用于连续供给先驱物的方法和设备技术

本发明专利技术涉及一种用于将至少一种先驱物输送至涂层设备的多个涂层模块的方法和一种相应的涂层设备、特别是等离子体涂层设备。本发明专利技术的目的在于，提出一种用于涂层的方法和用于涂层的简单的设备，通过该方法或该设备可以以相同的先驱物液位连续地向多个涂层模块提供先驱物并且确保连续的涂层操作运行，该目的通过根据权利要求1的方法得以实现。

Method and apparatus for continuous supply of precursors

The invention relates to a method for conveying at least one precursor to a plurality of coating modules of a coating apparatus and a corresponding coating apparatus, in particular to a plasma coating apparatus. The aim of the invention is simple, equipment for coating and method for coating, by the method or the device can be in the same level of precursor to a continuous coating module provides precursor and ensure continuous coating operation, the objective through 1 methods according to claim can be achieved.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于将至少一种先驱物输送至涂层设备的多个涂层模块的方法，其中，该涂层模块具有至少一个提取装置和至少一个例如局部构造为升液管的输入管，通过该输入管将先驱物输送至涂层模块的提取装置。另外，本专利技术还涉及一种具有多个涂层模块、至少一个用于先驱物的存储容器的涂层设备，其中，该涂层模块具有至少一个提取装置和至少一个例如局部构造为升液管的、用于提取装置的输入管，通过该输入管将先驱物供给至涂层模块的提取装置，本专利技术还涉及该涂层设备的有利的用途。
技术介绍
特别是在例如通过增附剂对带材、特别是金属带或钢带进行涂层的过程中，需要非常薄的涂层，该涂层例如通过等离子体涂层法而涂覆。等离子体涂层法实现了层厚度的非常精确的控制并且能够实现在纳米至微米范围内的最薄的涂层涂覆。等离子体涂层设备例如在欧洲专利申请EP 2 636 446 A1中已知。在等离子体涂层过程中由于等离子体引导的涂层过程仅能加工待涂层工件的受限的宽度。此外，涂层速度也是受限的，从而为了达到特定的层厚度须在涂层过程中限制带速度，以至于必须采取用于加速涂层效率的措施。因此，等离子体涂层设备通常使用多个涂层模块，例如大于5个涂层模块，这些涂层模块同时和/或依次地涂覆待涂层的材料的不同的部分表面区域。在涂层、特别是等离子体涂层过程中为涂层模块提供工艺气并且通过提取装置将先驱物注入工艺气中。在此，在涂层模块的输入管中存在的先驱物由工艺气携带、雾化并且通过工艺气引导至待涂层的表面上。该先驱物是用于在带材表面上形成涂层的原料、例如用于形成增附剂层的原料。为此将该工艺气和先驱物引入等离子体或余辉(after glow)等离子体中。引入工艺气中的先驱物的量取决于在提取装置中通过工艺气所携带的先驱物的量并因此取决于在提取装置或用于提取装置的输入管中的先驱物液位。为了实现连续的涂层，因此必须在每个提取装置中使先驱物液位保持恒定并且同时连续地输入先驱物，从而尽可能均匀地实施涂层过程。目前，该问题通过将用于先驱物的独有的存储容器分配于涂层模块的每个提取装置，该存储容器的填料对于一个完整的工作班次而言是足够的。但是，在对应于一个单独的涂层模块的存储容器中存储先驱物却具有这样的缺点，即，必须单独地补充该存储容器，这在多个、例如大于5个涂层模块的情况下可能使准备时间变得过长。如果多个涂层模块由一个存储容器供应，到达涂层模块的不同的管路长度由于不同的流动阻力会导致提供不同的先驱物量，从而在每个涂层模块涂覆的层厚度方面存在问题。因此，原则上必须使用相同的由存储容器到单个涂层模块的流动阻力。但是，特别是在实现高的生产能力并由此实现高的涂层速度或带速度的条件下使该涂层设备变得极其复杂。
