一种阵列基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及显示装置，涉及显示技术领域，能够解决采用树脂材料构成滤光层，而导致显示色域和背光透过率低的问题。该阵列基板划分有多个像素单元，该像素单元包括绿色亚像素、红色亚像素以及蓝色亚像素。阵列基板包括滤光层，该滤光层包括位于绿色亚像素中的第一滤光单元、位于红色亚像素中的第二滤光单元，以及位于蓝色亚像素中的第三滤光单元。其中，构成第一滤光单元和第二滤光单元的材料包括量子点材料，第一滤光单元在蓝光的激发下发绿光，第二滤光单元在所述蓝光的激发下发红光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及显示装置。
技术介绍
TFT-LCD(英文全称：Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，中文全称：薄膜晶体管液晶显示器)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，近年来得到了迅速地发展，在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。TFT-LCD包括显示面板以及用于向该显示面板提供背光的背光源。其中，显示面板中设置有由红色树脂材料、绿色树脂材料以及蓝色树脂材料构成的滤光层。现有技术中，背光源发出是用蓝色芯片激发钇铝石榴石晶体(YAG)荧光粉发出黄光与蓝光混合而成，再分别经过滤光层的红色树脂材料、绿色树脂材料、蓝色树脂材料后，白光中一部分光线被吸收，另一部分透过滤光层中不同颜色的树脂材料后形成单色光。然而，这样一来生成的单色光纯度较低，从而降低了显示色域，且由于背光源中一部分光线经过滤光层会被吸收，从而降低了背光的透过率。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及显示装置，能够解决采用树脂材料构成滤光层，而导致显示色域和背光透过率低的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面，提供一种阵列基板，划分有多个像素单元，所述像素单元包括绿色亚像素、红色亚像素以及蓝色亚像素；所述阵列基板包括滤光层，所述滤光层包括位于所述绿色亚像素中的第一滤光单元、位于所述红色亚像素中的第二滤光单元，以及位于所述蓝色亚像素中的第三滤光单元；其中，构成所述第一滤光单元和所述第二滤光单元的材料包括量子点材料，所述第一滤光单元在蓝光的激发下发绿光，所述第二滤光单元在所述蓝光的激发下发红光，所述第三滤光单元用于透过蓝光。优选的，所述构成所述第三滤光单元的材料为无色透明树脂材料。优选的，还包括位于所述滤光层入光侧的光线选择层，用于使得所述蓝光透过的同时，阻挡红光和绿光透过。优选的，所述光线选择层包括交替且相接触的第一条状部分和第二条状部分，所述第一条状部分和所述第二条状部分材料的折射率不同，用于透过蓝光，且对绿光和红光进行反射。优选的，构成所述第一条状部分的材料包括砷化镓；构成所述第二条状部分的材料包括砷化铝。优选的，所述光线选择层为蓝色色阻层。优选的，所述滤光层的厚度为2μm～5μm。优选的，亚像素内设置有TFT，所述滤光层覆盖所述TFT；所述阵列基板包括异层设置的像素电极和公共电极，所述像素电极和/或所述公共电极位于所述滤光层的出光测。本专利技术实施例的另一方面，提供一种显示装置包括显示面板，所述显示面板包括如上述所述的任意一种阵列基板，所述显示装置还包括位于所述显示面板入光侧的发蓝光的背光源。优选的，所述显示面板包括设置于滤光层背离所述背光源的一侧的第一偏光片和第二偏光片；所述第一偏光片和所述第二偏光片异层设置。优选的，所述阵列基板包括所述第一偏光片，所述第一偏光片覆盖所述滤光层。优选的，所述显示面板还包括与所述阵列基板相对盒的盖板；所述第二偏光片覆盖所述盖板背离所述阵列基板的一侧。优选的，所述显示面板还包括与所述阵列基板相对盒的盖板；所述盖板靠近所述阵列基板的一侧设置有黑色支撑件，用于对所述阵列基板与所述盖板形成的液晶盒进行支撑；亚像素内设置有TFT；所述黑色支撑件的位置至少与所述TFT的位置相对应。优选的，所述黑色支撑件还设置于相邻两个亚像素之间，以对所
述相邻两个亚像素进行隔离。本专利技术实施例提供一种阵列基板及显示装置，该阵列基板划分有多个像素单元，该像素单元包括绿色亚像素、红色亚像素以及蓝色亚像素。在此基础上，阵列基板包括滤光层，该滤光层包括位于绿色亚像素中的第一滤光单元、位于红色亚像素中的第二滤光单元，以及位于蓝色亚像素中的第三滤光单元。其中，构成第一滤光单元和第二滤光单元的材料包括量子点材料，第一滤光单元在蓝光的激发下发绿光，第二滤光单元在所述蓝光的激发下发红光，第三滤光单元用于透过蓝光。由于第一滤光单元位于绿色亚像素中的、第二滤光单元位于红色亚像素中的，第三滤光单元位于蓝色亚像素中，因此第一滤光单元在蓝光的激发下发绿光，从而可以使得绿色亚像素发出滤光，第二滤光单元在背光源的激发下发红光，从而可以使得红色亚像素发红光，所述第三滤光单元用于透过蓝光，从而可以使得蓝色亚像素发蓝光。