薄膜供给装置及其控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种薄膜供给装置，包括：压头，以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个吹气区域；所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔，通过吸气与吹气配合，使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。通过采用本发明专利技术所提供的薄膜供给装置，通过控制吸气和吹气相配合，使压头在吸附薄膜时与薄膜非接触保持，在转移薄膜过程中，压头之间不接触，压头不磨损。尤其在转移COF过程中，压头不与薄膜接触，解决了现有技术中薄膜压痕的问题，通过吸气与吹气相配合，使COF平稳地完成交接，保证了交接精度在SPEC范围内，很大程度上减少了COF抛料率，有效提高了COF产线嫁动率，有效改善了产品的良品率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶模组制造
，特别涉及一种薄膜供给装置及其控制方法。
技术介绍
液晶面板包括有面板和贴附在面板上的覆晶膜。覆晶膜的厚度很小，通常称之为覆晶薄膜(COF)。为了实现在面板上贴附覆晶薄膜，通常使用覆晶薄膜贴附装置，图1显示了现有技术中的用于向面板贴附覆晶薄膜的装置示意图。在向面板上贴附覆品薄膜过程中，首先压头110吸附覆晶薄膜120。接着，通过伺服平台130将面板140移动至压头110的位置处，在面板140正下方位置处设有起支撑作用的支撑机构150。通过压头110与支撑机构150的共同作用，完成向面板140上贴附覆晶薄膜120。由于使用频率高，吸附薄膜的压头容易磨损，导致COF存在压痕，交接精度不稳定的问题，影响COF产线嫁动率和品质。为了解决上述问题，也曾提出降低供给压头的交接高度，降低供给压头的工作速度，或者更换更加耐磨损的材质，但是这些做法也只能缓和磨损程度，无法彻底解决供给压头磨损的问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是如何消除供给装置的压头磨损。为此目的，本专利技术提出了一种薄膜供给装置，包括：压头，以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个吹气区域；所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔，通过吸气与吹气配合，使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。优选地，所述吸气区域沿所述压头中心对称分布，所述吹气区域沿所述压头中心对称分布。优选地，所述吸气区域与所述吹气区域间隔排列。优选地，所述吸气区域位于所述吹气区域的四周或者所述吹气区域位于所述吸气区域的四周。优选地，所述吸气区域位于所述吹气区域的两侧或者所述吹气区域位于所述吸气区域的两侧。优选地，所述吸气区域和吹气区域分别包括多个气孔，所述多个气孔均匀分布。优选地，所述薄膜为覆晶薄膜。另一方面，本专利技术还提供了一种薄膜供给装置的控制方法，用于上述压头的表面有至少一个吸气区域和至少一个吹气区域的薄膜供给装置，所述方法包括：在吸附所述薄膜时，控制所述吸气区域和吹气区域通过吸气与吹气相配合，使所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。优选地，在吸附所述薄膜时，所述供给装置的吸气量大于吹气量。优选地，该方法还包括：在脱附所述薄膜时，控制所述吸气区域和吹气区域通过吸气与吹气相配合，使所述薄膜远离所述压头。优选地，在脱附所述薄膜时，所述供给装置的吹气量大于吸气量。通过采用本专利技术所提供的薄膜供给装置，通过控制吸气和吹气相配合，使压头在吸附薄膜时与薄膜非接触保持，在转移薄膜过程中，压头之间不接触，压头不磨损。尤其在转移COF过程中，压头不与薄膜接触，解决了现有技术中薄膜压痕的问题，通过吸气与吹气相配合，使COF平稳地完成交接，保证了交接精度在SPEC范围内，很大程度上减少了COF抛料率，有效提高了COF产线嫁动率，有效改善了产品的良品率。附图说明通过参考附图会更加清楚的理解本专利技术的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本专利技术进行任何限制，在附图中：图1示出了现有技术压头吸附薄膜的原理示意图；图2示出了本专利技术实施例1薄膜供给装置的压头表面的结构示意图；图3示出了本专利技术实施例2薄膜供给装置的压头表面的结构示意图；图4示出了本专利技术实施例3薄膜供给装置的压头表面的结构示意图；图5示出了本专利技术实施例4薄膜供给装置的压头表面的结构示意图；图6示出了本专利技术实施例5薄膜供给装置的压头表面的结构示意图。