The invention discloses a sodium chlorate type acid etching liquid offline regeneration system, including sodium chlorate preparation unit, electrolysis unit and sodium chlorate reuse unit, temporary tank, copper extraction electric element, regeneration unit, storage tank, electrolyte etching groove; the etching solution offline regeneration system, through the process of pipeline and transportation the pump is sequentially connected with a sodium chlorate preparation unit, electrolysis unit, sodium chlorate, reuse unit, temporary tank copper element, regeneration unit, storage tank, electrolyte etching groove; and through the controller to control the pump and valve, regulating and controlling the regeneration system of whole operation; the invention of electrolytic preparation unit sodium chlorate; direct electrolysis to extract copper from waste etching solution, and can regenerate the HClO
【技术实现步骤摘要】
一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统
本专利技术涉及一种PCB蚀刻液再生技术设备领域,特别涉及一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统。
技术介绍
随着信息技术的进步,社会对于电子产品的需求越来越大,印刷电路板(PCB)行业规模也与日俱增。而我国的PCB企业规模更是已经达到了世界第一,占全球总产量的45%—50%,取得了瞩目成就并且在未来还会持续扩大。在PCB生产过程中,每平米PCB的生产需要消耗2—2.5升的蚀刻液,所产生的蚀刻废液主要都是含有高浓度金属离子的化学药液,对环境危害极大;这些废液主要分为酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液两大类,其中酸性蚀刻废液的量大概占80%。市场上的酸性蚀刻工艺可以分为盐酸氯化铜体系、盐酸氯化铜+氯酸钠体系、盐酸氯化铜+双氧水体系三种蚀刻工艺,在生产过程中通过补加盐酸+空气、盐酸+氯酸钠、盐酸+双氧水和少量的添加剂来实现线路板板的连续蚀刻生产,大部分厂家使用的是NaClO3型酸性蚀刻废液。大多数设备都是提取出铜粉然后通过离心法分离出来。在电解过程中铜粉容易从极板脱落进入蚀刻液被蚀刻消耗,而且纯度和价格比铜板要低很多;有的方案提取出铜板是依靠先萃取再电解的方法,效率低、操作复杂、占地面积大同时影响对药液的循环再生使用。目前公布的方法大都是阳极再生技术,即依靠阳极电解氧化废液中的一价铜离子,同时产生氯气也会吸收回用氧化铜离子。对于氯气的控制通常采用ORP控制和加大电解液的流量以及废气吸收相结合的方式。该方法对整体系统本身以及客户端设备的密封性要求都非常高,而且在线系统药液流量大能耗高,再生液蚀刻能力比NaClO3型新鲜蚀刻液要弱很多。为此大 ...
【技术保护点】
一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统,其特征在于,包括氯酸钠制备单元、电解单元、钠离子回用单元、氯酸暂存槽、提铜电元、再生单元、电解液暂存槽、刻蚀槽、阴极腔、阳极腔、中间腔、输送泵、生产线、工艺管道;所述氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统,通过工艺管道和输送泵依次连接有氯酸钠制备单元、电解单元、钠离子回用单元、氯酸暂存槽、提铜电元、再生单元、电解液暂存槽、刻蚀槽;并通过控制器控制输送泵和阀组,调节和控制整体再生系统的运行。
【技术特征摘要】
1.一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统,其特征在于,包括氯酸钠制备单元、电解单元、钠离子回用单元、氯酸暂存槽、提铜电元、再生单元、电解液暂存槽、刻蚀槽、阴极腔、阳极腔、中间腔、输送泵、生产线、工艺管道;所述氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统,通过工艺管道和输送泵依次连接有氯酸钠制备单元、电解单元、钠离子回用单元、氯酸暂存槽、提铜电元、再生单元、电解液暂存槽、刻蚀槽;并通过控制器控制输送泵和阀组,调节和控制整体再生系统的运行。2.根据权利要求1所述的一种氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统,其特征在于,所述氯酸钠型酸性蚀刻液离线再生系统的工艺流程为:2.1、所述氯酸钠制备单元通过工艺管道与生产线上的刻蚀槽连通,并通过输送泵将刻蚀液输送到氯酸钠制备单元中,所述氯酸钠制备单元设置有三腔室结构,所述三腔室分别为阴极腔、中间腔和阳极腔,所述阴极腔与中间腔之间设置有阴离子膜,所述阳极腔与中间腔之间设置有阳离子膜;由阴、阳离子膜分割成独立的循环系统,所述循环系统分别与电解单元通过喷射泵连通;2.2、所述电解单元中的阳极和阴极分别发生如下化学反应;阳极化学反应:2Cl--2e-→Cl2(1)Cl2+2OH-→ClO-+Cl-+H2O(2)Cl2+H2O-→HClO+HCl(3)6ClO-+3H2O–6e-→2ClO3-+6H++4Cl-+1.5O2(4)HClO+2ClO-→ClO3-+H++2Cl-(5)所述反应(2)和(3)由喷射泵装置实现气液混合;阴极化学反应:Cu2++2e-→Cu(6)Cu++e-→Cu(7)所述反应(6)和(7)实现从蚀刻废...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘伟伟,谭涛,耐迪·萨多克,
申请(专利权)人:陶克苏州机械设备有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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