在此情况下，在蓝光的照射下，上述像素单元能够发出由上述绿光、红光以及蓝光混合而成的白光，以进行显示。在此基础上，由于构成第一滤光单元和第二滤光单元的材料包括量子点材料，量子点材料受到激发后发出的单色光线纯度高，且上述第一滤光单元和第二滤光单元无需对作为背光源的蓝光进行滤光，从而有利于提高显示装置的色域和背光源光线的透过率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供一种阵列基板的结构示意图；图2为图1中沿O-O得到的阵列基板的一种截面图；图3为图1中沿O-O得到的阵列基板的另一种截面图；图4为图3中光线选择层的结构示意图；图5为集成有偏光片的阵列基板的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的亚像素的形成示意图；图8为图6中沿F-F得到的一种黑色支撑件的结构示意图。附图标记：01-显示面板；02-背光源；10-阵列基板；100-像素单元；101-绿色亚像素；102-红色亚像素；103-蓝色亚像素；11-滤光层；111-第一滤光单元；112-第二滤光单元；113-第三滤光单元；12-光线选择层；121-第一条状部分；122-第二条状部分；13-公共电极；14-像素电极；15-第一偏光片；16-第二偏光片；17-黑色支撑件；20-衬底基板；31-盖板。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种阵列基板10，如图1所示，划分有多个像素单元100。该像素单元100包括绿色亚像素101、红色亚像素102以及蓝色亚像素103。其中，如图2所示，阵列基板10包括滤光层11，该滤光层11包括位于绿色亚像素101中的第一滤光单元111、位于红色亚像素102中的第二滤光单元112，以及位于蓝色亚像素103中的第三滤光单元113。在此基础上，构成第一滤光单元111和第二滤光单元112的材料包括量子点材料，该第一滤光单元111在蓝光的激发下发绿光，第二滤光单元112在上述蓝光的激发下发红光，该第三滤光单元113用于透过蓝光。其中，该蓝光可以由采用该阵列基板10构成的显示装置中的背光源提供。需要说明的是，上述量子点材料是指，掺杂有量子点(英文全称：Quantum Dot，英文简称：QD)的材料，例如在树脂材料(如光刻胶)中掺杂不同尺寸，或者不同浓度的量子点材料，以形成第一滤光单元111和第二滤光单元112。其中，上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，划分有多个像素单元，其特征在于，所述像素单元包括绿色亚像素、红色亚像素以及蓝色亚像素；所述阵列基板包括滤光层，所述滤光层包括位于所述绿色亚像素中的第一滤光单元、位于所述红色亚像素中的第二滤光单元，以及位于所述蓝色亚像素中的第三滤光单元；其中，构成所述第一滤光单元和所述第二滤光单元的材料包括量子点材料，所述第一滤光单元在蓝光的激发下发绿光，所述第二滤光单元在所述蓝光的激发下发红光，所述第三滤光单元用于透过蓝光。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，划分有多个像素单元，其特征在于，所述像素单元包括绿色亚像素、红色亚像素以及蓝色亚像素；所述阵列基板包括滤光层，所述滤光层包括位于所述绿色亚像素中的第一滤光单元、位于所述红色亚像素中的第二滤光单元，以及位于所述蓝色亚像素中的第三滤光单元；其中，构成所述第一滤光单元和所述第二滤光单元的材料包括量子点材料，所述第一滤光单元在蓝光的激发下发绿光，所述第二滤光单元在所述蓝光的激发下发红光，所述第三滤光单元用于透过蓝光。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述构成所述第三滤光单元的材料为无色透明树脂材料。3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，还包括位于所述滤光层入光侧的光线选择层，用于使得所述蓝光透过的同时，阻挡红光和绿光透过。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述光线选择层包括交替且相接触的第一条状部分和第二条状部分，所述第一条状部分和所述第二条状部分材料的折射率不同，用于透过蓝光，且对绿光和红光进行反射。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，构成所述第一条状部分的材料包括砷化镓；构成所述第二条状部分的材料包括砷化铝。6.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述光线选择层为蓝色色阻层。7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光层的厚度为2μm～5μm。8.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：田允允，崔贤植，林允植，吕敬，徐威，张粲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11