【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种制备方法,具体是。
技术介绍
高硬度多层薄膜,特别是氮化物多层薄膜体系,它们的高硬度在材料组合上的多样性和其性能上的可选择性,展示了这类薄膜在包括工具涂层和装饰涂层在内的各种表面强化和表面改性领域广阔的应用前景。纯金属(如镍)具有良好的塑性,氮化物(如氮化饮)陶瓷具有高硬度,两者的结合能获得优越的力学性能。其原囚有:一是由于金属与氮化物的晶体结构及滑移系的不同,对位错的移动和裂纹的扩展起阻碍作用,将引起硬度的升高;二是塑性良好的金属与高硬度的氮化物交替形成的层状结构,软金属可以减缓高硬度层的残余应力或剪切应力,对薄膜的韧性、结合强度和耐磨性有益。真空技术沉积的薄膜不可避免的存在一些缺陷,且磁控溅射沉积的TiN薄膜为柱状结构,其生成的缺陷多为贯穿式缺陷。这类缺陷的存在使腐蚀介质与基体直接接触,大大降低薄膜的耐腐蚀性能。TiN层中增加金属层,能够阻止贯穿式缺陷的产生,提高薄膜的耐腐蚀性能。陶瓷/金属纳米多层薄膜体系中研究最多的为TiN/Ti和CrN/Cr等,其多层薄膜在沉积过程中需要频繁的调节氮气分压,操作不便,且效率低。针对以上问题,木专 ...
【技术保护点】
一种复合多层薄膜涂层的制备方法,其特征在于,包括以下制备步骤:选用铝材为基体,基体表面经砂纸研磨并抛光后,分别用酒精和超声波清洗、烘干后,取质量浓度为5%的三价铬酸盐溶液,其中,三价铬酸盐溶液中三价铬的含量以Cr2O3计含量为2g/L,然后,在室温下,用三价铬酸盐溶液处理铝材表面约5分钟,形成导电氧化层,装入真空室准备镀膜;用直流反应磁控共溅射镀膜系统,纯金属钦靶和纯金属镍靶同时对准上方中心处的基体,沉积多层薄膜前先将真空室抽真空至6.0*10负六次方帕,然后通入高纯氦气,在基体上沉积一层厚度为30000纳米的金属钦层;沉积工艺条件为:钦靶功率40~100瓦,基体偏压0~2 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:郝建华,欧迪斐,肖伟,李会斌,
申请(专利权)人:芜湖华宇彩晶科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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