongong大学的X.L.Wang理论计算发现PbPdO2材料具有零禁带能带结构,通过掺杂25at.%的Co元素可以在PbPdO2材料中实现自旋零禁带能带结构。这一发现使得研究者们陆续开展PbPdO2材料的制备及其性能研究。2009年,X.L.Wang等人采用脉冲激光沉积法制备出掺杂25at.%Co元素的PbPdO2薄膜,X射线衍射分析表明该薄膜主要沿着常规的[211]晶向生长,发现该材料具有电致电阻效应和巨磁电阻效应, ...
【技术保护点】
一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料,其特征在于,该PbPdO2材料最强衍射峰对应的晶粒生长方向为[400]晶向。
【技术特征摘要】
1.一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料,其特征在于,该PbPdO2材料最强衍射峰对应的晶粒生长方向为[400]晶向。2.根据权利要求1所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料,其特征在于,所述PbPdO2材料为掺杂Fe元素的薄膜材料;且当Fe的掺杂比例在5at.%~25at.%时,PbPdO2材料最强衍射峰对应的晶粒生长方向为[400]晶向;更进一步说,当随Fe的掺杂比例由5at.%上升至25at.%,PbPdO2材料沿[400]晶向择优生长的取向度线性增加。3.根据权利要求2所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料,其特征在于,在掺杂Fe元素的PbPdO2薄膜材料中,Pb元素、Pd元素、Fe元素三者间的原子比为4.21:(0.75-0.95):(0.05-0.25)。4.根据权利要求1所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料,其特征在于,PbPdO2材料的纳米尺度的形貌为片状颗粒和柱状颗粒。5.权利要求1至4所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料的制备方法,其特征在于,按如下步骤进行:称量含有Fe的化合物、含有Pb的化合物和含有Pd的化合物;将含有Fe的化合物、含有Pb的化合物与混合溶剂、络合剂混合,获得含有Fe和Pb的混合液;将含有Pd的化合物与强酸混合,获得含有强酸的混合液;将含有Fe和Pb的混合液与含有强酸的混合液混合,获得溶胶;将溶胶涂覆在基板上烘干和预烧,获得预烧薄膜;将预烧薄膜进行煅烧,获得的产物即为最强衍射峰对应的晶粒沿[400]晶向取向生长的Fe:PbPdO2材料薄膜。6.根据权利要求5所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料的制备方法,其特征在于,基板是晶面指数为或(0001)的单晶蓝宝石。7.根据权利要求5所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料的制备方法,其特征在于,煅烧的温度介于700℃到750℃之间。8.根据权利要求5所述的一种沿[400]晶向取向生长的PbPdO2材料的制备方法,其特征在于,含有Fe...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏海林,刘俊,梅超,吴玉程,黄荣俊,
申请(专利权)人:合肥工业大学,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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