辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体
，特别涉及一种辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台。
技术介绍
在半导体制造中，光刻区是影响产能的重要区域。光刻区机台昂贵，工序精密且复杂，同时还伴有前后工序间的光刻区机台绑定，以消除光刻偏差，因此影响产能的因素很多。在光刻工艺中，光罩(Reticle)是光刻区的核心要素，他定义了产品的图形。在工厂生产中，不同产品以及同一产品的不同工艺制程所用的光罩图案可能是相异的，在这种情况下，晶圆在进行曝光之前需要切换光罩。目前光刻区机台的产品处理方法首先由线上工程师先通过查询MES系统(Manufacturing Execut1n System,工厂制造执行系统)，查询到当前机台正在使用的光罩的情况和参数，并将使用该光罩的晶圆组放入机台进行产品处理。当晶圆并非为同一晶圆组产品或该晶圆所需光罩并非为当前机台上的光罩时，工程师则去寻找晶圆对应的光罩，并进行光罩切换。但是，这种切换光罩的方式没有考虑到光刻区前后工艺间的关系，晶圆片是串行进入前后工艺流程的，若未及时切换对应晶圆的合适光罩，会导致光罩切换时间过长，连同影响后续晶圆片的工艺进展...
【技术保护点】
一种辅助光刻区机台切换光罩的方法，其特征在于，包括：对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；监测所述晶圆的运行轨迹；若所述晶圆的曝光需切换光罩，则在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：方利，黄亮，张宛铮，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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