一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺制造技术

技术编号:13376427 阅读:162 留言:0更新日期:2016-07-21 00:45
本发明专利技术涉及光学胶带技术领域,具体涉及一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺。高粘度光学薄膜胶带包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层,光学胶黏层由胶黏剂制得,胶黏剂包括以下重量份的组分:甲基丙烯酸丁酯30‑50份、丙烯酸乙酯15‑30份、三羧甲基丙烷三丙烯酸酯10‑20份、丙烯酸3‑8份、蜜胺甲醛树脂2‑5份、三乙烯四胺1‑4份、纳米二氧化硅1‑5份、引发剂0.5‑2份。本发明专利技术的胶黏剂中各组分相互配合,使制备的光学薄膜胶带用于粘合时,具有透光性好、耐高温性能好、粘接强度高等优点,其制作工艺简单,生产效率高,产品质量稳定,综合性能优越。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学胶带
,具体涉及一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺
技术介绍
随着社会的进步和科技的发展,消费者对于电子产品或其他产品的综合性能提出了更高的要求,产品的外观也显得尤为重要。光学薄膜胶带OCA光学胶常用于胶粘透明光学元件,其常用制作方法是是将光学胶做成无基材,然后在上下底层,再各贴合一层离型薄膜,制成双面贴合胶带。由光学胶制成的光学胶黏层是光学薄膜胶带的核心部分,光学胶黏层的性能好坏,直接影响着光学薄膜胶带的使用效果。在电子产品或其他产品的生产过程中,常常需要粘接力强且厚度较薄的胶黏层,在同等情况下,光学胶黏层厚度越薄,其透光性越好。但厚度较薄的胶黏层通常存在粘接强度不高的缺点,且在温差变化大的情况下不能一直维持粘性,容易将胶黏剂从粘着物上剥离。因此,现有的光学胶大多不能在保证良好的光学性能和耐热性的前提下,较好地兼顾粘接强度。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术中的上述不足,提供一种粘度高、耐高温性能好、透光性好的光学薄膜胶带。...

【技术保护点】
一种高粘度光学薄膜胶带,其特征在于:包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层,所述光学胶黏层由胶黏剂制得,胶黏剂包括以下重量份的组分:甲基丙烯酸丁酯                    30‑50份丙烯酸乙酯                        15‑30份三羧甲基丙烷三丙烯酸酯            10‑20份丙烯酸                            3‑8份蜜胺甲醛树脂                      2‑5份三乙烯四胺                        1‑4份纳米二氧化硅                      ...

【技术特征摘要】
1.一种高粘度光学薄膜胶带,其特征在于:包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学
胶黏层和重离型膜层,所述光学胶黏层由胶黏剂制得,胶黏剂包括以下重量份的组分:
甲基丙烯酸丁酯30-50份
丙烯酸乙酯15-30份
三羧甲基丙烷三丙烯酸酯10-20份
丙烯酸3-8份
蜜胺甲醛树脂2-5份
三乙烯四胺1-4份
纳米二氧化硅1-5份
引发剂0.5-2份。
2.根据权利要求1所述的一种高粘度光学薄膜胶带,其特征在于:所述胶黏剂包括以下
重量份的组分:
甲基丙烯酸丁酯35-45份
丙烯酸乙酯20-25份
三羧甲基丙烷三丙烯酸酯10-20份
丙烯酸4-7份
蜜胺甲醛树脂2-5份
三乙烯四胺2-3份
纳米二氧化硅2-4份
引发剂0.5-2份。
3.根据权利要求1所述的一种高粘度光学薄膜胶带,其特征在于:所述胶黏剂包括以下
重量份的组分:
甲基丙烯酸丁酯40份
丙烯酸乙酯20份
三羧甲基丙烷三丙烯酸酯15份
丙烯酸5份
蜜胺甲醛树脂4份
三乙烯四胺2份
纳米二氧化硅3份
引发剂1份。
4.根据权利要求1所述的一种高粘度光学薄膜胶带,其特征在于:所述纳米二氧化硅的
粒径为30-70nm。
5.根据权利要求1-所述的一种高粘度光学薄膜胶带,其特征在于:所述引发剂为偶氮...

【专利技术属性】
技术研发人员:夏运海
申请(专利权)人:东莞市亚马电子有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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