高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃制造技术

技术编号:13865277 阅读:65 留言:0更新日期:2016-10-19 20:20
高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,在玻璃基片(1)上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3)、银膜层(4)、第二镍铬膜层(5)、第二氧化锌铝膜层(6)和锡氧化硅膜层(7);优化配置覆盖层结构减少银基镀膜靶材中的使用,降低成本且节约能源,能够在低辐射性能不变的条件下有效提高耐磨和耐湿性,减少损耗,提高使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜玻璃领域,尤其是高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改变玻璃的光学性能,满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性可分为:热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。Low-E玻璃又称低辐射玻璃,是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性,具有优异的隔热效果和良好的透光性。太阳辐射能量的97%集中在波长为0.3-2.5um范围内,这部分能量来自室外;100℃以下物体的辐射能量集中在2.5um以上的长波段,这部分能量主要来自室内。通过合适的方法和工艺,贵金属Ag膜不同程度上可实现可见光透过率高的同时有较好的隔热性能,但金属Ag膜存在易氧化和硫化等耐候性问题。由于SnO2基薄膜的电阻率低、在可见光区的透过率高和优异的光电特性,使得SnO2及其掺杂化合物薄膜广泛应用于透明电极材料、液晶显示器、太阳能电池、光电子器件、热反射镜等领域。通过引入TiO2-SiO2复合层,可达到消减SnO2:F(FTO)薄膜干涉色的作用,并且可以起到阻挡玻璃中Na+离子扩散进FTO薄膜中破坏FTO电学性能的作用。与传统的LOW-E玻璃相比,银基LOW-E玻璃具有更加优良的光学和热学性能:反射率更低,可使建筑物外视效果更加通透明亮,并有效减少眩光现象;辐射率和遮阳系数更低,具有更好的保温和隔热能力。在新型银基结构LOW-E玻璃中,采用AZO膜系可以有效提高可加光透过率和阻挡红外光进入。现有技术中,低辐射镀膜玻璃常作为一种国家大力推广的绿色建材被当作建筑物幕墙玻璃和门窗玻璃使用,可起到冬暖夏凉的效果,节省能源消耗。但在长期应用中发现,现有的银基低辐射镀膜玻璃最外层采用的都是硬度较高的氮化硅膜层,在加工过程中因耐磨性差易出现划伤而导致产生较高的次品率,此外,现有银基低辐射镀膜玻璃因耐湿性不高导致玻璃的银膜层易在高温高湿环境中发生氧化或与其他物质反应,影响其使用寿命。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,能够在低辐射性能不变的条件下,有效提高耐磨和耐湿性,减少损耗,克服现有技术的缺陷和不足,提高使用寿命。本技术的目的将通过以下技术措施来实现:包括玻璃基片、第一氧化锌铝膜层、第一镍铬膜层、银膜层、第二镍铬膜层、第二氧化锌铝膜层和锡氧化硅膜层;在玻璃基片上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层、第一镍铬膜层、银膜层、第二镍铬膜层、第二氧化锌铝膜层和锡氧化硅膜层;在玻璃基片的表面沉积第一氧化锌铝膜层,厚度为30~80nm;第一镍铬膜层厚度为2.0~3.5nm;银膜层厚度为8~15nm;第二镍铬膜层厚度为2.0~3.5nm;第二氧化锌铝膜层厚度为30~80nm;锡氧化硅膜层厚度为2.5~5.0nm。尤其是,在玻璃基片的表面形成六层膜层的结构,第一氧化锌铝膜层厚度为50nm;第一镍铬膜层厚度为3.0nm;银膜层厚度为10nm;第二镍铬膜层厚度为3.0nm;第二氧化锌铝膜层厚度为50nm;锡氧化硅膜层厚度为3.5nm。本技术的优点和效果:引入新材料制备覆盖层,优化配置覆盖层结构,减少银基镀膜靶材中的使用,降低成本且节约能源,能够在低辐射性能不变的条件下有效提高耐磨和耐湿性,减少损耗,提高使用寿命。附图说明图1为本技术实施例1结构示意图。附图标记包括:玻璃基片1、第一氧化锌铝膜层2、第一镍铬膜层3、银膜层4、第二镍铬膜层5、第二氧化锌铝膜层6、锡氧化硅膜层7;具体实施方式本技术原理在于,通过适当的工艺和方法制备具有高耐磨耐湿性且不影响其耐热性和可见光透过率的新型银基低辐射镀膜玻璃。本技术包括:玻璃基片1、第一氧化锌铝膜层2、第一镍铬膜层3、银膜层4、第二镍铬膜层5、第二氧化锌铝膜层6和锡氧化硅膜层7。本技术,在玻璃基片1上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层2、第一镍铬膜层3、银膜层4、第二镍铬膜层5、第二氧化锌铝膜层6和锡氧化硅膜层7。下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明。实施例1:如附图1所示,在一玻璃基片1表面由下而上依次镀上第一氧化锌铝膜层2、第一镍铬膜层3、银膜层4、第二镍铬膜层5、第二氧化锌铝膜层6和锡氧化硅膜层7,即在玻璃基片1的表面形成六层膜层的结构,具体实施例如下:选择真空环境,通过磁控溅射,在玻璃基片1表面沉积六层膜,在镀膜室抽真空至2.0X10-4Pa以下,再充入工艺气体,使镀膜室压力稳定在0.2~1.0Pa,优选0.5Pa;将溅射源
