用于生产包括三元合金的低辐射玻璃的涂层系统、方法和装置制造方法及图纸

在此公开的系统、方法，和设备用于形成低辐射板，其可包括基片和反射层，被形成在所述基片上。所述低辐射板可进一步包括顶部介质层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述顶部介质层和所述基片之间。所述顶部介质层可包括三元金属氧化物，如锌锡铝氧化物。所述顶部介质层也可包括铝。所述铝浓度的原子百分比为1％-15％，或为2％-10％。锌对锡的原子比可为0.67-1.5，或为0.9-1.1。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利技术背景1，
本专利技术公开涉及一种提供高透射率和低辐射率的薄膜，尤其是存放在透明基片上的薄膜。2，背景说明控制太阳光的材料，如处理过的玻璃片，通常用在建筑玻璃窗户和车辆窗户。这些材料通常提供高可见光透射和低辐射，从而允许更多的太阳光穿过玻璃窗户，同时阻止红外线(IR)辐射，来减少不需要的内部加热。在低辐射(low-E)材料，IR辐射主要反映在最小的吸收和发射，从而减少从低辐射表面的热传输。低辐射板通常由沉积反射层(例如，银)被形成在基片上，如玻璃。为了实现所需的性能，反射层的整体质量很重要。为了提供支持，以及保护，在反射层下和上形成多个其他层。这些层通常包括介质层，如氮化硅、氧化锡和氧化锌，从基片和环境中提供堆栈的保护。介质层还可作为光滤波器和防反射涂层的功能，来改善板的光特性。减少辐射的典型方法包括增加反射层(例如，银层)的厚度。然而，当反射层的厚度增加时，此层的可见光的透射性也减少。此外，高厚度减缓生产的生产量和成本增加。这可需要保留尽可能薄的反射层，同时还提供适用于低辐射应用的辐射。
技术实现思路
本公开是用于形成低辐射(low-E)板的系统、方法和装置。在一些实施例，低发射板可包括基片和反射层，被形成在所述基片上。所述低辐射板还可包括顶部介质层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述顶部介质层和所述基片之间。在一些实施例，所述顶部介质层可包括锌锡铝氧化物。在一些实施例，所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比可为1％-15％。所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比可为2％-10％。所述顶部介质层中的锌对锡的原子比可为0.67-1.5。所述顶部介质层可具有3eV-6eV的带隙。在一些实施例，所述顶部介质层是无定形的。对于400nm-2500nm的波长范围，所述顶部介质层的吸收系数可为0。所述顶部介质层的厚度可为10nm-50nm。在一些实施例，所述低辐射板还可包括阻挡层，被形成在所述顶部介质层和所述反射层之间。所述阻挡层可包含部分氧化的至少镍、钛、和铌的合金。在一些实施例，部分氧化的可以是两个或多个氧化混合物的合金，其中至少一个氧化物是非化学计量氧化物。在一些实施例，形成部分氧化的所有氧化物的合金是非化学计量氧化物。所述低辐射板可进一步包括顶部扩散层，被形成在所述顶部介质层上，从而所述顶部介质层被形成在所述顶部扩散层和所述阻挡层之间。所述顶部扩散层可包括氮化硅。所述低辐射板还可包括底部扩散层，被形成在所述基片和所述反射层之间。所述底部介质层可被形成在所述底部扩散层和所述基片之间。所述低辐射板还可包括种子层，被形成在所述底部介质层和所述反射层之间。在一些实施例，提供了形成低辐射板的方法。所述方法可包括提供部分装配板。所述部分装配板可包括基片，反射层，被形成在所述基片上，且阻挡层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述基片和所述阻挡层之间。所述方法还可包括：形成在所述阻挡层上的顶部介质层。所述阻挡层可包括部分氧化的三种或者多种金属的合金。所述顶部介质层可包括锌锡铝氧化物。此外，可用反应溅射法，在含有氧气环境形成所述顶部介质层。所述方法可进一步包括热处理具有所述顶部介质层的所述部分装配板。在一些实施例，在热处理的应用中，所述低辐射板的透射率到可见光的变化小于3％。所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比可为1％-15％。所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比可为2％-10％。所述顶部介质层中的锌对锡的原子比可为0.67-1.5。所述顶部介质层时无定形的。在一些实施例，所述顶部介质层的厚度可为10nm-50nm。所述方法可进一步包括在所述顶部介质层上形成顶部扩散层。所诉顶部扩散层可包括氮化钛。在一些实施例，形成低辐射板的方法被提供。所述方法可包括提供基片和底部扩散层，形成在所述基片上。所述方法还可包括底部介质层，形成在所述底部扩散层，和种子层，形成在所述底部介质层上。所述方法还可包括反射层，形成在所述种子层，和阻挡层，形成在所述反射层上。所述方法还可包括顶部介质层，形成在所述阻挡层上。所述阻挡层可包括部分氧化的三元或者多元金属的合金。所述顶部介质层可包括锌锡铝氧化物。可用反应溅射法，在含有氧气环境形成所述顶部介质层。参考以下图进一步地说明这些和其他实施例。附图简要说明为了便于理解，在可能的情况下，使用相同的参考数字来指定图中组件。在图中没有比例和各种元素的相对尺寸来描绘示意图，且不一定成比例。各种元素可通过考虑以下的详细描述，结合附图容易地被理解，其中：图1是示出根据一些实施例，制品包括基片，且堆栈包括一个反射层，被形成在所述基片上的示意图。图2是示出根据一些实施例，另一个制品包括基片，且堆栈包括两个反射层，被形成在所述基片上的示意图。图3是示出根据一些实施例，另一个制品包括基片，且堆栈包括三个反射层，被形成在所述基片上的示意图。图4是示出根据一些实施例，对应于用于形成制品的方法，包括反射层和阻挡层，用于从氧化中保护在此反射层材料的处理流程。图5是示出根据一些实施例，图解一个或多个介质层的结构分析的结果。图6是示出根据一些实施例，图解一个或多个介质层传输特性，包括锌锡铝氧化物前和后热处理的应用。图7是示出根据一些实施例，记分卡识别介质层的一个或多个光特性的示例。具体说明在下面的说明中，本专利技术的概念在以下的说明中设置了许多具体地细节，以便提供深入了解。本专利技术的概念可在没有一些或所有这些具体细节被实践。在其他情况下，众所周知的处理操作没有被详细地说明，以免使说明的概念模糊不清。当一些概念与具体地实施例结合在一起时，将被理解为这些实施例不限于此。介绍传统的低辐射(low-E)涂层可包括一个或多个堆栈可作为涂层产品，或钢化产品。在钢化产品中，玻璃包括在可被涂层、8分钟可被加热至650摄氏度的低辐射板。在钢化的玻璃/堆栈上可发生颜色变化，从而在外观制作不同的涂层产品和热处理(回火的)产品。因此，传统的介质层用在低辐射板可受到热处理后出现的不良结果的影响，如结晶化、减少在蓝色波长的光的吸收，及在低辐射玻璃的颜色变化。提供的低辐射板具有顶部介质层，由锌锡铝氧化物形成。也提供制造这些板的方法。与氧化锡或者二元金属氧化物制作的传统低辐射板不同，在此公开的板包括当受到热处理时，三金属氧化物显示较少的颜色变化。此外，在此公开的板的透射和反射特性比传统的板更稳定。实验结果表明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射板，包括：基片；反射层，被形成在所述基片上；和顶部介质层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述顶部介质层和所述基片之间，所述顶部介质层包括锌锡铝氧化物，其中，所述顶部介质层中的锌对锡的原子比为0.67‑1.5。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.03.13 US 61/778,758;2013.12.23 US 14/139,3501.一种低辐射板，包括：
基片；
反射层，被形成在所述基片上；和
顶部介质层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述顶
部介质层和所述基片之间，
所述顶部介质层包括锌锡铝氧化物，其中，所述顶部介质层中的锌对锡
的原子比为0.67-1.5。
2.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层中铝浓度的
原子百分比为1％-15％。
3.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层中铝浓度的
原子百分比为2％-10％。
4.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层具有3eV-6eV
的带隙。
5.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层是无定形的。
6.如权利要求1所述的低辐射板，其中，对于400nm-2500nm的波长
范围，所述顶部介质层的吸收系数为0。
7.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层的厚度为
10nm-50nm。
8.如权利要求1所述的低辐射板，进一步包括：阻挡层，被形成在所
述顶部介质层和所述反射层之间，所述阻挡层包含部分氧化的至少镍、钛、
和铌的合金。
9.如权利要求8所述的低辐射板，进一步包括：顶部扩散层，被形成
在所述顶部介质层上，从而所述顶部介质层被形成在所述顶部扩散层和所述
阻挡层之间，所述顶部扩散层包含氮化硅。
10.如权利要求9所述的低辐射板，进一步包括：底部扩散层，被形成
在所述基片和所述反射层之间；底部介质层，被形成在所述底部扩散层和所
述基片的之间；和种子层，被形成在所述底部介质层和所述反射层之间。
11.一种形成低辐射板的方法，其步骤包括：
提供部分装配板，...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·Z·张，B·博伊斯，J·成，M·伊姆兰，G·W·丁，M·H·乐，D·施瓦格特，Y·L·许，
申请(专利权)人：分子间公司，葛迪恩实业公司，
类型：发明
国别省市：美国;US