一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】 本专利技术申请是国际申请日为2008年07月16日、国际申请号为PCT/JP2008/062802、进入中国国家阶段的国家申请号为200880025096.X、专利技术名称为“测量方法、载台装置、及曝光装置”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术，是关于用以测量进行物体移动的载台等可动构件的位置资讯的测量技术及载台技术、使用该载台技术进行物体的曝光的曝光技术、使用该曝光技术制造半导体元件及液晶显示元件等的元件的元件制造技术。
技术介绍
在制造半导体元件或液晶显示元件等的元件(电子元件、微型元件)的微影制程中，主要是使用步进机等的静止曝光型(一次曝光型)的投影曝光装置、以及扫描步进机等的扫描型的投影曝光装置(扫描型曝光装置)等的曝光装置，以将形成于标线片(或光罩等)的电路图案通过投影光学系统投影曝光于涂布有光阻的晶圆(或玻璃板等)上。此种曝光装置，为了减低所制造的电路图案的位置歪斜或重叠误差，以往是使用以频率稳定化激光为光源的激光干涉仪，来作为用以定位或移动晶圆等的载台的位置测量用途。激光干涉仪中，激光所传递的光路上的气体的折射率，会依存于该器体的温度、压力、湿度等而变动，折射率的变动会导致产生干涉仪的测量值的变动(干涉仪的摇晃)。因此，曝光装置在以往是使用对干涉仪的测量光束的光路吹送经温度控制的气体的送风系统，藉由使该光路的气体的温度稳定化，来减低干涉仪的摇晃情形。最近，为了进一步提高激光干涉仪的测量光束的光路上气体的温度稳定性，也提出了一种使用筒状外罩等覆盖该测量光束的光路的至少一部分的曝光装置(参照例如专利文献1、专利文献2)。专利文献1:日本特开平5 — 2883313号公报专利文献2:日本特开平8 — 261718号公报如上所述，在使用激光干涉仪时，有需要施以防止摇晃的对策。然而，特别是扫描型曝光装置的晶圆载台，在测量对象的载台高速地纵横移动时，由于会因载台的移动导致气流不规则地变动，而仍有干涉仪会摇晃某种程度的问题。本专利技术的状态，其目的是提供能减低周围气体的折射率变动的影响的测量技术及载台技术、能使用该载台技术提高载台的定位精度等的曝光技术、以及使用该曝光技术的元件制造技术。
技术实现思路
本专利技术的第1测量方法，是测量可动构件相对既定构件的位移资讯，其具有:在该既定构件与该可动构件中的一方设置标尺，在另一方设置可检测该标尺的多个检测器的步骤；以线膨胀系数较该可动构件小的支撑构件一体支撑设置于该既定构件的该标尺或该多个检测器的步骤;以及从该多个检测器的检测结果测量该可动构件的位移资讯的步骤。本专利技术的第2测量方法，是以多个检测器检测设置于可动构件的标尺，以测量该可动构件的位移资讯，其具有:以支撑构件一体支撑该多个检测器的步骤；以及从该多个检测器的检测结果测量该可动构件的位移资讯的步骤;该支撑构件，是通过前端部可在相对基座构件沿该标尺表面的方向位移的多个挠曲构件，连结于线膨胀系数较该支撑构件大的该基座构件。本专利技术的载台装置，可将载台相对既定构件定位，其具备:设置于该载台与该既定构件的一方的标尺;设置于该载台与该既定构件的另一方，用以检测与该标尺位置相关的资讯的多个检测器;一体支撑设置于该既定构件的该标尺或该多个检测器，且线膨胀系数较该载台小的支撑构件；以及从该多个检测器的检测结果求出该载台的位移资讯的控制装置。本专利技术的第1曝光装置，是对基板照射曝光用光而在该基板形成既定图案;其具有本专利技术的载台装置，是藉由该载台装置定位该基板。本专利技术的第2光装置，是对可移动的载台所保持的基板照射曝光用光而在该基板形成既定图案，其具备:设置于该载台的标尺;用以检测与该标尺位置相关的资讯的多个检测器;一体支撑该多个检测器的支撑构件;线膨胀系数较该支撑构件大的基座构件;将该支撑构件以可位移于沿该标尺表面的方向的状态连结于该基座构件的连结机构；以及从该多个检测器的检测结果求出该载台的位移资讯的控制装置;该连结机构包含多个挠曲构件，该多个挠曲构件，是连结该支撑构件与该基座构件，且前端部可在沿该标尺表面的方向位移。又，本专利技术的元件制造方法，为一种包含微影制程的元件制造方法，其中:是在该微影制程中使用本专利技术的曝光装置。