本实用新型专利技术涉及印刷线路板蚀刻技术领域，具体涉及尤其涉及一种印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置，包括：蚀刻缸、复合导电高分子膜电解槽及再生缸，复合导电高分子膜电解槽包括由复合导电高分子膜分隔的阳极室和阴极室，阴极室与蚀刻缸连通，再生缸的溶液与蚀刻缸循环连通，再生缸的溶液与阴极室溶液连通、再生缸的气体与阳极室气体连通，再生缸后至少串联一二次再生缸。本实用新型专利技术通过串联二次再生缸，二次再生缸内对再生缸内未来得及反应的氯气进一步吸收，提高氯气利用率从而降低后续废气处理压力。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及印刷线路板蚀刻
，尤其涉及一种印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置。
技术介绍
全球PCB产业产值占电子元件产业总产值的四分之一，是各个电子元件细分产业中比重最大的产业，产业规模达400亿美元。同时，由于其在电子基础产业中的独特地位，已经成为当代电子元件业中最活跃的产业。蚀刻作为PCB制程中的重要工艺，酸性蚀刻液因为具有侧蚀小，速率易于控制和易再生等特点，被广泛应用。在蚀刻过程中，Cu2+与Cu作用生成Cu+。随着蚀刻反应的进行，Cu+数量越来越多，Cu2+减少，蚀刻液蚀刻能力很快下降，为了保持稳定蚀刻能力，需要加入氧化剂使Cu+尽快转化为Cu2+；同时当蚀刻缸内Cu2+浓度达到一定数值时或蚀刻缸的溶液超过一定体积时，需要及时排除部分蚀刻液以保证蚀刻工序的正常运转，该排除蚀刻液称之为蚀刻废液。为了对环境减少污染和达到一定的经济效益，通常使用循环再生的方法来代替之前直接处理回收铜的方法，而由于技术的不成熟，大部分循环再生方法没有广泛被使用，目前最主要的循环再生方法是离子膜电解再生法：此方法是用阴离子膜使阴极与阳极相隔开，利用电解时离子迁移的原理使氯离子迁移到阳极，阳极液与蚀刻缸循环生成氧化亚铜离子从而再生。但此方法在电解再生的过程中能耗大，离子膜的成本高且易破损，产生的氯气也不能回收，既造成
资源的浪费又污染环境。现有离子膜电解再生法在氯气利用率上，仅仅通过再生缸的方式实现氯气的再次吸收利用，氯气利用率较低，同时影响后续废气处理的压力问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种用于印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置，解决现有技术氯气利用率较低而影响废气处理压力的问题。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置，包括：蚀刻缸、复合导电高分子膜电解槽及再生缸，所述复合导电高分子膜电解槽包括由复合导电高分子膜分隔的阳极室和阴极室，所述阴极室与蚀刻缸连通，所述再生缸的溶液与蚀刻缸循环连通，再生缸的溶液与阴极室溶液连通、再生缸的气体与阳极室气体连通，其特征在于：所述再生缸后至少串联一二次再生缸。其中，优选方案为：所述二次再生缸的气体通过引流装置与再生缸连通。其中，优选方案为：所述再生缸通过气体引流装置与阳极室连通。其中，优选方案为：该装置还包括尾气吸收缸，所述二次再生缸通过气体引流装置与尾气吸收缸连通。其中，优选方案为：所述气体引流装置为射流器或喷射装置。本技术的有益效果在于，与现有技术相比，本技术通过至少一个二次再生缸，所述二次再生缸内的溶液和阴极室的溶液一致，而阴极室内的溶液的ORP氧化还原电位低，含有亚铜离子多，对氯气吸收效果好，这样可对再生缸内未来得及反应的氯气进一步吸收，提高氯气利用率从而降低后续废气处
理压力。附图说明下面将结合附图及实施例对本技术作进一步说明，附图中：图1是本技术印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置的第一实施例的结构示意图；图2是本技术印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置的第二实施例的结构示意图；图3是本技术印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置的第三实施例的结构示意图。图中主要标号说明：1、蚀刻缸，2、再生缸，3、复合导电高分子膜电解槽，4、尾气吸收缸，5、废气喷淋塔，31、阴极室，32、阳极室、61、第一气体导流装置，62、第二气体倒流装置，63、第三气体倒流装置，7、二次再生缸。具体实施方式现结合附图，对本技术的较佳实施例作详细说明。图1是本技术印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置第一实施例的结构示意图。如图1所示，本实施例的印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置包括蚀刻缸1、再生缸2、复合导电高分子膜电解槽3、以及尾气吸收缸4，电解槽3通过复合导电高分子膜分成阳极室31和阴极室32，再生缸2和蚀刻缸1循环连通，另一端借由第一气体引流装置61与复合导电高分子膜电解槽的阳极室31连
