曝光装置的调整装置及调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种曝光装置的调整装置及调整方法，所述曝光装置包括光源、光罩、感光基板、调整装置和至少一个戴森光学系统，所述调整装置为一无焦光学系统，包括至少一个楔形透镜和多个光学透镜，所述戴森光学系统包括直角反射镜、透镜和凹面反射镜，所述光源照射光罩上的图案成像，经调整装置和戴森光学系统投影曝光于所述感光基板上。所述调整方法与所述调整装置相对应，用于实现曝光装置的焦面、倍率和平移调整。本发明专利技术提供的调整装置，能够同时或分别实现曝光装置焦面、倍率和平移的连续调整，而且调整焦面、倍率和平移的同时不会引起其他变化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种曝光装置及曝光方法，尤其是涉及一种曝光装置的调整装置及调 整方法。
技术介绍
平板显示技术发展较快，尺寸越来越大。如果使用较大视场的物镜进行曝光能够 有效地提升产率。然而随着物镜光学系统视场的增大，设计及加工制造等各方面的难度都 会增加。使用相同的视场且大小适中的物镜采用一定排列方式将多个视场拼接成所需的大 视场，根据所需视场大小来选择拼接的个数，这样既实现了大视场要求又降低了光学加工 制造难度同时具有很高的兼容性和灵活性。 由于使用了多个子物镜进行拼接，每个子物镜由于自身的性能及装配公差等成像 位置会与理论位置有偏差。同时由于较大的光罩会因重力产生变形，感光基板表面也会有 面型的误差。因此为了能够使每个视场都能够成像在理想位置，每个物镜单元都有独自的 调整装置来调整成像视场的位置以保证整个拼接视场的性能。 扫描型曝光装置有配置多个投影光学系统以使邻接投影区域在扫描方向进行所 定量位移且使邻接投影区域的各个端部在与扫描方向直交的方向重复，即所谓多透镜方式 的扫描型曝光装置（多透镜扫描型曝光装置）。多透镜方式的扫描型曝光装置是由多个狭 缝状的照明区域来照明光罩、在对该照明区域的排列方向成直交的方向上同步扫描光罩和 感光基板、通过与多个照明区域的各个对应设置的该多个投影光学系统将设于光罩的图案 曝光于感光基板上的装置。 专利JP2005331694A公开了一种曝光装置，所述焦面调整功能通过直角反射镜或 楔形平板组的平移来实现。直角反射镜平移调整焦面会同时改变最佳物像面的位置，在焦 面调整的同时减小了焦深。楔形平板垂向平移调焦方式改变了两片楔板间的距离将引起像 面Y方向的平移。此平移需要使用平行平板的旋转来补偿。像水平平移使用两片平行平板 分别绕X、Y方向旋转进行调整。三片半透镜组组成的无焦光学系统任意一片移动调整倍 率，同时引入焦面变化，焦面变化需要调焦系统进行补偿。 专利US20020005940公开了一种曝光装置，所述倍率调整功能通过两片透镜组成 的无焦光学系统的轴向平移来实现。所述焦面调整功能通过三片透镜组成的无焦光学系统 平移来实现。两片镜片无焦光学系统平移调节倍率时会引起焦面变化，同样的三片透镜无 焦光学系统调节焦面时会引起倍率的变化。焦面和倍率调整装置需要同时使用配合进行焦 面或倍率的调整。 现有的焦面和倍率调整机装置都是分离的，分别对倍率和焦面进行调节，且调整 会引入其他不期望出现的串扰，这些串扰需要使用其他装置进行补偿，因此调整过程较为 繁琐。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种同时或分别实现焦面、倍率和平移调整的调整装置和 调整方法，且调整焦面、倍率和平移的同时不会引入其他变化。 为了达到上述目的，本专利技术提供了一种调整装置，为一无焦光学系统，其包括至少 一个楔形透镜和多个光学透镜。 进一步地，所述调整装置置于曝光装置中，所述曝光装置包括光源、光罩、感光基 板和所述调整装置，所述光源照射光罩上的图案成像，并通过所述调整装置进行光路调整 后，投影曝光于所述感光基板上。 进一步地，所述曝光装置还包括至少一个戴森光学系统，所述光源照射光罩上的 图案成像，经所述调整装置和至少一个戴森光学系统曝光于所述感光基板上。 进一步地，所述调整装置置于戴森光学系统与光罩之间、多个戴森光学系统之间 或戴森光学系统与感光基板之间。 进一步地，所述戴森光学系统包括直角反射镜、透镜和凹面反射镜，光束经过直角 反射镜反射，然后经过透镜和凹面反射镜进行反射，返回所述直角反射镜，最后再由所述直 角反射镜反射至另一戴森光学系统或感光基板上。 进一步地，所述调整装置置于直角反射镜和透镜之间。 进一步地，所述调整装置包括： 第一楔形透镜，具有第一斜面，及第一楔角； 第一光学透镜，具有第二斜面及相对的第一弯曲面，所述第二斜面靠近且平行上 述第一斜面，具有第一楔角，所述第一弯曲面具有第一曲率半径； 第二光学透镜，具有第二弯曲面及相对的第三弯曲面，所述第二弯曲面靠近上述 第一弯曲面，具有与第一曲率半径相同或者相近的第二曲率半径，所述第三弯曲面具有第 二曲率半径； 第三光学透镜，具有靠近所述第三弯曲面的第四弯曲面，具有与第三曲率半径相 同或者相近的第四曲率半径。 进一步地，所述调整装置的第一楔角的角度范围为0.5°~10°。 进一步地，所述调整装置包括： 第一楔形透镜，具有第一斜面，及第一楔角； 第一光学透镜，具有第二斜面及相对的第一弯曲面，所述第二斜面靠近且平行上 述第一斜面，具有第一楔角，所述第一弯曲面具有第一曲率半径； 第二光学透镜，具有第二弯曲面及相对的第三弯曲面，所述第二弯曲面靠近上述 第一弯曲面，具有与第一曲率半径相同或者相近的第二曲率半径，所述第三弯曲面具有第 二曲率半径； 第三光学透镜，具有第四弯曲面及相对的第三斜面，所述第四弯曲面靠近上述第 三弯曲面，具有与第三曲率半径相同或者相近的第四曲率半径，所述第三斜面与第一斜面 平行，具有第二楔角； 第二楔形透镜，具有第四斜面，及第二楔角，所述第四斜面靠近上述第三斜面，且 与第一斜面平行。 进一步地，所述调整装置的第一楔角及第二楔角的角度范围为0. 5°~10°。 进一步地，所述调整装置的第一曲率半径、第二曲率半径、第三曲率半径和第四曲 率半径的半径范围为200mm~2000mm。 进一步地，所述调整装置的镜片材料使用紫外高透过率材料。 本专利技术还提供了一种应用于调整装置的调整方法，包括： 焦面调整，所述焦面调整通过沿楔形透镜的斜面方向移动楔形透镜以实现焦面的 改变； 倍率调整，所述倍率调整通过沿光轴方向移动光学透镜以实现倍率的改变； 平移调整，所述平移调整通过沿光路的水平方向或垂直方向旋转调整装置的整体 以平移调整像面位置；进一步地，所述调整装置包括第一楔形透镜、第一光学透镜、第二光 学透镜和第三光学透镜，所述第一楔形透镜具有第一斜面及第一楔角。 进一步地，所述焦面调整通过沿所述第一斜面方向移动第一楔形透镜以实现焦面 的改变。 进一步地，所述倍率调整通过沿光轴方向移动所述第一光学透镜、第二光学透镜， 及第三光学透镜中的一个或多个以实现倍率的改变。 进一步地，所述倍率调整通过沿光轴方向移动所述第一光学透镜、第二光学透镜， 及第三光学透镜中的一个或多个，同时沿第一斜面方向移动第一楔形透镜，以实现无焦面 变化的倍率调整。 进一步地，所述旋转调整通过沿光轴方向旋转第一楔形透镜实现曝光图案在感光 基板上的图像位置相对旋转。 进一步地，所述调整装置还包括第二楔形透镜，所述第二楔形透镜具有第四斜面 及第二楔角，且平行于第一斜面。 进一步地，所述焦面调整通过沿所述第一斜面方向，相对移动所述第一楔形透镜 或第二楔形透镜以实现焦面的改变。 进一步地，所述倍率调整通过沿光轴方向移动所述第一光学透镜当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调整装置，为一无焦光学系统，其特征在于，所述调整装置包括至少一个楔形透镜和多个光学透镜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙晶露，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31