防污片制造技术

技术编号:13971707 阅读:53 留言:0更新日期:2016-11-10 20:04
本发明专利技术提供一种防污片,其具有包含(聚)硅氮烷类化合物的中间层(X)和叠层于该中间层(X)上的防污层(Y),防污层(Y)是由含有特定的4官能硅烷类化合物(A)和特定的3官能硅烷类化合物(B)的防污层形成用组合物形成的层,其中,该防污层形成用组合物中,(B)成分的含量相对于(A)成分100摩尔%为8~90摩尔%。该防污片具备表面状态和固化性良好的防污层,水滴的滑落加速度大,具有能使水滴瞬间滑落的优异的防水性,而且层间密合性也优异。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种防污片
技术介绍
通常,期望在建筑用窗玻璃、汽车用窗玻璃、车辆、飞机、船舶等的防风玻璃、水槽、船底窗、防止海洋生物附着于船底用膜、隔音壁等道路用面板、设置于浴室等的镜、玻璃容器、玻璃装饰品等成型品的表面不附着水滴、污垢等妨碍视野的物质。通过用由防污性物质形成的被膜对这样的成型品的表面进行包覆,或者对这样的成型品的表面粘贴防污片,可以赋予防水性、防污性。为了对成型品赋予防水性,已知在成型品的表面形成含有氟树脂等含氟化合物的层。例如,在专利文献1中公开了一种由叠层体包覆玻璃等基材而形成的防水膜包覆物品,所述叠层体具有由无机化合物形成的基底层和包覆该基底层的表面且由含氟化合物形成的防水膜。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2010-285574号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是,专利文献1所记载的防水膜包覆物品具有由含氟化合物形成的防水膜,因此,从环境保护的观点出发不优选。另外,通常由含氟化合物形成的防水膜存在如下倾向:水滴的滑落加速度小,在水滴附着于防水膜的表面上时,至水滴滑落时需要花费时间。因此,专利文献1所记载的防水膜包覆物品不适于要求使附着的水滴瞬间滑落的特性的用途。进而,对于具有防水性、防污性的防污片而言,要求待赋予防水性、防污性的层的表面状态、固化性良好,也要求层间密合性。本专利技术的目的在于提供一种防污片,其具备表面状态和固化性良好的防污层,水滴的滑落加速度大,具有能使水滴瞬间滑落的优异的防水性,且层间密合性也优异。用于解决课题的方案本专利技术人等发现,具有含有(聚)硅氮烷类化合物的中间层和防污层的防污片可以解决上述课题,从而完成了本专利技术,所述防污层是在该中间层的表面上通过以给定比率含有具有特定结构的2种硅烷类化合物的组合物形成的。即,本专利技术提供下述[1]~[10]。[1]一种防污片,其具有包含(聚)硅氮烷类化合物的中间层(X)和叠层于中间层(X)的表面上的防污层(Y),其中,防污层(Y)是由防污层形成用组合物形成的层,所述防污层形成用组合物含有下述式(a)所示的硅烷类化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷类化合物(B),该防污层形成用组合物中,(B)成分的含量相对于(A)成分100摩尔%为8~90摩尔%,式(a):Si(OR1)p(X1)4-p[式(a)中,R1表示碳原子数1~6的烷基,X1表示卤原子。存在多个R1、X1时,该多个R1、X1各自互为相同或不同。P表示0~4的整数。]式(b):R2Si(OR3)q(X2)3-q[式(b)中,R2表示未取代或具有取代基的碳原子数4~14的烷基,R3表示碳原子数1~6的烷基,X2表示卤原子。存在多个R3、X2时,该多个R3、X2各自互为相同或不同。q表示0~3的整数。][2]根据上述[1]所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物中的(A)成分含有所述式(a)中p为4的硅烷类化合物。[3]根据上述[1]或[2]所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物中的(B)成分含有所述式(b)中q为3的硅烷类化合物。[4]根据上述[1]~[3]中任一项所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物还含有酸催化剂(C)。[5]根据上述[4]所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物中的(C)成分包含选自盐酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、溴酸、对甲苯磺酸及三氟乙酸中的1种以上。[6]根据上述[4]或[5]所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物中的(A)成分、(B)成分和(C)成分的总含量相对于该防污层形成用组合物的总量为50~100质量%。[7]根据上述[1]~[6]中任一项所述的防污片,其中,中间层(X)中含有的所述(聚)硅氮烷类化合物为具有下述式(1)所示的重复单元的化合物。[化学式1][式(1)中,RA、RB和RC各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烯基、芳基或烷基甲硅烷基。并且,烷基、环烷基、烯基、芳基及烷基甲硅烷基任选进一步具有取代基。][8]根据上述[1]~[7]中任一项所述的防污片,其具有中间层(X)叠层于基材上、且进一步在中间层(X)的表面上叠层防污层(Y)而成的结构。[9]根据上述[1]~[8]中任一项所述的防污片,其中,中间层(X)的厚度为0.02~50μm。[10]根据上述[1]~[9]中任一项所述的防污片,其中,防污层(Y)是将在中间层(X)的表面上涂布所述防污层形成用组合物而形成的涂膜干燥所形成的层。