技术实现思路
由上述现有
技术介绍
出发，本专利技术的目的在于，提出一种方法和用于涂层的简单的设备，通过该方法或该设备可以连续地以相同的先驱物液位提供先驱物到多个涂层模块并且确保连续的涂层操作运行。根据本专利技术的第一教导，上述目的通过一种方法由此得以实现，即，将先驱物从存储容器通过环形管输送给至少一个提取装置，在环形管中将比所需更大的先驱物量输送给至少一个提取装置并且将过量的先驱物输送回存储容器中，其中，在将先驱物在环形管中回引过程中在单个提取装置的每个与环形管连接的输入管中产生静液压。通过按照本专利技术的方法实现了，通过在每个与存储容器连接的输入管中的先驱物的静液压将先驱物液位固定在一个特定的数值上并且保持恒定。特别是一个或多个提取装置的输入管中的静液压不再取决于存储容器的填充高度，而是仅取决于先驱物向存储容器的回引。环形管在此例如通过泵而从存储容器提供先驱物。只要先驱物能够再次回引到存储容器中，尽管通过提取装置的提取，先驱物的液位仍保持恒定。多个提取装置可以例如具有相同的先驱物液位并且由此可以为多个涂层模块提供相同量的涂层材料用于同时和/或依次地涂覆带材(例如钢带)的不同的部分表面。仅必须确保，输送给单个提取装置的先驱物量大于提取量，从而可以在输入管中产形成静液压。根据该方法的第一种设计方案，在先驱物回流到存储容器中的过程中，在环形管中通过节流阀、节流孔板和/或通过与升液管连接的溢流部来调整在提取装置的输入管中的静液压。节流阀和节流孔板实现了通过减少回流的先驱物量的流量而在先驱物的环形管中形成限定的静液压。通过先驱物在溢流部的升液管中的抬升产生静液压。通过将升液管的高度与输入管的高度的比较可以精确地调整该压力。在使用溢流部的情况下，压力波动例如由于输送的先驱物量中的波动不会或仅轻微地对先驱物液位起到作用。根据一个实施例可以由此特别简单地实现在多个提取装置的输入管中产生恒定的先驱物液位，即，至少一种先驱物通过环形管输送至提取装置的多个输入管。由于在先驱物的回流过程中静液压或液压的产生，在所有与环形管连接的输入管中存在相同的先驱物压并因此在多个局部构造为升液管的输入管中存在相同的先驱物液位。通过该方法的另一种设计方案，至少一个环形管供给一个储存器，该储存器与涂层模块的提取装置连接，其中，在储存池中的先驱物液位通过输入管中的静液压调整。通过该储存池减少输入管中的压力波动对先驱物液位产生的作用，从而在涂层过程中出现较小的波动。根据该方法的另一种设计方案，来自涂层模块的提取装置的过量的先驱物在与先驱物的输入管分开的收集管中回流或者在存储容器的单管中回流。用于过量的先驱物的收集管简化了涂层设备的构造。但是还可能的是，过量的先驱物单独地从每个提取装置中回流到存储容器中。根据该方法的另一种设计方案，优选在达到最小填充料时自动地补充该存储容器，从而可以以简单的方式确保连续的涂层操作运行。当然还能够考虑的是，在达到最小填充状态时手动地填充该存储容器根据本专利技术的第二教导，上述目的通过一种涂层设备由此得以实现，即，多个提取装置连通在先驱物的存储容器上，每个提取装置通过单个环形管或者多个提取装置通过一个共同的环形管与存储容器连接，该环形管用于过量的先驱物的回流，在该环形管或这些环形管中设置有用于将先驱物经过环形管输送到至少一个提取装置中的装置并且在环形管中在先驱物向存储容器中回流区域中设置有用于在至少一个提取装置的输入管中产生静液压的装置。首先，通过用于将先驱物经过环形管路输送到至少一个提取装置中的装置，例如泵，将环形管中的先驱物运输到输入管。过量的、在提取装置的输入管中没有提取的先驱物的量再次回流到存储容器。在先驱物的流动方向上，先驱物的回流区域在提取装置的最后一个输入管之后开始。通过设置在先驱物的回流区域中的、用于产生静液压的装置，在与先驱物的流动方向相反的方向上在环形管中并因此也在每个输入管中产生静液压，通过该静液压可以不依赖与先驱物在存储容器中的填充状态来调整先驱物液位。