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本发明公开了一种感光基板的曝光方法，首先提供平面发光源，其具有至少三个发光体；之后提供底片，面向该平面发光源的照射面；接着提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；之后使该平面发光源在其所在平面相对于该底片...
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