反萃方法技术

本发明专利技术描述了用于反萃氧化铝的方法，该方法特别适合从氧化铝去除氟化物，包括用酸或碱的水溶液在升高温度下洗涤所述的氧化铝。该方法可以用于在放射性氟化反应后从氧化铝去除未反应的放射性氟化物如［［１８］↑Ｆ］氟化物。还要求保护用于实施该方法的自动合成设备和其匣子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及用于反萃氧化铝的方法，如作为从氧化铝中去 除氟化物，例如氧化铝已用于从放射性合成反应混合物中萃取放射性氟化物如氟化物的场合。本专利技术进一步提供用于实施所述方法的设备。 氧化铝(氧化铝)用于通过吸收作用从水中去除氟化物，例如在污 水处理中和饮用水处理中。氧化铝同样用于A人放射性合成反应混合物中 去除未反应的氟化物，如在2-氟代-2-脱氧-D-葡萄糖 (FDG)合成反应后。放射性示踪剂，如FDG,经常利用基于反应剂KryptofixTM2.2.2 的带有，—的亲核放射氟化化学物质在自动放射合成设备中进行制备。一 些这样的可以商业得到的设备的例子包括Tracer lab MX (Coincidence Technologies SA)和Tracerlab FX (Nuclear Interface GmbH)。 这种 设备一般包括经常是一次性的匣子(在其中进行放射性化学反应)，该匣 子安装于用以实施放射性合成的设备。该匣子一般包括流体通道、反应 容器和用于接受反应剂瓶的进口以及任何用于放射合成后清洁步骤中的 固体相萃取筒(cartridges)。当放射合成在自动设备上进行时，决定设备的效率的一个重要因素 是能让该设备以多快的速度用于下次运行，该速度取决于匣子中存在多 少残余放射性，因为这决定了操作员能多快用新盒子或新反应剂重新对 设备进行加料，以进行后续合成过程。如果缺少反萃过程，视所用的放 射性同位素的半衰期不同，在该匣子被置换以前，该匣子可能需要被搁 置数小时或甚至数天以让放射性衰减。随着回旋加速器的功率的增加， 放射性合成过程呈现出在较高的放射性水平上进行的趋势，这进而意味 着在合成过程后，匠子中仍将有较高的残余放射性水平。在一些自动放 射合成设备中，很大比例的残留放射性被吸收到容纳在该匣子的容器形 成部位的氧化铝上。这意味着需要更快反萃氧化铝的方法以减少该设备 在运行之间的闲置时间。根据本专利技术的一个方面，提供了用于反萃氧化铝的方法，该方法包 括在升高温度下用酸或石威的水溶液(如金属氢氧化物的水溶液)来洗涤所述氧化铝。该特别地适合于从氧化铝中去除氟化物。因此，本专利技术的另一方面提供了从氧化铝去除氟化物、适宜的是放射性氟化物(如 氟化物)的方法，该方法包括在升高温度下用酸或^4的水溶液(例如金 属氢氧化物的水溶液)洗涤所述氧化铝。接下来，来自氧化铝的废液料 流可以转移到^C防护的废液罐中，在废液罐里，》文射性可以衰减而不对 操作员产生辐射。适用于该的酸的水溶液包括例如氢氯酸、石克酸或硝酸的无 机酸水溶液。适用于该的4i的水溶液包括金属氢氧化物的水溶液。金属 氢氧化物合适地是在溶液中以0. 2M到10M之间的浓度存在，合适地以 0. 5-5M,更合适地以l-3M,例如2M存在的石咸金属氢氧化物(如氢氧化 钠或氢氧化钾)，或者碱土金属氢氧化物(如镁或钙)。金属氢氧化物优 选地为氢氧化钠或氬氧化钾。氧化铝可以为中性氧化铝或酸性氧化铝，而且优选地为酸性氧化铝。 该氧化铝适合以颗粒尺寸为10-500(im的粉末形态使用。可用于吸收氟化 物的市售氧化铝包括Waters S印-Pak⑧，或Alltech Maxiclean 或 Extract-clean 。氧化铝洗涤要在升高温度下进行。即在4(TC和酸或碱的水溶液(如 金属氢氧化钠水溶液)的沸点之间的温度进行，优选地在大约80°C，如 7 5 °C-8 0 °C进行。这种升高温度可以让氧化铝与经加热的酸或碱的水溶液 如金属氢氧化物水溶液接触来获得，也可以在氧化铝与酸或碱的水溶液 如金属氢氧化物水溶液接触前和/或接触期间，用外热源对氧化铝进行加 热来获得。