通，借由第一气体引流装置61将阳极室31中的氯气引流进入再生缸2，再生缸2的溶液来自于阴极液；本实施例的印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装还包括一二次再生缸7，二次再生缸7通过第二气体引流装置62和再生缸2的气体连通，从而将再生缸2的剩余氯气借由第二气体引流装置62引流进入二次再生缸7进行氯气的二次利用，二次再生缸7的剩余气体借由第三气体引流装置63将其引入尾气吸收缸4中，尾气吸收缸4的尾气借由与其连接的废气喷淋塔5收纳并且进行废气吸收处理。其中，蚀刻缸1与阴极室32连接并向其提供蚀刻液体，再生缸2和二次再生缸7都和阴极室32的溶液连通，利用阴极液体进行反应。其中，阴极室32和蚀刻缸1的蚀刻液相连通，该蚀刻液在阴极室32里析出单质铜，具体反应式表示为：Cu2++2e＝Cu，使蚀刻液中的铜离子浓度大幅度降低，阴极室32中的氯离子在电流作用下向阳极室迁移，并在阳极失去电子，生成氯气，具体反应式表示为：2CL--2e＝Cl2，由于氯气的强氧化作用，将阳极室31中的氯气通过第一气体引流装置61导入再生缸与亚铜离子反应生成二价铜离子，具体反应式表示为：Cl2+2CuCl＝2CuCl2，从而实现了酸性蚀刻液的再生。电解过程中生成的1mol氯气，本技术利用第一气体引流装置61将阳极室31中的氯气导入再生缸2，再生缸2的阴极液和阳极室31多余的氯气进行二次反应，应具体反应式表示为：Cl2+2CuCl＝2CuCl2，再生缸2再串联一二次再生缸7，二次再生缸7借由第二气体引流装置62将再生缸多余的氯气导入二次再生缸7内，二次再生缸7的溶液引自阴极液，这样，二次再生缸7对再生缸2内多余的氯气再次进行蚀刻反应，由于二次再生缸7内的溶液和阴极室32的溶液一致，而阴极室32内溶液的ORP氧化还原电位低，含有亚铜离
子多，对氯气吸收效果好，这样可对再生缸2内未来得及反应的氯气进一步吸收，提高氯气利用率从而降低后续废气处理压力。图2是本技术印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置第二实施例的结构示意图，如图2所示：实施例1中的第一气体引流装置61，第二气体引流装置62，以及第三气体引流装置63可以是射流器或喷射装置等气体倒流装置，当然，阳极室31和再生缸2、再生缸2和二次再生缸7、二次再生缸7和尾气吸收缸4也可以通过气体溢流的方式达到气体引流的目的。图3是本技术印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置第三实施例的结构示意图，如图3所示，本实施例包括第一二次再生缸71，该第一二次再生缸71通过第二气体引流装置62和再生缸2的气体连通；还包括第二二次再生缸72，该第二二次再生缸72通过第三气体引流装置63和第一二次再生缸71串联。这样，再生缸2的剩余氯气借由第二气体引流装置62引流进入第一二次再生缸71进行氯气的二次利用，第一二次再生缸71的剩余气体借由第三气体引流装置63将其引入第二二次再生缸72再次利用反应，第二二次再生缸72的剩余气体再借由第四气体引流装置64将其引入尾气吸收缸4中，尾气吸收缸4的尾气借由与其连接的废气喷淋塔5收纳并且进行废气吸收处理。本实施例中，再生缸2多余的氯气经过第一二次再生缸71以及第二二次再生缸72的吸收，且第一二次再生缸71和第二二次再生缸72内的溶液和阴本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置，包括：蚀刻缸、复合导电高分子膜电解槽及再生缸，所述复合导电高分子膜电解槽包括由复合导电高分子膜分隔的阳极室和阴极室，所述阴极室与蚀刻缸连通，所述再生缸的溶液与蚀刻缸循环连通，再生缸的溶液与阴极室溶液连通、再生缸的气体与阳极室气体连通，其特征在于：所述再生缸后至少串联一二次再生缸。
【技术特征摘要】
1.一种印刷线路板酸性蚀刻液循环再生装置，包括：蚀刻缸、复合导电高分子膜电解槽及再生缸，所述复合导电高分子膜电解槽包括由复合导电高分子膜分隔的阳极室和阴极室，所述阴极室与蚀刻缸连通，所述再生缸的溶液与蚀刻缸循环连通，再生缸的溶液与阴极室溶液连通、再生缸的气体与阳极室气体连通，其特征在于：所述再生缸后至少串联一二次再生缸。2.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：查长虹，林得发，吴超，
申请(专利权)人：深圳市新锐思环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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