基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法，该基底处理装置，将反射性光掩膜图案像投影曝光于感应基底，具备：光掩膜保持构件，保持光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于光掩膜图案上一部分照明区域产生的反射光束往感应基底投射；光学构件包含：为对照明区域落斜照明而配置于投影光学系统的光路内、使往照明区域的照明光与从照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为照明光的源的光源像，经由投影光学系统的一部分光路与光学构件使来自光源像的照明光往所述照明区域，且将与光源像在共轭面形成于光学构件的反射或通过部分的位置或近旁。本发明专利技术能忠实曝光较大光掩膜图案。

【技术实现步骤摘要】
基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法本案是申请日为2012年10月11日，申请号为201280063563.4，专利技术名称为“基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法”的专利申请的分案申请。
本专利技术是关于基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法。本申请案根据2011年12月20日申请的日本特愿2011－278290号及2012年2月7日申请的日本特愿2012－024058号主张优先权，将其内容援引用于此。
技术介绍
曝光装置等基底处理装置，例如下述的专利文献1所记载，用于各种器件的制造。基底处理装置，能将配置于照明区域的光掩膜M上所形成的图案像投影于配置在投影区域的基底上等。用于基底处理装置的光掩膜M有平面状的、圆筒状的。又，作为制造器件的方法之一，已知有例如下述的专利文献2所记载的卷对卷(rolltoroll)方式。卷对卷方式，是一边从送出用卷筒往回收用卷筒搬送膜等基底，一边在搬送路径上对基底进行各种方式的处理。基底有时会例如在搬送滚筒之间等以实质上平面的状态被施以处理。又，基底亦有例如在滚筒表面上等以弯曲的状态被施以处理的情形。现有技术文献：[专利文献1]日本特开2007-299918号公报；[专利文献2]国际公开第2008/129819号。
技术实现思路
专利技术欲解决的课题：如上述的基底处理装置(曝光装置)，在例如光掩膜上的照明区域与基底上的投影区域的一方或双方以既定曲率弯曲的情形，若考量用于曝光的投影光学系统的成像性能，则特别是会在成像光束的主光线的设定上产生限制。例如，试假定将形成于半径R的圆筒状旋转光掩膜的外周圆筒面的光掩膜图案通过投影光学系统成像投影于卷绕在半径R的圆筒旋转卷筒(滚筒)的基底(膜、片、网等)表面的情形。此情形下，一般而言，只要设置从光掩膜图案(圆筒面状)至基底表面(圆筒面状)的成像光束的主光线会形成将圆筒状旋转光掩膜的旋转中心轴与圆筒旋转卷筒的旋转中心轴直线连结的光路的投影光学系统即可。然而，当在圆筒状旋转光掩膜的旋转轴方向，光掩膜图案的尺寸较大的情形，有时需将此种投影光学系统于旋转轴的方向设置多个而多个化。此种多个化的情形，即使将多个投影光学系统于旋转轴的方向紧密地排成一列，各投影光学系统的投影视野(投影区域)彼此必定会分离镜筒等金属物的厚度，如此已无法将大光掩膜图案忠实地曝光。又，如上述的基底处理装置在例如装置的构成复杂时，则有可能有装置成本提高、装置尺寸变大的情形。其结果，有可能使器件的制造成本提高。例如，当必须施以精密图案化时，作为基底处理装置，使用照明描绘有电子器件或显示器件的图案的光掩膜、并将来自光掩膜的图案的光投影曝光于形成有感光层(光阻等)的基底上的曝光装置。在通过卷对卷方式将光掩膜的图案反复曝光于连续搬送的柔性长条基底(膜、片、网等)的情形，若亦使用以长条基底的搬送方向作为扫描方向、采用圆筒状旋转光掩膜作为光掩膜的扫描型曝光装置，则可期待生产性跳跃性地提高。此种旋转光掩膜，有于玻璃等透明圆筒体外周面以遮光层形成有图案的透射方式与于金属性圆筒体(亦可为圆柱体)的外周面以反射部与吸收部形成有图案的反射方式。透射型的圆筒光掩膜，必须于该圆筒光掩膜内部组装用以照射朝向外周面的图案的照明光的照明光学系统(反射镜、透镜等光学构件)，难以将旋转轴通过圆筒光掩膜的内部中心，而亦有圆筒光掩膜的保持构造或旋转驱动系统的构成变得复杂的情形。