在本专利技术的一实施方案中，该酸或碱的水溶液(如金属氬氧化物溶 液)的加热是通过分别加入石咸或酸的水溶液，使得发生中和;汰热放热产 生热量来实现的。这种实施方案具有避免需要针对氧化铝的外热源的优 点，这在诸如自动放射合成设备之类的自动化合成仪器的设计中是重要 的。当酸的水溶液一皮用来加热石成的水溶液时，所述酸的水溶液适宜地为 无机酸水溶液(如-寿酸、氬氯酸、好u酸、醋酸等)，并且合适的浓度为 250mM-5M，如5Q0mM-2M。典型地，存在显著过量的金属氪氧化物溶液，这样，在加入酸后，金属氢氧化物的水平为0. 2-10M，更适合为1-3M，例 如2M。该洗涤步骤可以通过在容器中混合氧化铝和酸或^成的水溶液(如金 属氢氧化物水溶液)，然后通过过滤分离氧化铝来进行。备选地，和特别 适宜的是，当在自动合成设备中使用氧化铝时，氧化铝可以装在容器里， 酸或》威的水溶液(如金属氢氧化物水溶液)流动通过该容器。该酸或石威 的水溶液(如金属氢氧化物水溶液)可以作为连续流流动通过氧化铝， 例如以0. Iml/min-100ml/min的流动速度通过，或者以间歇流流动通过 氧化铝，这样可以保证在该筒上有足够的停留时间来进行反萃过程。如上述，在自动放射性合成领域中，该是特别有用的，比 如从氧化铝筒去除放射性氟化物如氟化物。在的这项应 用中，留在氧化铝上的「F]氟化物的数量尽可能的低是重要的，因此， 在反萃过程后保留在氧化铝上的氟化物的数量要比被去除的数量更 为重要。如本领域技术人员所理解的，氧化铝可以装在任何合适的容器里， 比如塑料或金属柱、筒或注射筒里，在本文中所述容器和氧化铝也被 称为"氧化铝筒"。参照附图说明图1来描述本专利技术的一个实施方案，图1为代表性的放射性 氟化作用设备的 一部分的示意图，其中可以进行下述工艺步骤。图1显示连接在自动合成设备上(未完全显示)的用虛线示意 性表示的匣子1。该合成设备可以包括在用于在匣子中进行合成的领域 中已知的泵，传动装置(actuators),传感器和控制工具。匣子1包括 延长的流体通道4、与其相连的容器槽如一个或多个容器2、注射器6、 反应容器8、和筒10， 12。该合成设备还包括被安排用来加热容器12和 /或14的热源16。图2显示的是与图1的设备等价的设备，其中匣子1 还包括被安排用来加热容器12和/或14的热源16。(i)放射性标识剂的制备。在本专利技术的一方面中，当该设备被用来进行放射氟化作用时，放射性标识剂为18r， "r可以通过 对富含18o的水进行辐照，然后在离子交换盒上进行捕获而制得。该》文射性标识剂可以通过相转移剂如Kryptofix 2.2.2、无扭J咸 如碳酸钾、和合适的质子惰性溶剂如乙腈来洗脱"r来制备。这样的反应剂和溶剂装在容器2、合适的小瓶或注射器中(它们可以组成匣子1的一部分或在进行合成过程前被操作员连接在该匣 子上)。反应剂和溶剂可以通过在系统内控制压力(正压或负压)自动地或手动地传送通过流体通道4,例如通过泵(未显示)或 注射器6或用惰性气体(如氮)。(ii) 放射性标识剂和放射性标识底物之间的反应。在本 专利技术的一方面中，放射性标识底物包括离去基团，如烷基-、卤 代烷基-、或芳基-磺酸盐，该离去基团被亲核试剂如"r替换。 一种常用的放射性标识底物是1, 3，4，6-四氧乙酰基-2-氧-三氟 甲烷磺酰基-(3 -D-吡喃甘露糖(一般称为甘露糖三氟曱磺酸酯(mannose triflate))，其在FDG合成中被用作前体。这 样的反应可以在溶液相或固本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反萃氧化铝的方法，该方法包括在升高温度下用酸或碱的水溶液洗涤所述氧化铝。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：NJ奥斯博恩，J格里格，
申请(专利权)人：通用电气健康护理有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]