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的实施例进行详细描述。本专利技术提供了一种薄膜供给装置，包括：压头，以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个吹气区域；所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔，通过吸气与吹气配合，使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。实施例1如图2所示，本专利技术薄膜供给装置的压头的表面分为两个区域，一个吸气区域和一个吹气区域，所述吸气区域位于所述吹气区域的四周或者所述吹气区域位于所述吸气区域的四周。以吹气区域2位于吸气区域1的四周为例，整个吸气区域1作为一个气孔，整个吹气区域2作为一个气孔。优选地，为了保持薄膜平稳，所述吸气区域1沿所述压头中心对称分布，所述吹气区域2沿所述压头中心对称分布。在吸附薄膜时，控制吸气区域1进行吸气，控制吹气区域2进行吹气，通过控制吸气区域1的气流量大于吹气区域2的气流量，使薄膜非接触地保持在压头的附近。在脱附薄膜时，通过控制吸气区域1的气流量小于吹气区域2的气流量，使薄膜远离压头。其中，气流量的大小可以通过气流强度、气孔的大小、气孔的密度等条件来控制。具体在脱附薄膜和吸附薄膜时，吸气和吹气的气流量的多少可以通过多次试验获得一个合理的吸气和吹气的气流量的值。另外，根据需要，吸气区域1的气孔可以作为吹气使用，吹气区域2的气孔可以作为吸气使用，使吸气区域位于吹气区域的四周。其中，气孔的形状可以根据需要设置成圆形、三角形、矩形或其他不规则形状。由于本专利技术薄膜供给装置的薄膜不与压头接触，在薄膜转移过程中，压头之间存在间隙，所以压头不会磨损。在不影响精度的情况下，压头之间的间隙越大越好。其中，在薄膜转移过程中，压头之间的间隙可以通过控制气流量的大小来进行调节。当转移的薄膜为覆晶薄膜(COF)时，由于压头不与薄膜直接接触，所以COF表面不会存在压痕，通过吸气和吹气相配合，使COF平稳地完成交接，最大限度保证了COF交接精度在SPEC范围内，提高了产线嫁动率，改善了产品品质。非接触式COF的供给方案，在目前各设备中均没有应用，所以对于消除COF压痕、解决COF交接精度不稳定以及吸附不良的问题起到了至关重要的作用。这里所说的SPEC范围，指的是压头与薄膜之间水平方向和竖直方向上的误差均不超过0.1mm。实施例2实施例2与实施例1基本相同，其主要区别在于，如图3所示，实施例2中的吸气区域1与吹气区域2分别包括多个气孔3，所述多个气孔3均匀分布。其他与实施例1相同，通过调节吸气区域1与吹气区域2气孔3的气流量大小，实现薄膜的吸附或脱附。实施例3实施例3提供了另一种薄膜供给装置，如图4所示，压头表面包括若干个吸气区域1和吹气区域2，吸气区域1沿压头中心对称分布，吹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜供给装置，其特征在于，包括：压头，以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个吹气区域；所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔，通过吸气与吹气配合，使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在所述压头的附近。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜供给装置，其特征在于，包括：
压头，以及位于所述压头的表面的至少一个吸气区域和至少一个
吹气区域；
所述吸气区域和吹气区域分别包括至少一个气孔，通过吸气与吹
气配合，使所述供给装置吸附所述薄膜时令所述薄膜非接触地保持在
所述压头的附近。
2.根据权利要求1所述的薄膜供给系统，其特征在于，所述吸气
区域沿所述压头中心对称分布，所述吹气区域沿所述压头中心对称分
布。
3.根据权利要求2所述的薄膜供给系统，其特征在于，所述吸气
区域与所述吹气区域间隔排列。
4.根据权利要求2所述的薄膜供给系统，其特征在于，所述吸气
区域位于所述吹气区域的四周或者所述吹气区域位于所述吸气区域
的四周。
5.根据权利要求2所述的薄膜供给系统，其特征在于，所述吸气
区域位于所述吹气区域的两侧或者所述吹气区域位于所述吸气区域
的两侧。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的薄膜供给...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛红林，范荣华，张金保，陈徐通，丁端端，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11