根据本专利技术，由于是以检测器检测设置于可动构件(或载台)或既定构件的标尺的方式，因此不需如激光干涉仪般设置与可动构件的移动动程相同程度的光路。能减低周围气体的折射率变动的影响。又，当可动构件或既定构件的标尺从一个检测器的检测对象区域脱离时，例如能切换成可检测该标尺的另一检测器来持续进行测量。此时，由于支撑构件的线膨胀系数较可动构件或基座构件小，因此假使周围温度变动，也能抑制多个检测器间或标尺内的位置关系的变动，缩小切换多个检测器时的测量误差。因此，在曝光装置的情形，能提升载台的定位精度。【附图说明】图1，是显示第1实施形态的曝光装置概略构成的一部分欠缺的图。图2，是显不图1的载台装置的俯视图。图3，是显示图1的测量框架21的截面图。图4，是显示图1的对准系统ALl，AL2i?AL24及位置测量用编码器的配置的图。图5(A)，是显示晶圆载台的俯视图，图5(B)，是显示晶圆载台的一部分截面的侧视图。图6(A)，是显示测量载台的俯视图，图6(B)，是显示测量载台的一部分截面的侧视图。图7，是显示第1实施形态的曝光装置的控制系统主要构成的方框图。图8(A)及图8(B)，是用以说明分别包含配置成阵列状的多个读头的多个编码器对晶圆台在XY平面内的位置测量及读头间的测量值的接续。图9(A)，是显示编码器构成一例的图，图9(B)，是显示使用沿格子RG的周期方向延伸较长的截面形状的激光光束LB来作为检测光的情形。图10(A)，是显示进行第一对准照射区域AS的测量的状态的图，图10(B)，是显示进行第二对准照射区域AS的测量的状态的图，图10(C)，是显示晶圆的对准照射区域AS的排列一例的图。图11，是显示第1实施形态的测量及曝光动作一例的流程图。图12，是显示第2实施形态的曝光装置概略构成的一部分欠缺的图。图13，是显示第3实施形态的曝光装置概略构成的一部分欠缺的图。图14，是图13的主要部位的放大立体图。图15，是图13的测量框架与读头座的长度变化时的动作说明图。图16(A)，是显示细长棒状构件的图，图16(B)，是显示形成有槽部的挠曲构件的图。图17，是显示图13的变形例的连结方法的一部分欠缺的立体图。图18，是用以说明微型元件的制程一例的流程图。图19，是显示其他实施形态的曝光装置主要部位的一部分欠缺的图。图20，是沿图19的AA线的仰视图。20:主控制装置21，21M:测量框架26:读头座32:嘴单元39Χι，39Χ2:Χ标尺39Υι，39Y2: Y标尺62Α?62D:读头单元64:Υ读头66: X 读头70A，70C:Y 编码器70B,70D: X编码器 113:挠曲构件AL1: 第一对准系统 AL2i?AL24:第二对准系统AS:照射区域MTB:测量台MST: 测量载台R:标线片ff:晶圆WTB:晶圆台WST: 晶圆载台【具体实施方式】以下，根据图式说明本专利技术的实施形态一例。图1是概略显示本实施形态的曝光装置100的构成。此曝光装置100，是步进扫描方式的扫描型曝光装置、亦即所谓扫描机。如后述般，本实施本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，通过投影光学系统用照明光曝光基板，其特征在于其具备：支撑该投影光学系统的框架构件；与该投影光学系统分离地设置于该框架构件，检测该基板的标记的检测系统；分别具有反射型格子的多个格子构件，该多个格子构件以使该反射型格子与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地排列的方式支撑于该框架构件；配置于该投影光学系统及该检测系统的下方的基座；配置于该基座上，具有保持该基板的保持具，且可在该多个格子构件的下方移动的载台；以使该基板分别与该投影光学系统及该检测系统对向配置的方式移动该载台的驱动系统；编码器系统，具有设置于该载台且分别从该多个格子构件的下方对该多个格子构件照射光束的多个读头，该编码器系统测量该载台的位置资讯；以及基于该编码器系统测量到的位置资讯，控制该驱动系统的控制装置，该多个格子构件经由挠曲构件支撑于该框架构件。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：荒井大，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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