本发明专利技术提供了一种半导体清洗设备的刷子运动装置，包括：壳体，所述壳体内具有空腔，所述空腔在所述壳体的一端具有开口；弹簧，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述壳体相固定；滑动块，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述弹簧的第二端固定，其第二端用于固定刷子，在平衡状态下，所述滑动块和刷子的重力与所述弹簧的弹力平衡。本发明专利技术能够实现刷子的弹性运动，使得刷子的运动更加灵活、稳定。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体清洗设备的刷子运动装置。
技术介绍
晶圆清洗对于半导体工业是极为重要的，在半导体器件以及集成电路的制造工艺中，几乎每一步工艺都涉及到清洗，而且集成电路的集成度越高，制造工序越多，所需要的清洗工序也就越多。在诸多的清洗工序中，只要其中有一步清洗工序达不到要求，则前功尽弃，导致整批集成电路芯片的良率下降甚至报废。半导体清洗设备中，刷子往往需要上下运动，但是，现有技术中并没有一种适当的控制刷子上下运动的装置。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种半导体清洗设备的刷子运动装置，能够实现刷子的弹性运动，使得刷子的运动更加灵活、稳定。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种半导体清洗设备的刷子运动装置，包括:壳体，所述壳体内具有空腔，所述空腔在所述壳体的一端具有开口 ；弹簧，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述壳体相固定；滑动块，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述弹簧的第二端固定，其第二端用于固定刷子，在平衡状态下，所述滑动块和刷子的重力与所述弹簧的弹力平衡。根据本专利技术的一个实施例，所述壳体的侧壁具有开口，该装置还包括:悬臂，其第一端与所述滑动块固定，其第二端从所述开口伸出；缓冲器，固定在所述开口上方的壳体外壁上，对向上回弹的悬臂进行缓冲。根据本专利技术的一个实施例，所述缓冲器包括:外壳，固定在所述开口上方的壳体外壁上；弹性伸缩件，设置在所述外壳内，在外力作用下弹性伸缩。根据本专利技术的一个实施例，所述滑动块的第一端经由固定销与所述弹簧的第二端固定，其中，所述固定销的第一端与所述弹簧的第二端固定，所述固定销的第二端与所述滑动块的第一端固定。根据本专利技术的一个实施例，所述空腔的顶部具有挂钩，所述弹簧的第一端可拆卸地固定在所述挂钩上。与现有技术相比，本专利技术具有以下优点:本专利技术实施例的刷子运动装置中，将刷子固定在滑动块上，而滑动块则与弹簧相连，从而实现了刷子的弹性运动。在平衡状态下，滑动块和刷子的重力与弹簧的弹力平衡；在刷子头部受力时，滑动块逐渐下移，拉伸的弹簧对滑动块施加向上的拉力，促使其回位。进一步而言，本专利技术实施例的刷子运动装置还具有缓冲器，当滑动块向上回弹时，可以对滑动块起到缓冲作用，防止受力过大造成滑动块的上下往复振动，实现了平稳受力。【附图说明】图1是本专利技术实施例的半导体清洗设备的刷子运动装置的剖面结构图；图2是本专利技术实施例的半导体清洗设备的刷子运动装置的正视图；图3是本专利技术实施例的半导体清洗设备的刷子运动装置的俯视图。【具体实施方式】下面结合具体实施例和附图对本专利技术作进一步说明，但不应以此限制本专利技术的保护范围。参考图1至图3，本实施例的刷子运动装置包括:壳体10、弹簧11、滑动块12、悬臂13、缓冲器14以及固定销15。进一步而言，该壳体10的内部具有空腔，该空腔在壳体10的一端具有开口，以供滑动块12移动。壳体10的形状可以是任何适当的形状，例如可以呈圆柱状。弹簧11设置在壳体10的空腔内，弹簧11的第一端与壳体10相固定。作为一个非限制性的例子，壳体10的空腔顶部具有挂钩16，该挂钩16固定在空腔顶部上，弹簧11的第一端可拆卸地固定在挂钩16上，例如可以钩在挂钩16上，以便于拆卸和安装。滑动块12设置在壳体10的空腔内，其第一端与弹簧11的第二端固定，其第二端用于固定刷子。进一步而言，滑动块12与弹簧11呈上下分布，弹簧11在空腔的上部，滑动块12在空腔的下部。开口的尺寸可以略大于滑动块12的尺寸，以使得滑动块12可以自由移动。在平衡状态下，弹簧11在滑动块12和刷子的重力作用下被向下拉伸，滑动块12和刷子的重力与弹簧11的弹力平衡。滑动块12与刷子之间的连接方式优选为可拆卸式连接，以便于拆卸和更换刷子。作为一个非限制性的例子，弹簧11的第二端与滑动块12的第一端之间可以通过固定销15固定。其中，固定销15的第一端与弹簧11的第二端固定，固定销15的第二端与滑动块12的第一端固定。当然，固定销15仅仅是示例，滑动块12与弹簧11之间的连接方式还可以是其他的适当方式，例如二者可以直接连接。壳体10的侧壁可以具有开口，该开口与内部的空腔连通，悬臂13自该开口伸出。进一步而言，悬臂的第一端与滑动块12固定，第二端自开口伸出该空腔。缓冲器14固定在开口上方的壳体10的外壁上，对向上回弹的悬臂13进行缓冲。缓冲器14可以提供阻尼式的缓冲。作为一个非限制性的例子，缓冲器14可以包括外壳和弹性伸缩件，其中外壳固定在开口上方的壳体10的外壁上，弹性伸缩件设置在外壳内，在外力作用下弹性伸缩。更加具体而言，当刷子的头部受力被向下牵引时，滑动块12随着向下，固定在滑动块12上的悬臂13也下移，弹簧11受力拉伸；在刷子头部的受力消除时，刷子、滑动块12以及悬臂13将在弹簧11拉力的作用下回弹，缓冲器14将对回弹的悬臂13进行缓冲，使得悬臂13向上回弹的速度降低，也就是在缓冲器14的缓冲作用下，缓缓上移，而不会剧烈回弹撞击壳体10，也不会造成悬臂13和滑动块12的上下震动，使得回弹时的运动更加平稳。本专利技术虽然以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本专利技术，任何本领域技术人员在不脱离本专利技术的精神和范围内，都可以做出可能的变动和修改，因此本专利技术的保护范围应当以本专利技术权利要求所界定的范围为准。【主权项】1.一种半导体清洗设备的刷子运动装置，其特征在于，包括: 壳体，所述壳体内具有空腔，所述空腔在所述壳体的一端具有开口 ； 弹簧，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述壳体相固定； 滑动块，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述弹簧的第二端固定，其第二端用于固定刷子，在平衡状态下，所述滑动块和刷子的重力与所述弹簧的弹力平衡。2.根据权利要求1所述的半导体清洗设备的刷子运动装置，其特征在于，所述壳体的侧壁具有开口，该装置还包括: 悬臂，其第一端与所述滑动块固定，其第二端从所述开口伸出； 缓冲器，固定在所述开口上方的壳体外壁上，对向上回弹的悬臂进行缓冲。3.根据权利要求2所述的半导体清洗设备的刷子运动装置，其特征在于，所述缓冲器包括: 外壳，固定在所述开口上方的壳体外壁上； 弹性伸缩件，设置在所述外壳内，在外力作用下弹性伸缩。4.根据权利要求1所述的半导体清洗设备的刷子运动装置，其特征在于，所述滑动块的第一端经由固定销与所述弹簧的第二端固定，其中，所述固定销的第一端与所述弹簧的第二端固定，所述固定销的第二端与所述滑动块的第一端固定。5.根据权利要求1所述的半导体清洗设备的刷子运动装置，其特征在于，所述空腔的顶部具有挂钩，所述弹簧的第一端可拆卸地固定在所述挂钩上。【专利摘要】本专利技术提供了一种半导体清洗设备的刷子运动装置，包括：壳体，所述壳体内具有空腔，所述空腔在所述壳体的一端具有开口；弹簧，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述壳体相固定；滑动块，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述弹簧的第二端固定，其第二端用于固定刷子，在平衡状态下，所述滑动块和刷子的重力与所述弹簧的弹力平衡。本专利技术能够实现刷子的弹性运动，使得刷子的运动更加灵活、稳定。【IPC分类】H01L21/67, B08B1/00【公开号】CN105304523【申请号】CN201410366503【专利技术人】吴均, 程成,本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种半导体清洗设备的刷子运动装置，其特征在于，包括：壳体，所述壳体内具有空腔，所述空腔在所述壳体的一端具有开口；弹簧，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述壳体相固定；滑动块，设置在所述壳体的空腔内，其第一端与所述弹簧的第二端固定，其第二端用于固定刷子，在平衡状态下，所述滑动块和刷子的重力与所述弹簧的弹力平衡。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴均，程成，金一诺，王坚，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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