真空吸平装置及含其的料片检测/移载设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空吸平装置及含其的料片检测/移载设备。该真空吸平装置具有一吸附载台，一真空气室，以及一可调整治具。该吸附载台包含有一真空吸附平面，以及多数个设置于该真空吸附平面上的吸孔。该真空气室具有一相邻于该吸附载台的吸孔一侧的气体导流面，以及一对该气体导流面提供负压的真空吸引单元。该可调整治具具有一可藉由第一调整机构调整并沿第一方向移动的第一遮板，以及一可藉由第二调整机构调整并沿第二方向移动的第二遮板，遮蔽该真空吸附平面上的部分吸孔，以界定一料片吸附区域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关于一种真空吸平装置，以及含有该真空吸平装置的料片检测设备和料片移载设备。
技术介绍
自动光学检查(Automated Optical Inspection,AOI)泛指运用机器视觉做为检测标准的技术，比起公知的人眼检测具有高速高精密度的优点。应用层面可涵盖至高科技产业的研发、制造品管，以至国防、民生、医疗、环保、电力或其它的相关领域。在自动光学检测领域中，欲对料片进行检测，常见的方式是藉由将料片装设于载台上，藉由抽真空的手段对该载台提供负压，藉由载台上的气孔将料片吸附于载台上。然而，部分特殊材质的料片经由气孔吸持后，于料片的边缘常会产生翘曲的问题，导致影像侦测时所拍摄的料片影像常有失真的情形。因此，为解决上述问题，中国台湾第M449343号专利揭示一种用于平整料片的真空吸平装置，该真空吸平装置主要具有气室、载台及遮蔽治具。所述的气室包含气体导流面及真空吸引单元，所述的载台具有多数第一吸孔。其中载台设置于气室上而相邻于气体导流面，且第一吸孔连通于气体导流面。所述的遮蔽治具具有承载区。其中遮蔽治具设置于载台上，承载区对应料片的面积设置，而用以承载料片。遮蔽治具遮蔽一部分的第一吸孔，承载区具有多数第二吸孔，第二吸孔对应于另一部分的第一吸孔而连通于气体导流面，真空吸引单元对气体导流面抽气，而吸持承载区上的料片。藉由上述配置，可增进真空吸附设备整平料片的效果，解决公知容易发生料片边缘翘曲的问题。但，上述真空吸平装置虽可有效的解决料片边缘翘曲的问题，然而，所述的遮蔽治具常需要针对不同尺寸的料片个别进行客制化的设计，于实务上操作时常有不便之处。专利技术内容本专利技术目的在于解决公知技术中对应不同料片需客制化不同遮蔽治具而导致于实务操作上常有不便的问题。本专利技术提供一种真空吸平装置，用以吸附并整平料片，该真空吸平装置具有一吸附载台，一真空气室，以及一可调整治具。该吸附载台具有一真空吸附平面，以及多数个设置于该真空吸附平面上的吸孔。该真空气室设置于该吸附载台相对该真空吸附平面的另一侧，该真空气室具有一相邻于该吸附载台的吸孔一侧的气体导流面，以及一或多数个对该气体导
流面提供负压的真空吸引单元。该可调整治具具有对应设置于该真空吸附平面或设置于该气体导流面一侧的第一遮板及第二遮板，该第一遮板可藉由第一调整机构调整并沿第一方向移动，该第二遮板可藉由第二调整机构调整并沿第二方向移动，遮蔽该真空吸附平面上的吸孔，以界定一料片吸附区域。进一步地，该第一遮板及该第二遮板分别相对地设置于该吸附载台的该真空吸附平面及该气体导流面的一侧。进一步地，该第一调整机构具有一或多数个固定该第一遮板的定位机构，一设置于该定位机构一侧以限制该定位机构沿一路径移动的轨道部，以及一设置于该轨道部一侧以带动该定位机构沿该路径移动的驱动装置。进一步地，该轨道部成对设置于该第一遮板的两侧，该定位机构具有设于二轨道上的定位块，以及一设置于成对的该定位块间并锁固该第一遮板的固定板。进一步地，该第二调整机构具有一或多数个固定该第二遮板的定位机构，一设置于该定位机构一侧以限制该定位机构沿一路径移动的轨道部，以及一设置于该轨道部一侧以带动该定位机构沿该路径移动的驱动装置。进一步地，该轨道部成对设置于该第二遮板的两侧，该定位机构具有设于二轨道上的定位块，以及一设置于成对的该定位块间并锁固该第二遮板的固定板。进一步地，该驱动装置具有至少二个以上的皮带轮，一绕设于该皮带轮上并供该定位机构一端固定的皮带，以及一带动该皮带轮枢转的马达。进一步地，该吸孔相互间呈等间隔排列。进一步地，该吸孔由二侧延伸而略呈狭长型。本专利技术另一目的，在于提供一种料片检测设备，其配置有如上所述的真空吸平装置，该料片检测设备包含有一输料履带，一影像撷取装置，以及该真空吸平装置。该输料履带供该料片沿一传送路径移动。该输料履带具有一设置于该输料履带一或二侧，带动该输料履带前进的转动辊，以及多数个布设于该输料履带表面上的导风孔。该影像撷取装置设置于该输料履带的一侧，用以拍摄一取像区域上的该料片。其中，所述的真空吸平装置设置于该输料履带相对该影像撷取装置的另一侧，于该料片透过该输料履带移动至该取像区域时，该真空吸平装置吸平该料片以供另一侧的该影像撷取装置拍摄。进一步地，该转动辊具有一供该输料履带绕设的滚轮，一设置于该滚轮中以带动该滚轮旋转的枢轴，以及一设置于该枢轴一侧以带动该枢轴旋转的驱动装置。进一步地，该吸孔的面积大于该导风孔的面积。本专利技术另一目的，在于提供一种料片移载设备，配置有如上所述的真空吸平装置，该料片移载设备具有一机座，一或多数个连接臂，一驱动装置，以及该真空吸平装置。该连接臂藉由一枢转手段、一多轴移动手段或一水平移动手段结合于该机座上。该驱动装置连接于该枢转手段、该多轴移动手段或该水平移动手段以操作该连接臂沿至少一传送路径移动。其中，所述真空吸平装置设置于该连接臂上，用以吸附该料片，该驱动装置带动该连接臂将该料片沿该传送路径移载至目标位置。因此，本专利技术比起公知技术具有以下优势效果：1.本专利技术藉由可调整治具，可弹性控制料片吸附区域的面积，可对应不同尺寸的料片进行调整，省去客制化遮蔽治具产生的不便。2.本专利技术的吸附载台上的吸孔大于该输料履带上导风孔，且该吸孔呈狭长型的设计，使吸孔得以与该导风孔相互重合。附图说明图1，本专利技术真空吸平装置的上侧示意图。图2，本专利技术真空吸平装置的侧面示意图。图3，本专利技术真空吸平装置的剖面示意图。图4，本专利技术真空吸平装置的局部放大示意图。图5-1至图5-2，表示料片吸附区域的调节方式。图6-1至图6-2，表示料片吸附区域的调节方式。图7，本专利技术第一实施态样的上侧示意图。图8，本专利技术第一实施态样的侧面示意图。图9，表示输料履带的局部放大示意图。图10，本专利技术第二实施态样的上侧示意图。图11，本专利技术第二实施态样的侧面示意图。符号说明：100 真空吸平装置； 10 吸附载台；20 真空气室； 21 真空吸引单元；30 可调整治具； 31 第一调整机构；311 第一遮板； 312 定位机构；3121 定位块； 3122 固定板；313 轨道部； 314 驱动装置；3141 皮带轮； 3142 皮带；3143 马达； 32 第二调整机构；321 第二遮板； 322 定位机构；3221 定位块； 3222 固定板；323 轨道部； 324 驱动装置；3241 皮带轮； 3242 皮带；3243 马达； R1 料片吸附区域；R2 料片吸附区域； P 料片；H 吸孔； T1 真空吸附平面；T2 气体导流面； D1 第一方向；D2 第二方向； L1 间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空吸平装置，用以吸附并整平料片，其特征在于，该真空吸平装置包含：一吸附载台，具有一真空吸附平面，以及多数个设置于该真空吸附平面上的吸孔；一真空气室，设置于该吸附载台相对该真空吸附平面的另一侧，该真空气室具有一相邻于该吸附载台的吸孔一侧的气体导流面，以及一或多数个对该气体导流面提供负压的真空吸引单元；以及一可调整治具，具有设置于该真空吸附平面或设置于该气体导流面一侧的第一遮板及第二遮板，该第一遮板藉由第一调整机构调整并沿第一方向移动，该第二遮板藉由第二调整机构调整并沿第二方向移动，遮蔽该真空吸附平面上的部分吸孔，以界定一料片吸附区域。

【技术特征摘要】
2015.01.05 TW 1041000481.一种真空吸平装置，用以吸附并整平料片，其特征在于，该真空吸平装置包含：一吸附载台，具有一真空吸附平面，以及多数个设置于该真空吸附平面上的吸孔；一真空气室，设置于该吸附载台相对该真空吸附平面的另一侧，该真空气室具有一相邻于该吸附载台的吸孔一侧的气体导流面，以及一或多数个对该气体导流面提供负压的真空吸引单元；以及一可调整治具，具有设置于该真空吸附平面或设置于该气体导流面一侧的第一遮板及第二遮板，该第一遮板藉由第一调整机构调整并沿第一方向移动，该第二遮板藉由第二调整机构调整并沿第二方向移动，遮蔽该真空吸附平面上的部分吸孔，以界定一料片吸附区域。2.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，该第一遮板及该第二遮板分别相对地设置于该吸附载台的该真空吸附平面及该气体导流面的一侧。3.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，该第一调整机构具有一或多数个固定该第一遮板的定位机构，一设置于该定位机构一侧以限制该定位机构沿一路径移动的轨道部，以及一设置于该轨道部一侧以带动该定位机构沿该路径移动的驱动装置。4.如权利要求3所述的真空吸平装置，其特征在于，该轨道部成对设置于该第一遮板的两侧，该定位机构具有分设于二轨道上的定位块，以及一设置于成对的该定位块间并锁固该第一遮板的固定板。5.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，该第二调整机构具有一或多数个固定该第二遮板的定位机构，一设置于该定位机构一侧以限制该定位机构沿一路径移动的轨道部，以及一设置于该轨道部一侧以带动该定位机构沿该路径移动的驱动装置。6.如权利要求5所述的真空吸平装置，其特征在于，该轨道部成对设置于该第二遮板的两侧，该定位机构具有设于二轨道上的定位...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹嘉骏，蔡鸿儒，王人杰，徐志宏，
申请(专利权)人：由田新技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71