送电,靶材开始溅射,然后送入玻璃基片1,并将相应的靶材原子或其化合物依次沉积到玻璃基片表面形成膜层;在第一个镀膜室充入氮气和氩气,靶材为氧化锌铝AZO靶,在玻璃基片的表面沉积第一氧化锌铝膜层2,厚度为50nm;在第二个镀膜室充入氩气,靶材为镍铬靶,在第一氧化锌铝膜层2上沉积第一镍铬膜层3,厚度为3.0nm;在第三个镀膜室充入氩气,靶材为银靶,在第一镍铬膜层3上沉积银膜层4,厚度为10nm;在第四个镀膜室充入氩气,靶材为镍铬靶,在银膜层4上沉积第二镍铬膜层5,厚度为3.0nm;在第五个镀膜室充入氧气和氩气,靶材为氧化锌铝AZO靶,在第二镍铬膜层5上沉积第二氧化锌铝膜层6,厚度为50nm;在第六个镀膜室充入氧气和氩气,靶材为TSO靶,在第二氧化锌铝膜层6上沉积锡氧化硅膜层7,厚度为3.5nm;所有膜层全部镀完之后,向镀膜室中充入工艺气体,取下成品新型银基低辐射镀膜玻璃,再抽真空保护镀膜室。前述中,耐湿性测试是将镀膜玻璃放置在50℃、95%湿度的环境条件下一周,观察膜表面是否氧化以及氧化程度。在本实施例中,当六层膜层都沉积完毕即生成所述的玻璃,其中:第一层和五层采用氧化锌铝AZO膜为介质层,有效调节玻璃的颜色和可见光透光率;第二和四层膜采用镍铬NiCr膜为保护层,有效提高其与银膜的附着力,保障银膜层在高温下不被氧化,同时也不会与其它物质发生反应,进而使所述玻璃在钢化后还能够具备膜层不变色和辐射率不变化的特性;第三层采用银膜,使所述玻璃具备非常低的辐射率;第六层采用TSO膜为覆盖层,显著提高玻璃基片表面膜层的整体耐磨耐湿性能。前述中,TSO为锡氧化硅。前述中,在制作过程中选择真空环境,通过磁控溅射在玻璃基片表面沉积六层膜,要求在镀膜室抽真空至2.0X10-4Pa以下,再充入工艺气体使镀膜室压力稳定在0.2~1.0Pa,优选0.5Pa,然后对溅射源送电,操作靶材开始溅射,依次将相应的靶材原子或其化合物沉积到玻璃基片1表面形成相应的膜层。本技术中,银基LOW-E膜层结构包括银层、底层介质层、顶层介质层、保护层和覆盖层,其中,银层赋予玻璃阳光以及热学性能、反射红外光,介质层在可见光范围内反抗射银层,作为银的成核层,介质层具有化学和机械稳定性,在可见光范围内无吸收,且环境友好,低成本、无毒性;保护层在溅射过程中保护银膜、提供稳定性且在高温成膜时保持稳定;覆盖层是顶层膜的光学扩展,提供额外的稳定性。本技术中,玻璃基片1的表面由下而上依次AZO层、镍铬膜层、银层、镍铬层、AZO层、TSO层,膜层结构为TSO/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Glass。本技术本文档来自技高网
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【技术保护点】
高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片(1)、第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3)、银膜层(4)、第二镍铬膜层(5)、第二氧化锌铝膜层(6)和锡氧化硅膜层(7);其特征在于,在玻璃基片(1)上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3)、银膜层(4)、第二镍铬膜层(5)、第二氧化锌铝膜层(6)和锡氧化硅膜层(7);在玻璃基片(1)的表面沉积第一氧化锌铝膜层(2),厚度为30~80nm;第一镍铬膜层(3)厚度为2.0~3.5nm;银膜层(4)厚度为8~15nm;第二镍铬膜层(5)厚度为2.0~3.5nm;第二氧化锌铝膜层(6)厚度为30~80nm;锡氧化硅膜层(7)厚度为2.5~5.0nm。

【技术特征摘要】
1.高耐磨耐湿性银基低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片(1)、第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3)、银膜层(4)、第二镍铬膜层(5)、第二氧化锌铝膜层(6)和锡氧化硅膜层(7);其特征在于,在玻璃基片(1)上依次镀覆有第一氧化锌铝膜层(2)、第一镍铬膜层(3)、银膜层(4)、第二镍铬膜层(5)、第二氧化锌铝膜层(6)和锡氧化硅膜层(7);在玻璃基片(1)的表面沉积第一氧化锌铝膜层(2),厚度为30~80nm;第一镍铬膜层(3)厚度为2.0~3.5nm;银膜层(4)厚...

【专利技术属性】
技术研发人员:庄志杰曹兴民顾宗慧
申请(专利权)人:基迈克材料科技苏州有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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