另一方面，反射型的圆筒光掩膜的情形，由于能使用金属制的圆筒体(或圆柱体)，因此虽能廉价地作成光掩膜，但必须于圆筒光掩膜的外周空间设置照射曝光用的照明光的照明光学系统与将来自形成于外周面的图案的反射光往基底投影的投影光学系统，而有为了满足被要求的解像力或转印忠实度等的曝光装置侧的构成变得复杂的情形。本专利技术的形态，其目的在于提供一种基底处理装置，搭载有即使光掩膜或基底(膜、片、网等柔性基底)的一方或双方配置成圆筒面状亦能将较大光掩膜图案忠实地曝光所使用的投影光学系统。其他目的，为提供能将较大光掩膜图案忠实地曝光的器件制造系统及器件制造方法。又，其他目的为提供能将装置的构成简化的基底处理装置。又，其他目的为能提供能减低制造成本的器件制造系统及器件制造方法。用以解决课题的手段：依据本专利技术的一形态，提供一种基底处理装置，具备：投影光学系统，将来自第1物体(光掩膜)上的照明区域的光束投射于第2物体(基底)上的投影区域；第1支承构件，以在照明区域与投影区域中的一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒状的第1面的方式支承第1物体与第2物体中的一方；以及第2支承构件，以在照明区域与投影区域中的另一方区域中沿着既定第2面的方式支承第1物体与第2物体中的另一方；投影光学系统具备偏向构件，该偏向构件以从照明区域至投影区域的成像光束的主光线中第1面与投影光学系统间的主光线朝向第1面的径方向中与第2面为非垂直的径方向的方式使成像光束传播。依据本专利技术其他形态，提供一种器件制造系统，具备上述形态的基底处理装置。依据本专利技术其他形态，提供一种器件制造方法，包含：通过上述形态的基底处理装置使第2物体曝光；以及通过处理曝光后的第2物体来形成第1物体的图案。依据本专利技术其他形态，提供一种基底处理装置，将反射性的光掩膜图案的像投影曝光于感应基底上，其具备：光掩膜保持构件，保持光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于光掩膜图案上一部分的照明区域产生的反射光束往感应基底投射，借此将光掩膜图案一部分的像成像于感应基底；光学构件，包含：为了对照明区域进行落斜照明而配置于投影光学系统的光路内、使往照明区域的照明光与从照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为照明光的源的光源像，经由投影光学系统的一部分光路与光学构件使来自光源像的照明光往照明区域，且将与光源像在光学上共轭的共轭面形成于光学构件的反射部分或通过部分的位置或近旁。依据本专利技术其他形态，提供一种基底处理装置，将反射性的光掩膜图案的像投影曝光于感应基底上，其具备：光掩膜保持构件，保持光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于光掩膜图案上一部分的照明区域产生的反射光束往感应基底投射，借此将光掩膜图案一部分的像成像于感应基底；光学构件，包含：为了对照明区域进行落斜照明而配置于投影光学系统的光路内、使往照明区域的照明光与从照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，将作为照明光的源的多个光源像规则地或乱数地形成于光学构件的反射部分或通过部分的位置或其近旁。依据本专利技术其他形态，提供一种器件制造系统，具备上述形态的基底处理装置。依据本专利技术其他形态，提供一种器件制造方法，包含：通过上述形态的基底处理装置使物体曝光；以及使曝光后的物体显影。依据本专利技术其他形态，提供一种器件制造方法，将柔性片状基底连续地于长边方向移送、同时于该片状基底上形成器件用的图案，其包含：使沿从第1中心线起为一定半径的圆筒面形成有与器件的图案对应的透射型或反射型的光掩膜图案的圆筒光掩膜绕第1中心线旋转；通过具有从与第1中心线平行的第2中心线起为一定半径的圆筒状外周面的圆筒体，使片状基底一部分弯曲并支承、同时将片状基底移送于长条方向；通过一组投影光学系统将光掩膜图案的投影像曝光于片状基底，该一组投影本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基底处理装置，是将反射性的光掩膜图案的像投影曝光于感应基底上，其特征在于，其具备：光掩膜保持构件，保持所述光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于所述光掩膜图案上一部分的照明区域产生的反射光束往所述感应基底投射，借此将所述光掩膜图案一部分的像成像于所述感应基底；光学构件，包含：为了对所述照明区域进行落斜照明而配置于所述投影光学系统的光路内、使往所述照明区域的照明光与从所述照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为所述照明光的源的光源像，经由所述投影光学系统的一部分光路与所述光学构件使来自所述光源像的照明光往所述照明区域，且将与所述光源像在光学上共轭的共轭面形成于所述光学构件的反射部分或通过部分的位置或近旁。

【技术特征摘要】
2011.12.20 JP JP2011-278290;2012.02.07 JP JP2012-01.一种基底处理装置，是将反射性的光掩膜图案的像投影曝光于感应基底上，其特征在于，其具备：光掩膜保持构件，保持所述光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于所述光掩膜图案上一部分的照明区域产生的反射光束往所述感应基底投射，借此将所述光掩膜图案一部分的像成像于设定在所述感应基底上的一部分的投影区域；光学构件，包含：为了对所述照明区域进行落斜照明而配置于所述投影光学系统的光路内、使往所述照明区域的照明光与从所述照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，生成作为所述照明光的源的光源像，经由所述投影光学系统的一部分光路与所述光学构件使来自所述光源像的照明光往所述照明区域，且将与所述光源像在光学上共轭的共轭面形成于所述光学构件的反射部分或通过部分的位置或近旁。2.一种基底处理装置，是将反射性的光掩膜图案的像投影曝光于感应基底上，其特征在于，其具备：光掩膜保持构件，保持所述光掩膜图案；投影光学系统，将从设定于所述光掩膜图案上一部分的照明区域产生的反射光束往所述感应基底投射，借此将所述光掩膜图案一部分的像成像于设定在所述感应基底上的一部分的投影区域；光学构件，包含：为了对所述照明区域进行落斜照明而配置于所述投影光学系统的光路内、使往所述照明区域的照明光与从所述照明区域产生的反射光束中的一方通过的部分与使另一方反射的部分；以及照明光学系统，将作为所述照明光的源的多个光源像规则地或随机地形成于所述光学构件的反射部分或通过部分的位置或其近旁。3.如权利要求1的基底处理装置，其特征在于，所述光学构件配置于所述投影光学系统的瞳面的位置或近旁，相对所述投影光学系统的光轴通过的所述瞳面上的中心点，所述反射部分与所述通过部分在所述瞳面内配置于点对称的区域。4.如权利要求2的基底处理装置，其特征在于，所述光学构件的通过部分，在形成所述光源像的面内离散地形成多个，且各通过部分相对所述面上的中心点配置于彼此为非点对称的区域。5.如权利要求1至4中任一项的基底处理装置，其特征在于，所述光学构件具有多个所述通过部分；在所述光学构件中所述反射光束射入的射入端面中，所述多个通过部分的间隔比所述反射光束的点大。6.如权利要求1至4中任一项的基底处理装置，其特征在于，所述照明光学系统具备：第1光学系统，对所述光学构件中朝向所述反射光束射入的射入端面的相反侧的相反面照射所述照明光，于所述通过部分形成光源像；以及第2光学系统，将相对于所述光源像的与所述第1光学系统的瞳面共轭的面形成于所述照明区域。7.如权利要求6的基底处理装置，其特征在于，所述第1光学系统具备：透镜阵列，包含形成光源像的多个透镜要件；以及中继透镜，将形成于所述透镜要件的光源像中继至所述通过部分。8.如权利要求7的基底处理装置，其特征在于，所述中继透镜具备：第1透镜，形成相对于形成于所述透镜要件的光源像的瞳面；以及第2透镜，相对所述第1透镜的中心轴为偏心。9.如权利要求8的基底处理装置，其特征在于，所述多个透镜要件，相对所述第1透镜的中心轴配置于彼此为非对称的区域。10.如权利要求8的基底处理装置，其特征在于，所述第2透镜的中心轴与所述第2光学系统的光轴为同轴。11.如权利要求6的基底处理装置，其特征在于，所述第1光学系统具备杆透镜；所述杆透镜具有：从光源射入所述照明光的射入端面；射入所述杆透镜的所述射入端面的所述照明光反射的内面；以及配置于与所述照明区域共轭的位置、在所述杆透镜的所述内面反射的所述照明光射出的射出端面。12.如权利要求11的基底处理装置，其特征在于，连结所述杆透镜的所述射入端面的中心与所述杆透镜的所述射出端面的中心的中心轴相对所述第2光学系统的光轴为偏心。13.如权利要求6的基底处理装置，其特征在于，所述投影光学系...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP