氧化钴超细粉末的制备方法技术

一种氧化钴超细粉末，其特征是：所述的氧化钴的物相为α－Ｃｏ↓［３］Ｏ↓［４］，钴含量为７０～７３％，ｄ↓［５０］＝０．１～１μｍ，松装密度０．２－０．５ｇ／ｃｍ↑［３］。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
氧化钴超细粉末及其制备方法
本专利技术属于制备电子工业用氧化钴领域，特别涉及掺杂于制作避雷器、热敏电阻、压敏电阻、显像管玻壳等电子元件材料的氧化钴粉末及其制备方法。
技术介绍
氧化钴作为电子功能陶瓷掺杂材料，除了对其化学成分有很高要求外，对其颗粒的晶体结构、形貌、团聚状态、粒径、粒度分布、比表面积等物理性能也有一些特殊要求。我国化工产品中，氧化钴粉末的制备方法一般是用钴的碳酸盐、硝酸盐或氢氧化物为原料，经煅烧得到。也有的是以氯化钴为原料，加入草酸铵生成草酸钴沉淀，再在空气中煅烧而得。由上述方法得到的产品，碱金属、碱土金属和氯根离子的含量较高，粒度粗，分布也不均匀，因此不符合电子元件掺杂粉体材料的要求。液相沉淀法是把沉淀剂加入到金属盐溶液中(或者反过来加)后将沉淀进行热处理。中国专利CN 1094903C公开了采用含羧基化合物沉淀钴盐得到氧化钴(II)，主要应用于电化学二次电池中的电极材料。日本专利JP2208227A公开了一种制备低密度氧化钴的方法，该方法以氯化钴溶液为原料与草酸或草酸铵反应生成碱性碳酸钴，或以硝酸钴溶液为原料与重碳酸碱反应生成碱性碳酸钴，然后在加入草酸生成草酸钴，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化钴超细粉末，其特征是：所述的氧化钴的物相为α-Co3O4，钴含量为70～73％，d50＝0.1～1μm，松装密度0.2-0.5g/cm3。2.一种如权利要求1所述的氧化钴超细粉末的制备方法，其特征是：所述的方法包括以下步骤：(1).钴盐溶液制备：将硝酸加入金属钴中制得硝酸钴溶液，溶液中的钴含量控制在100～300g/L，游离酸控制在10g/L以下；(2).碳酸氢铵溶液制备：将碳酸氢铵用水溶解；(3).液相合成：将步骤(2)制备的碳酸氢铵溶液加入到反应釜中，搅拌，将步骤(1)的硝酸钴溶液加入到碳酸氢铵溶液中，控制加入的铵钴重量比在1.5～4.0的范围内；(4).过滤洗涤：将步骤(3)反应生成的碳酸钴...

【专利技术属性】
技术研发人员：白厚善，
申请(专利权)人：北京当升材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：