专利技术的效果本专利技术的防污片具备表面状态及固化性良好的防污层,水滴的滑落加速度大,具有能使水滴瞬间滑落的优异的防水性,且层间密合性也优异。附图说明图1是示出本专利技术的防污片的结构的一个例子的具有基材的防污片的剖面图。图2是示出本专利技术的防污片的结构的一个例子的不具有基材的防污片的剖面图。符号说明1a、1b、1c、2a、2b、2c 防污片11 中间层(X)12 防污层(Y)13 基材13a 底涂层14 粘合剂层15、15’ 剥离材料具体实施方式在本说明书的记载中,“数均分子量(Mn)”是用凝胶渗透色谱(GPC)法测定的换算成标准聚苯乙烯的值,具体而言,是基于实施例中记载的方法测定的值。另外,在本说明书的记载中,例如,“(聚)硅氮烷类化合物”是指“硅氮烷类化合物”和“聚硅氮烷类化合物”两者的用语,其它类似用语也同样。[防污片的结构]本专利技术的防污片具有中间层(X)和叠层于中间层(X)的表面上的防污层(Y)。在本专利技术的防污片的结构中,只要具有直接叠层了中间层(X)和防污层(Y)的结构即可,没有特别限制。图1及2是示出本专利技术的防污片的结构的一个例子的防污片的剖面图。作为本专利技术的防污片的结构的一个例子,可以举出如图1(a)所示的具有在基材13上叠层中间层(X)11、且进一步在中间层(X)11的表面上叠层防污层(Y)12而成的结构的防污片1a。从在保存防污片时保护防污层(Y)的表面的观点考虑,可以在该防污片1a的防污层(Y)12露出的表面上进一步设置剥离材料。另外,如图1(b)所示,为了提高防污片1a的基材13与中间层(X)11的密合性,可以使用带底涂层的基材作为基材,并制成在基材13与中间层(X)11之间设有底涂层13a的防污片1b。另外,如图1(c)所示,可以制成在防污片1a的基材13的与叠层有中间层(X)11的面相反侧的表面上设有粘合剂层14及剥离材料15的防污片1c。需要说明的是,还可以在防污片1c的防污层(Y)12露出的表面上设置剥离材料。另外,本专利技术的防污片可以不具有基材。作为这种不具有基材的防污片的结构的一个例子,可以举出如图2(a)所示的具有在剥离材料15上叠层中间层(X)11、且进一步在中间层(X)11的表面上叠层防污层(Y)12的而成的结构的防污片2a。需要说明的是,在图2(a)所示的防污片2a的结构中,剥离材料15设置于中间层(X)11的表面上,但该剥离材料15也可以叠层于防污层(Y)的表面上。另外,如图2(b)所示,可以制成由2片剥离材料15、15’夹持中间层(X)11及防污层(Y)12而成的防污片2b。另外,如图2(c)所示,可以制成在中间层(X)11与剥离材料15之间设有粘合剂层14的防污片2c。需要说明的是,也可以在图2(c)所示的防污片2c的防污层(Y)12的表面上设置剥离材料。通常的防污片大多本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防污片,其具有包含(聚)硅氮烷类化合物的中间层(X)和叠层于中间层(X)的表面上的防污层(Y),其中,防污层(Y)是由防污层形成用组合物形成的层,所述防污层形成用组合物含有下述式(a)所示的硅烷类化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷类化合物(B),该防污层形成用组合物中,(B)成分的含量相对于(A)成分100摩尔%为8~90摩尔%,式(a):Si(OR1)p(X1)4‑p式(a)中,R1表示碳原子数1~6的烷基,X1表示卤原子,存在多个R1、X1时,该多个R1、X1各自互为相同或不同,p表示0~4的整数,式(b):R2Si(OR3)q(X2)3‑q式(b)中,R2表示未取代或具有取代基的碳原子数4~14的烷基,R3表示碳原子数1~6的烷基,X2表示卤原子,存在多个R3、X2时,该多个R3、X2各自互为相同或不同,q表示0~3的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.27 JP 2014-065911;2015.01.16 JP 2015-007001.一种防污片,其具有包含(聚)硅氮烷类化合物的中间层(X)和叠层于中间层(X)的表面上的防污层(Y),其中,防污层(Y)是由防污层形成用组合物形成的层,所述防污层形成用组合物含有下述式(a)所示的硅烷类化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷类化合物(B),该防污层形成用组合物中,(B)成分的含量相对于(A)成分100摩尔%为8~90摩尔%,式(a):Si(OR1)p(X1)4-p式(a)中,R1表示碳原子数1~6的烷基,X1表示卤原子,存在多个R1、X1时,该多个R1、X1各自互为相同或不同,p表示0~4的整数,式(b):R2Si(OR3)q(X2)3-q式(b)中,R2表示未取代或具有取代基的碳原子数4~14的烷基,R3表示碳原子数1~6的烷基,X2表示卤原子,存在多个R3、X2时,该多个R3、X2各自互为相同或不同,q表示0~3的整数。2.根据权利要求1所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物中的(A)成分含有所述式(a)中p为4的硅烷类化合物。3.根据权利要求1或2所述的防污片,其中,所述防污层形成用组合物中...

【专利技术属性】
技术研发人员:广永麻贵小野义友杉野贵志宫田壮蔺藤和实穗积笃浦田千寻
申请(专利权)人:琳得科株式会社独立行政法人产业技术总合研究所
类型:发明
国别省市:日本;JP

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