在一个或多个输入管中的先驱物液位总是相等的，不论这些输入管具有怎样的横截面或者怎样的管长度，因为液位仅取决于环形管中的静液压。因此，通过按照本专利技术的设备，可以为涂层设备的多个提取装置了向局部构造为升液管的输入管中提供相等的先驱物液位。通过补充存储容器则可以确保涂层设备的连续的运行。根据该涂层设备的第一种设计方案，在环形管的回流区域中将节流阀、节流孔板和/或与升液管连接的溢流部设置作为用于在提取装置的输入管中提供静液压的装置。通过节流阀或节流孔板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将至少一种先驱物输送至涂层设备的多个涂层模块的方法，其中，所述涂层模块具有至少一个提取装置和至少一个局部构造为升液管的输入管，通过所述输入管将所述先驱物输送至所述涂层模块的提取装置，其特征在于，将先驱物从存储容器通过环形管输送给至少一个提取装置，在环形管中将比所需更大的先驱物量输送给所述至少一个提取装置并且将过量的先驱物输送回所述存储容器中，其中，在先驱物在环形管中的回流过程中在单个提取装置的每个与环形管连接的输入管中产生静液压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.04.30 DE 102014106129.21.一种用于将至少一种先驱物输送至涂层设备的多个涂层模块的方法，其中，所述涂层模块具有至少一个提取装置和至少一个局部构造为升液管的输入管，通过所述输入管将所述先驱物输送至所述涂层模块的提取装置，其特征在于，将先驱物从存储容器通过环形管输送给至少一个提取装置，在环形管中将比所需更大的先驱物量输送给所述至少一个提取装置并且将过量的先驱物输送回所述存储容器中，其中，在先驱物在环形管中的回流过程中在单个提取装置的每个与环形管连接的输入管中产生静液压。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在环形管中在所述先驱物回流到所述存储容器中的过程中，通过节流阀、节流孔板和/或通过与升液管连接的溢流部来调整在所述提取装置的输入管中的静液压。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，至少一种先驱物通过所述环形管输送至多个提取装置的多个输入管。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的方法，其特征在于，至少一个环形管提供一个储存器，所述储存器与所述涂层模块的提取装置连接并且在所述储存池中的先驱物液位通过输入管中的静液压调整。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的方法，其特征在于，过量的先驱物从所述涂层模块的至少一个提取装置中在与所述先驱物的输入部分开的收集管中回流或者在存储容器的单管中回流。6.根据权利要求1至5中任意一项所述的方法，其特征在于，在达到最小填充料时自动地或者手动地补充所述存储容器。7.一种具有多个涂层模块、至少一个用于先驱物(6)的存储容器(5)的涂层设备(1，1')，其中，所述涂层模块具有至少一个提取装置(2,3,2',3',13,14,15,16)和至少一个局部构造为升液管的、用于所述提取装置(2,3,2',3',13,14,15,16)的输入管(2c,3c,2c',3c',13c)，通过所述输入管将所述先驱物(6)输送至所述涂层模块的提取装置(2,3,2',3',13,14,15,16)，所述设备特别是用于实施根据权利要求1至6中任意一项所述的方法，其特征在于，多个提取装置(2,3,2',3',13,14,15,16)连接在先驱物(6)的存储...

【专利技术属性】
技术研发人员：沃尔特·米尔豪瑟，米夏埃尔·施特拉克，
申请(专利权)人：蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司，蒂森克虏伯股份公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE