涂敷装置及涂敷装置的控制方法制造方法及图纸

提供形成始端及末端的形状错乱小的带状涂敷膜的涂敷装置。涂敷装置包括供给涂敷液的供给部、和涂敷部(3)，涂敷部(3)使从供给部所供给的涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷，涂敷部(3)具有：供给口(4)，供给涂敷液；第1缓冲室(5)，将从供给口(4)流入的涂敷液在宽度方向上分配；阻力通道(6)，相对于从第1缓冲室(5)流入的涂敷液施加比第1缓冲室(5)中的流体阻力大的流体阻力；第2缓冲室(7)，将从阻力通道(6)流入的涂敷液在宽度方向上分配；开闭阀(8)，设置在第2缓冲室(7)内部而控制从第2缓冲室(7)的上游向下游的连通和阻断；以及，狭缝喷嘴(10)，将经过开闭阀(8)而从第2缓冲室(7)流入的涂敷液相对于基材以规定的宽度吐出。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及适于从狭缝状的吐出口吐出涂敷液而在基材上形成带状的涂敷膜的用途、特别是断续地形成涂敷膜的用途的涂敷装置及涂敷装置的控制方法。
技术介绍
作为使粘接剂等涂敷液呈带状涂敷的涂敷装置，例如具备狭缝状的吐出口(也称为狭缝喷嘴、缝隙，下同)。该涂敷装置具有涂敷部，该涂敷部具有狭缝状的吐出口，该狭缝状的吐出口具有与所形成的涂敷膜带的宽度相同尺寸的宽度，使该吐出口与进行涂敷的基材对置地配置，在吐出口与基材之间设置与涂敷膜的厚度对应的规定的间隔。并且，与从供给部供给涂敷液同时地，使基材相对于吐出口(或者反之使吐出口相对于基材)在涂敷膜的形成方向上移动，从而将涂敷液呈带状涂敷。然而，在这种涂敷装置中，从供给部供给的涂敷液，从供给口进入涂敷部内，在涂敷部内在缝隙的宽度方向上扩展而从吐出口吐出。涂敷液的流动从涂敷部内的壁面受到阻力，因此在采用将从供给口流入的涂敷液单纯地在缝隙的宽度方向上分配的形状的涂敷部的情况下，会产生如下问题。从供给口向吐出口流动的路径的长度不一样，因此在吐出口的缝隙的宽度方向上产生压力差，导致涂敷膜的厚度不均匀。例如，在将供给口配置于缝隙的中央上游部时，则缝隙的中央附近的吐出压增大，吐出量也会增加，因此导致涂敷膜的带的厚度在中央附近增大。为了解决该课题，例如在日本特开平9－276769号记载的涂敷装置中构成为，在涂敷部内的供给口与狭缝状的吐出口(狭缝喷嘴)之间，将具有与缝隙<br>大致相同长度的宽度的存液部与缝隙平行设置，在存液部内还在缝隙与供给口之间设置至少1个的液流阻尼部件。这样使得吐出口的压力均匀化。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平9－276769号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，在这种涂敷装置中假定为连续的涂敷，在停止涂敷液的吐出的情况下，存在涂敷膜的末端形状错乱这样的问题。即，在从供给部利用泵等输送涂敷液的状态下使泵停止时，会因存液部内残存的压力使涂敷液不均匀地吐出，末端的形状会发生错乱。并且，在重启涂敷液的吐出时，在向存液部内输送的涂敷液的压力稳定之前的期间吐出压力也不稳定，因此存在涂敷膜的始端形状也会发生错乱这样的问题。本专利技术是针对上述情况做出的，目的是提供形成带状的涂敷膜的且形成始端及末端的形状错乱小的涂敷膜的涂敷装置及涂敷装置的控制方法。用于解决课题的手段本专利技术为一种涂敷装置，包括供给涂敷液的供给部、和涂敷部，所述涂敷部将从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷，所述涂敷装置的特征在于，所述涂敷部具有：供给口，供给所述涂敷液；第1缓冲室，将从所述供给口流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配；阻力通道，相对于从所述第1缓冲室流入的所述涂敷液施加比所述第1缓冲室中的流体阻力大的流体阻力；第2缓冲室，将从所述阻力通道流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配；开闭阀，设置在所述第2缓冲室的内部而控制从所述第2缓冲室的上游向下游的连通和阻断；以及，狭缝喷嘴，将经过所述开闭阀而从所述第2缓冲室流入的所述涂敷液相对于所述基材以所述规定的宽度吐出。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供形成带状涂敷膜的涂敷装置及涂敷装置的控制方法，即形成始端及末端的形状错乱小的涂敷膜的涂敷装置及涂敷装置的控制方法。附图说明图1是表示本专利技术第1实施方式的涂敷装置的概略图。图2是将图1的第1实施方式的涂敷部用A－A面切断的概略断面图。图3是表示本专利技术的第2实施方式的涂敷装置的涂敷部的概略断面图。图4是将图3的第2实施方式的涂敷部用B－B面切断的概略断面图。图5是表示本专利技术实施方式的涂敷装置实施的涂敷膜的一例的俯视图。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。图1是表示本专利技术第1实施方式的涂敷装置的概略图。涂敷装置1具备：贮存涂敷液的液箱T、将涂敷液从液箱T吸入并吐出的泵P、对泵P吐出的涂敷液进行输送的送液管2、从送液管2供给涂敷液的涂敷部3。液箱T、泵P、送液管2整体构成了供给部。涂敷部3是大致立方体形状，图1示出了与其宽度方向正交的面所形成的断面。图2用图1的A－A断面进行切断而在箭头方向上看的涂敷部3的断面图。由此并用图2进行说明。涂敷部3具有：供给口4；在该供给口4下游设置的第1缓冲室5；在该第1缓冲室5下游设置的阻力通道6；在该阻力通道6下游设置的第2缓冲室7；在第2缓冲室7内设置的开闭阀8；对这些供给口4、第1缓冲室5、阻力通道6、第2缓冲室7进行收纳的壳体11；在第2缓冲室7下游设置的狭缝喷嘴10；以及，保持狭缝喷嘴的喷嘴保持部件12。供给口4在涂敷部3的宽度方向端部上设置，并与第1缓冲室5连接。第1缓冲室5是在涂敷部3的宽度方向(图2的左右方向)上延伸的大致圆柱状的液室，构成为第1缓冲室5的宽度方向长度比后述的阻力通道6长，进深(图1的左右方向长度)也比阻力通道6大。在第1缓冲室5的下游(对于涂敷液的流动意味着在上游或下游配置，下同)配置有阻力通道6。阻力通道6在涂敷部3的宽度方向上延伸，并构成为比第1缓冲室5的长度短。阻力通道6的进深(图1的左右方向长度)比第1缓冲室5的进深小，是能够够相对于涂敷液的粘度、流速充分地施加较大的流体阻力的尺寸。在阻力通道6下游设有第2缓冲室7。第2缓冲室7在涂敷部3的宽度方向上延伸，并构成为比阻力通道6的长度长。第2缓冲室7的进深(图1的左右方向长度)比阻力通道6大地形成。在第2缓冲室7的内部设有开闭阀8。开闭阀8是在其宽度方向上贯通第2缓冲室7地延伸的圆柱，并设置为能够使圆柱的中心轴绕中心旋转。在开闭阀8的内部构成第2缓冲室7的一部分，并且设有将第2缓冲室7的上游部分与下游部分连通的连通口9。连通口9的宽度及进深采用与第2缓冲室的情况分别大致相同的尺寸。这样将开闭阀8设于第2缓冲室7的内部，因此无需另设收纳开闭阀的空间，能够紧凑地设计涂敷部3。图1及图2所示的开闭阀8为开阀状态。例如在图1中，若使该开闭阀8向右旋转90度则连通口9也会旋转，从而使第2缓冲室7的上游部分与下游部分的连通被阻断而关闭。并且，通过使开闭阀8进一步向右(或向左)旋转90度，则上游与下游会再次连通而开阀。在第2缓冲室7下游配置狭缝喷嘴10。壳体11收纳有供给口4、第1缓冲室5、阻力通道6、第2缓冲室7、开闭阀8，在第2缓冲室7下游侧的开口部，介由在壳体11上固定的喷嘴保持部件12，可装卸地保持有狭缝喷嘴10。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷装置，包括供给涂敷液的供给部、和涂敷部，所述涂敷部将从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷，所述涂敷装置的特征在于，所述涂敷部具有：供给口，供给所述涂敷液；第1缓冲室，将从所述供给口流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配；阻力通道，相对于从所述第1缓冲室流入的所述涂敷液施加比所述第1缓冲室中的流体阻力大的流体阻力；第2缓冲室，将从所述阻力通道流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配；开闭阀，设置在所述第2缓冲室的内部而控制从所述第2缓冲室的上游向下游的连通和阻断；以及狭缝喷嘴，将经过所述开闭阀而从所述第2缓冲室流入的所述涂敷液相对于所述基材以所述规定的宽度吐出。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.07.04 JP 2013-1402821.一种涂敷装置，包括供给涂敷液的供给部、和涂敷部，所述涂敷部将
从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷，
所述涂敷装置的特征在于，
所述涂敷部具有：
供给口，供给所述涂敷液；
第1缓冲室，将从所述供给口流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配；
阻力通道，相对于从所述第1缓冲室流入的所述涂敷液施加比所述第1
缓冲室中的流体阻力大的流体阻力；
第2缓冲室，将从所述阻力通道流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分
配；
开闭阀，设置在所述第2缓冲室的内部而控制从所述第2缓冲室的上游向
下游的连通和阻断；以及
狭缝喷嘴，将经过所述开闭阀而从所述第2缓冲室流入的所述涂敷液相对
于所述基材以所述规定的宽度吐出。
2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述涂敷部具备对所述供给口、所述第1缓冲室、所述阻力通道及所述第
2缓冲室进行收纳的壳体，所述壳体在所述第2缓冲室的下游具有保持所述狭
缝喷嘴的喷嘴保持部件，
所述狭缝喷嘴相对于所述涂敷液的吐出方向能够在直角方向上装卸。
3.根据权利要求1或2所述的涂敷装置，其特征在于，
所述开闭阀为在所述宽度方向上延伸的圆柱形状，具有将所述第2缓冲室
的上游和下游连通的连通口。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述开闭阀配置在所述第2缓冲室的内部即在下游所配置的所述狭缝喷
嘴的附近。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的涂敷装置，其特征在于，
通过所述开闭阀进行开阀及闭阀而能够停止及重启所述涂敷液从所述狭

\t缝喷嘴的吐出，
在所述开闭阀从闭阀向开阀切换时，所述涂敷液填充到所述狭缝喷嘴的顶
端。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述阻力通道的进深设定为比所述第1缓冲室的进深小。
7.一种涂敷装置，包括供给涂敷液的供给部、和涂敷部，所述涂敷部将
从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤幸一郎，
申请(专利权)人：三键精密化学有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP