感光基板的曝光方法技术

本发明专利技术公开了一种感光基板的曝光方法，首先提供平面发光源，其具有至少三个发光体；之后提供底片，面向该平面发光源的照射面；接着提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；之后使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。借此，本发明专利技术的感光基板的曝光方法可使感光基板均匀曝光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，尤其涉及一种可使感光基板均匀曝光的。
技术介绍
现今的印刷电路板被广泛地应用于电子设备或电子装置，且为制成印刷电路板上的电路，曝光机因此被开发而加入制程的行列。然而，一般的曝光机的各个发光体所产生的光线强度不均，致使这些发光体照射感光基板时常使得感光基板曝光不均匀。因此，如何研发出一种，以使其可使感光基板均匀曝光，将是本专利技术所欲积极揭露之处。
技术实现思路
有鉴于上述现有技术之缺憾，专利技术人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克月艮，进而研发出一种，以期达到可使感光基板均匀曝光的目的。为达上述目的及其他目的，本专利技术提供一种，其包含下列步骤:(S1)提供平面发光源，其具有至少三个发光体；(S2)提供底片，面向该平面发光源的照射面；(S3)提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；以及(S4)使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。上述的中，该平移为来回的平移或二维的平移，该二维的平移为S形的平移、U形的平移或圆形的平移。上述的中，这些发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光基板的曝光方法，其特征在于，包含下列步骤：S1.提供平面发光源，其具有至少三个发光体；S2.提供底片，面向该平面发光源的照射面；S3.提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；以及S4.使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周坤麟，何立克，
申请(专利权)人：叙丰企业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71