抗蚀剂剥离剂组合物制造技术

本发明专利技术公开一种抗蚀剂剥离剂组合物。该抗蚀剂剥离剂组合物表现出优异的剥离能力，并能使在抗蚀剂剥离工艺中金属布线的腐蚀减到最小并且防止在基板上形成污渍。本发明专利技术还提供一种利用该抗蚀剂剥离剂组合物来剥离抗蚀剂的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物。更具体地，本专利技术涉及一种抗蚀剂剥离剂 组合物，该抗蚀剂剥离剂组合物表现出优异的剥离能力，并能使抗蚀剂剥离工艺中金属布 线的腐蚀减到最小并且能防止在基板上形成污渍(Stain)。
技术介绍
随着对高分辨率平板显示器的需求增长，人们已经努力提高单位面积的像素数， 例如，通过诸如干式蚀刻工艺的严苛制造程序来减小布线的宽度。而且，扩大平板显示器需 要通过采用铜作为布线原料来提高信号在布线中的传输速度，因为铜的电阻率比铝的电阻 率低。于是，剥离工艺中必须使用高性能剥离剂。 具体地，剥离剂需要对干式蚀刻后形成的残留物具有去除能力，和对金属布线(尤 其是铜和铝）的抗腐蚀性能。此外，关于成本竞争力，剥离剂应为经济上有益的，使得它能加 工许多片基板。通常使用诸如单乙醇胺、单异丙醇胺等的水溶性有机胺或者诸如γ-丁内酯和 DMS0的有机溶剂来去除抗蚀剂。为了防止金属的胺致腐蚀，使用诸如儿茶酚、间苯二酚、苯 并三唑等的各种抗腐蚀剂，并且已提出含有这类抗腐蚀剂的抗蚀剂剥离剂组合物。 然而，在加工或长期贮存期间，常规光致抗蚀剂剥离剂组合物已知在剥离性能、处 理量和低稳定性方面存在问题。例如，未经审查的公开号为10-2006-0117666的韩国专利申 请公开了一种光致抗蚀剂剥离剂组合物，包含与本专利技术的化学式1相同的化合物和作为活 性成分的有机胺化合物，并且必须需要两种或更多种不同的抗腐蚀剂用于防止金属布线的 腐蚀。大量抗腐蚀剂的存在损害了抗蚀剂剥离剂组合物的性能，例如，剥离能力降低和完 成剥离工艺所花费的时间延长。 因此，抗蚀剂剥离组合物需要克服了相关领域中遇到的问题，并且需要表现出优 异的抗腐蚀效果以及快速且优异的剥离性能。 此外，对分辨率更高的平板显示器的需求已经需要在剥离工艺期间防止在基板上 出现诸如污渍的污染的先进技术。
技术实现思路
于是，本专利技术已经考虑到现有技术中出现的上述问题，并且本专利技术的目的是提供 一种抗蚀剂剥离剂组合物，该抗蚀剂剥离剂组合物对抗蚀剂残留物具有强去除能力，对金 属布线(诸如铜布线和铝布线)具有优异的抗腐蚀性能，并且能有效地防止污渍的形成。 为了实现上述目的，本专利技术的一个方面提供一种抗蚀剂剥离剂组合物，包含： 由以下化学式1表示的二醇醚化合物(A); 由以下化学式2表示的化合物(B); 碱性化合物(C); 伯醇(D);和极性疏质子溶剂(E)， 其中，由以下化学式1表示的二醇醚化合物(A)具有负(_)的Log辛醇/水分配系数 (P)(Log P)值： R-(〇CH2CH2)n-〇H 其中，R是甲基(-CH3)，或乙基(-CH2CH3)，并且η是整数2或3，其中，R1至R8相同或不同，并且各自独立地为氢原子或C1~C4烷基。【具体实施方式】下面，将给出本专利技术的详细描述。 根据本专利技术的一个方面，本专利技术提出一种抗蚀剂剥离剂组合物，包含： 由以下化学式1表示的二醇醚化合物(Α); 由以下化学式2表示的化合物(Β); 碱性化合物(C); 伯醇(D);和极性疏质子溶剂(Ε)，其中，由以下化学式1表示的二醇醚化合物(Α)具有负(_)的Log辛醇/水分配系数 (P)(Log P)值： R-(〇CH2CH2)n-〇H 其中，R是甲基(-CH3)，或乙基(-CH2CH3)，并且η是整数2或3， 其中，R1至R8相同或不同，并且各自独立地为氢原子或C1~C4烷基。各成分的说明如下。 (A)由化学式1表示的二醇醚化合物 本专利技术的抗蚀剂剥离剂组合物包含由以下化学式1表示的二醇醚化合物(A)，其 中，该二醇醚化合物具有负(_)的Log辛醇/水分配系数(P)(Log P)值。 R-(〇CH2CH2)n-〇H 其中，R是甲基(-CH3)或乙基(-CH2CH3)，并且η是整数2或3。 由于其对水的亲和力，由化学式1表示的二醇醚化合物(Α)有助于抗蚀剂剥离剂组 合物从基板上去除抗蚀剂残留物和其它有机材料。也就是说，该二醇醚化合物很容易地通 过使抗蚀剂残留物溶解或溶胀来从基板上去除抗蚀剂残留物。 常规抗蚀剂剥离剂组合物中通常使用的二醇醚化合物可例举为：乙二醇单异丙 醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单异丙醚、二乙二醇单丁醚、聚乙二醇、聚乙二醇单甲醚、聚乙 二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚、三丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯和四 氢糠醇。然而，这些化合物的缺点在于抗蚀剂剥离剂组合物对基板不具有抗污渍效果。 为了克服该缺点，使用由化学式1表示的二醇醚化合物。二醇醚的实例包括:二乙 二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、三乙二醇单甲醚和三乙二醇单乙醚，但不限于此。这些化合 物可以单独使用或组合使用。 由于含有化学式1的二醇醚化合物，本专利技术的抗蚀剂剥离剂组合物能实现对基板 的抗污渍效果。二醇醚化合物可根据辛醇/水分配系数(Ρ)进行分类。 根据本专利技术的化学式1的二醇醚化合物的特征在于由以下数学式1计算的负的Log 辛醇/水分配系数(P)(Log P)值。 Kow = Co/Cw 其中，Co是溶质在辛醇中的浓度，Cw是溶质在水中的浓度，并且Kow代表分配系 数，而且Kow = P，而Log Kow = Log P〇 本专利技术的抗蚀剂剥离剂组合物具有防止在抗蚀剂剥离处理中由剥离剂引起的污 渍形成的优异能力。这能够用辛醇/水分配系数(P)进行预测，而这已被实验证明。在这方 面，根据数学式1计算辛醇/水分配系数。分配系数的Log值(Log Kow = Log P)为负的二醇醚化合物用于制备对基板具有抗 污渍效果的抗蚀剂剥离剂组合物。 根据数学式1计算各种二醇醚的辛醇/水分配系数的Log值，并将结果列于以下表1 中。于是，发现二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和三乙二醇单甲醚适用于本专利技术。 表 1基于抗蚀剂剥离剂组合物的总重量，由化学式1表示的二醇醚化合物的含量优选 为5重量％至70重量％，且含量更优选为10重量％至30重量％。由化学式1表示的二醇醚化 合物的含量小于5重量％使得该组合物对基板不具有或具有很小的抗污渍效果。另一方面， 当二醇醚化合物的量超过70重量％时，就该组合物能够剥离的基板片数而言，该组合物可 降低剥离能力。 (B)由化学式2表示的化合物本专利技术的抗蚀剂剥离剂组合物包含由以下化学式2表示的化合物(B):其中，可相同或不同的R1至R8各自独立地为氢原子或C1~C4烷基。 在上述抗蚀剂剥离剂组合物中，由化学式1表示的化合物(B)决定对金属布线的抗 腐蚀性能。 由化学式2表示的化合物的实例包括，但不限于:4_甲基_4,5,6,7-四氢-1!1-苯并 三唑、5-甲基-4,5,6,7-四氢-1!1-苯并三唑、5,6-二甲基-4,5,6,7-四氢-1H-苯并三唑和4,6_二甲基-4,5,6,7-四氢-1H-苯并三唑。这些化合物可以 单独使用或组合使用。 基于抗蚀剂剥离剂组合物的总重量，由化学式2表示的化合物(B)的用量优选为 0.0001重量％至0.1重量％，且用量更优选为0.001重量％至0.005重量％。当由化学式2表 示的化合物的含量小于0.0001重量％时，金属布线在它长时间接触该剥离剂组合物后可被 部分地腐蚀。另一方面，化合物(A)含量大于0.1重量％的抗蚀剂剥离剂组合物由于粘度升 高可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离剂组合物，包含：由以下化学式1表示的二醇醚化合物(A)；由以下化学式2表示的化合物(B)；碱性化合物(C)；伯醇(D)；和极性疏质子溶剂(E)，其中，由以下化学式1表示的二醇醚化合物(A)具有负(‑)的Log辛醇/水分配系数(P)(Log P)值：[化学式1]R‑(OCH2CH2)n‑OH其中，R是甲基(‑CH3)，或乙基(‑CH2CH3)，并且n是整数2或3，[化学式2]其中，R1至R8相同或不同，并且各自独立地为氢原子或C1～C4烷基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李喻珍，高京俊，金正铉，金圣植，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR