一种多功能磁控溅射自动镀膜生产线及其镀膜方法技术

本发明专利技术公开了一种多功能磁控溅射自动镀膜生产线，其主要由上片架、前清洗机、进片粗抽室、进片预抽室、进片过渡室、进片缓冲室、镀膜室、出片缓冲室、出片过渡室、出片预抽室、出片粗抽室、出片架、平移架、底漆淋漆室、底漆洪烤箱、面漆淋漆室、面漆烘烤箱、面漆风干室、后清洗机和下片架构成，进片缓冲室和出片缓冲室均设有镀膜靶；进片预抽室设有第一变换抽真空机组，出片预抽室设有第二变换抽真空机组；进片过渡室和进片缓冲室之间设有进片排气组件，出片缓冲室和出片过渡室之间设有出片排气组件。本发明专利技术还公开了一种多功能磁控溅射自动镀膜生产线的镀膜方法。本发明专利技术可将多种镀膜工艺集中于同一设备中，降低了生产投入，提高了经济效益。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜技术，具体涉及。
技术介绍
随着平板玻璃产业的兴起，平板铝镜、阳光控制膜和LOW-E膜平板玻璃的需求量越来越大，市场的竞争也越来越激烈，对磁控镀膜生产线各项指标性能的要求也越来越高。中国的玻璃产量位于全世界之首，因此企业能同时拥有多种高质量的平板玻璃产品就有更多的竞争力。目前，平面铝镜磁控镀膜生产线的主要工艺流程一般为:上片架一前清洗机一进片过渡架一进片粗抽室一进片预抽室一进片过渡室一进片缓冲室一镀膜室一出片缓冲镀—出片过渡室一出片预抽室一出片粗抽室一出片过渡架一平移架一底漆淋漆段一底漆烘烤箱一面漆淋漆段一面漆烘烤箱一面漆风干段一后清洗机一纠偏架一下片架。阳光控制膜和LOW-E(低辐射膜)磁控镀膜生产线的主要工艺流程一般为:上片架一前清洗机一进片过渡架一进片粗抽室一进片预抽室一进片缓冲室一前镀膜室一镀膜室一后镀膜室一出片缓冲室一出片预抽室一出片粗抽室一出片过渡架一纠偏架一下片架。故当前对玻璃工件镀不同的膜时需要使用不同的生产线进行。若企业需要生镀有不同膜的玻璃时，需要配备多条镀膜生产线，故企业的投入资金就非常巨大，生产成本就非常高，在现在激烈的市场竞争本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多功能磁控溅射自动镀膜生产线，包括依次连接的上片架、前清洗机、进片过渡架、真空镀膜装置、出片架、平移架、底漆淋漆室、底漆洪烤箱、面漆淋漆室、面漆烘烤箱、面漆风干室、后清洗机、纠偏架和下片架，其特征在于：所述真空镀膜装置包括依次连接的进片粗抽室、进片预抽室、进片过渡室、进片缓冲室、镀膜室、出片缓冲室、出片过渡室、出片预抽室和出片粗抽室；所述进片缓冲室和出片缓冲室均设有镀膜靶；所述进片预抽室设有第一变换抽真空机组，所述出片预抽室设有第二变换抽真空机组；所述进片过渡室和进片缓冲室之间设有进片排气组件，所述出片缓冲室和出片过渡室之间设有出片排气组件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏贵方，
申请(专利权)人：肇庆市大力真空设备有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44