非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺。其方法步骤为：1、在梭式窑内根据梭式窑的大小合理地摆放第一层硼板；2、在硼板上先放置第一块陶砖；3、准备一定量的直径在5—7mm的湿泥球；4、在第一块陶砖上放置至少3个均匀排布的能够支撑一个平面的泥球；5、在泥球之上放置第2块陶砖，与第一块陶砖对齐，轻轻按一下，落实。6、重复上面步骤，最多摆放8-10层陶砖。7、按此法充分利用每块硼板，装满窑炉。本发明专利技术的优点是：保证了梭式窑陶砖烧制的艺术效果、提高了单窑的装窑烧制陶砖的数量、大大提高了梭式窑陶砖的装窑烧制效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及陶砖烧制
，具体涉及一种非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺。
技术介绍
陶砖，是粘土砖的一种，它是介于陶土砖跟陶瓷砖之间属于中间产物。是产品不断优化及西方传统工艺不断延伸的新产品。陶砖通常采用优质粘土和紫砂陶土及其它原料配比高温烧制而成，较传统陶土砖而言，陶砖质感更细腻、色泽更稳定，线条优美、实用性更强、能耐高温、抗严寒、耐腐蚀、抗冲刷，返璞归真，永不褪色，不仅具有自然美，更具有浓厚的西方文化气息和欧式建筑风格。目前，国内外同类陶砖的生产或用梭式窑硼板单层装窑烧制，或用滚道窑与推板窑连续烧制。其中，梭式窑硼板单层装窑烧制艺术陶砖保留了色泽多变的窑变艺术效果，但装窑效率低，浪费资源；滚道窑与推板窑连续烧制艺术陶砖效率高，但由于等位等温烧制，陶砖色泽单一，艺术效果不够丰富。
技术实现思路
本专利技术的专利技术目的就在于提供一种非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺，其能够在保证艺术陶砖色泽多变效果的前提下大为提高梭式窑的陶砖装窑效率。本专利技术的技术方案为: 本专利技术一种非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺，其方法步骤为: 1、在梭式窑内根据梭式窑的大小合理地摆放第一层硼板(窑炉内用来搭建隔层的耐高温板材)。2、在硼板上先放置第一块陶砖(陶砖尺寸按20cmX 20cm计算)。3、准备一定量的直径在5—7mm的湿泥球。4、在第一块陶砖上放置至少3个均匀排布的能够支撑一个平面的泥球(单层陶砖放置泥球的多少与位置可根据陶砖的大小来确定，也可根据不同造型或材料的陶砖特点来确定) 5、在泥球之上放置第2块陶砖，与第一块陶砖对齐，轻轻按一下，落实。6、重复上面步骤，摆放2-10层陶砖。7、按此法充分利用每块硼板，装满窑炉。本专利技术在改进了非釉面艺术陶砖梭式窑烧制时的装窑工艺，其他的在烧制时的工艺参数和步骤等和现有的技术相同。本专利技术的有益效果为: 本专利技术的优点如下:1、保证了梭式窑陶砖烧制的艺术效果。2、提高了单窑的装窑烧制陶砖的数量。3、减少了窑炉内硼板、支柱的使用量。4、相对于单层装窑烧制，节约了约50%—70%的烧窑燃料。5、大大提高了梭式窑陶砖的装窑烧制效率。6、泥球的支点处因面积小而不会影响烧成效果。【附图说明】图1为本专利技术实施例一种非釉面艺术陶砖梭式窑装窑工艺示意图；图2为本专利技术实施例一种非釉面艺术陶砖梭式窑装窑工艺排放泥球的示意图。图中1为艺术陶砖，2为泥球，3为棚板。【具体实施方式】如附图1、2所示本专利技术非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺，其方法的步骤为:1、根据梭式窑大小合理摆放第一层硼板3 (窑炉内用来搭建隔层的耐高温板材)。2、硼板上先放置第一块陶砖1 (陶砖尺寸按20cmX20cm计算)。3、准备一定量直径6mm的湿泥球2。4、在第一块陶砖上放置至少3个均匀排布的能够支撑一个平面的泥球(单层陶砖放置泥球的多少与位置可根据陶砖的大小来确定，也可根据不同造型或材料的陶砖特点来确定，本实施例采用如图2所示的放置5个泥球:四面均匀放四个，中心放一个。)。5、在泥球上放置第2块陶砖，对齐，轻轻按一下，落实。6、重复上面步骤，可最多达到8-10层。7、按此法充分利用每块硼板，装满窑炉。本专利技术的优点如下:1、保证了梭式窑陶砖烧制的艺术效果。2、提高了单窑的装窑烧制陶砖的数量。3、减少了窑炉内硼板、支柱的使用量。4、相对于单层装窑烧制，节约了约50% — 70%的烧窑燃料。5、大大提高了梭式窑陶砖的装窑烧制效率。6、泥球的支点处因面积小而不会影响烧成效果。【主权项】1.非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺，其特征在于:该工艺的方法步骤为 (1)在梭式窑内摆放第一层硼板； (2)在硼板上先放置第一块陶砖； (3)准备直径5—7mm的湿泥球； (4)在第一块陶砖上放置至少3个均匀排布的能够支撑一个平面的泥球；单层陶砖上放置泥球的多少和位置，应根据陶砖的实际大小来确定，或根据不同造型或材料的陶砖特点来确定； (5)在泥球之上放置第2块陶砖，与第一块陶砖对齐，轻轻按一下，落实； (6)重复上面步骤，摆放2-10层陶砖； (7)按此法充分利用每块硼板，装满窑炉。【专利摘要】本专利技术涉及一种非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺。其方法步骤为：1、在梭式窑内根据梭式窑的大小合理地摆放第一层硼板；2、在硼板上先放置第一块陶砖；3、准备一定量的直径在5—7mm的湿泥球；4、在第一块陶砖上放置至少3个均匀排布的能够支撑一个平面的泥球；5、在泥球之上放置第2块陶砖，与第一块陶砖对齐，轻轻按一下，落实。6、重复上面步骤，最多摆放8-10层陶砖。7、按此法充分利用每块硼板，装满窑炉。本专利技术的优点是：保证了梭式窑陶砖烧制的艺术效果、提高了单窑的装窑烧制陶砖的数量、大大提高了梭式窑陶砖的装窑烧制效率。【IPC分类】F27D3/00【公开号】CN105276994【申请号】CN201510787296【专利技术人】张文松 【申请人】石家庄铁道大学【公开日】2016年1月27日【申请日】2015年11月17日本文档来自技高网...

【技术保护点】
非釉面艺术陶砖梭式窑多层支烧装窑工艺，其特征在于：该工艺的方法步骤为（1）在梭式窑内摆放第一层硼板；（2）在硼板上先放置第一块陶砖；（3）准备直径5—7mm的湿泥球；（4）在第一块陶砖上放置至少3个均匀排布的能够支撑一个平面的泥球；单层陶砖上放置泥球的多少和位置，应根据陶砖的实际大小来确定，或根据不同造型或材料的陶砖特点来确定；（5）在泥球之上放置第2块陶砖，与第一块陶砖对齐，轻轻按一下，落实；（6）重复上面步骤，摆放2‑10层陶砖；（7）按此法充分利用每块硼板，装满窑炉。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张文松，
申请(专利权)人：石家庄铁道大学，
类型：发明
国别省市：河北;13