一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法，所述制造方法包括以下步骤：(1)制备素坯；(2)施底釉；(3)施面釉；(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。所获得的半抛陶瓷釉面砖莹光质感强且产品质量稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法
本专利技术属于陶瓷建筑领域，具体涉及一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，并且还涉及通过所述制造方法制造的具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。
技术介绍
陶瓷釉面砖是目前家庭厨房、卫生间、阳台、客厅灯装修场合不可或缺的建筑装饰材料之一，因其具有较高的强度和耐磨度，且易清洁打理、品种多样等多方面优势而深受广大消费者喜爱。目前，市售的陶瓷釉面砖因面釉配方种类的限制以亮光和亚光两种釉面的产品居多，同质化现象普遍存在，使用效果单一，已无法满足消费者个性化及多元化的需求。故而，为满足市场要求，需要研发一种区别于现存釉面效果的具有新型釉面效果的陶瓷釉面砖，而研发一种具有莹光效果的陶瓷釉面砖是当今世界陶瓷装饰材料的最新潮流。迄今为止，大规模生产具有或类似于莹光效果的陶瓷釉面砖的方法主要有两种：第一种方法是通过丝网印刷在普通亮光面釉之上印刷一道闪光花釉，烧成后产品表面呈现闪光效果以达到类似于莹光效果；另一种方法是利用数码喷墨打印方式在普通亚光面釉之上打印一道亮光墨水，形成图案的局部位置具有亮光效果以达到类似于莹光效果。然而，这两种方法只能在形成图案的局部位置产生不同于面釉的光泽差异，莹光质感不明显，并且由于缺少半抛工艺而导致产品手感差。承上可知，现有技术制造具有莹光效果的陶瓷釉面砖均是在面釉上施加一层光泽效果不同于面釉的釉层以利用光泽效果差异实现莹光效果，但是均存在莹光质感不足且手感差的问题，故而许多研究者致力于开发出一种表面莹光效果质感强且制造工艺简单的陶瓷釉面砖。CN102557751A公开了一种艺术瓷用荧光釉，其由下列组分按重量份数制备而成：钾长石20-30份、钠长石5-10份、红丹6-10份、硼酸5-10份、锂辉石3-8份、石英20-30份、方解石2-6份、碳酸钡3-8份、滑石2-5份、氧化锌2-5份、骨灰2-5份、硅酸锆0.5-1.0份、五氧化二钒0.5-1.0份、氧化铜1.0-2.0份、三氧化二铁1.0-2.0份、氧化锰3-8份。该艺术瓷用荧光釉含有成分不稳定的骨灰，故而易导致荧光釉性质不稳定。由此可见，现今并没有一种简单易行的方法能够制造表面莹光效果质感强且稳定的陶瓷釉面砖。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术专利技术人对陶瓷釉面砖生产工艺进行反复研究和分析，开发出一种能够简单便利地制造具有莹光效果的陶瓷釉面砖的方法，所述方法通过在喷淋莹光干粒釉浆并对陶瓷釉面砖半成品表面进行半抛光处理使得所制备的陶瓷釉面砖能够克服现有技术在制备具有莹光效果的陶瓷釉面砖方面的莹光质感不足且手感差的缺陷，同时该方法成本低且制造过程简单易行。为了实现上述目的，本专利技术提供一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，其包括以下步骤：(1)制备素坯；(2)施底釉；(3)施面釉；(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖，其中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆包含莹光干粒，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO266％-71％、Al2O313％-16％、Fe2O30％-0.2％、TiO20％-0.1％、CaO6％-8％、MgO0.1％-0.5％、K2O3.5％-4.5％、Na2O0.5％-1％、ZnO1％-2％、BaO0％-0.5％。在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，通过淋施包含莹光干粒的莹光干粒釉浆并对釉烧后的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理以制备具有莹光效果半抛陶瓷釉面砖，其莹光质感强且产品质量稳定。优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(1)中制备的素坯的表面具有1.5mm-2.0mm的高低落差，以致所制备的陶瓷釉面砖具有较佳的凹凸感。优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(3)与步骤(4)之间还包括在素坯的表面上进行印花，形成印花层，从而使所制备的陶瓷釉面砖具有各种各样的图案，满足消费者个性化及多元化的需求。更优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述形成印花层的方式为丝网印花、辊筒印花、喷墨印花中的任意一种。优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(1)制备素坯的流程为：精选原料；配料；球磨；除铁；喷雾制粉；压制成型；及高温素烧。更优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(1)中原料包含石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石。最优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述石英、长石、硬质粘土、可塑性粘土和石灰石的重量基于所述原料的总重量的百分比为：优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆中的莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO270.49％、Al2O315.58％、Fe2O30.09％、TiO20.01％、CaO6.99％、MgO0.08％、K2O3.82％、Na2O0.94％、ZnO1.98％、BaO0.02％。更优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆还包括印膏，其中所述莹光干粒和印膏的重量比为3：7。最优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆由莹光干粒和印膏组成，其中所述莹光干粒和印膏的重量基于所述莹光干粒釉浆的重量的百分比为：莹光干粒30％；印膏70％。优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(4)中莹光干粒釉浆的淋施量为70-90克/片砖，其中每片砖的规格为600mm×300mm。优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(5)中进行釉烧的条件为：在900℃-1150℃，优选900℃-1100℃的温度条件下烧制40-150分钟，优选40-90分钟，更优选40-60分钟。优选地，在所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法中，所述步骤(6)进行半抛光处理所采用的半抛光设备的半抛光磨块目数为600目-3000目。此外，本专利技术还提供一种通过上述方法制造的具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。所述具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖莹光质感强且手感好。相对于现有技术，本专利技术的优点和有益效果是：(1)本专利技术的制造方法制造方法简捷，劳动强度低，技术要求和成本均较低，通过淋施包含莹光干粒的莹光干粒釉浆并对釉烧后的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理而使制备的陶瓷釉面砖具有莹光效果，其能够改变现有陶瓷釉面砖品种繁多但同质化现象的问题，为陶瓷釉面砖行业提供一种新型釉面砖产品，丰富了釉面砖种类，满足了消费者个性化和多元化的需求；(2)本专利技术的制造方法采用了独特的配方的莹光干粒，其具有较为适宜的物理性能和高温烧结性能，以致所制造的陶瓷釉面砖具有较佳的莹光效果，并且本专利技术专利技术利用半抛光工艺对陶瓷釉面砖半成品进行半抛光处理以使所获得产品具有较好的凹凸手感，同时本专利技术产品质量稳定。附图说明图1为本专利技术一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法的流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，其包括以下步骤：(1)制备素坯；(2)施底釉；(3)施面釉；(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖，其中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆包含莹光干粒，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO

【技术特征摘要】
1.一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法，其包括以下步骤：(1)制备素坯；(2)施底釉；(3)施面釉；(4)淋施莹光干粒釉浆，以制成陶瓷釉面砖初产品；(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧，以制成陶瓷釉面砖半成品；(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理，即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖，其中，所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆包含莹光干粒，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO266％-71％、Al2O313％-16％、Fe2O30％-0.2％、TiO20％-0.1％、CaO6％-8％、MgO0.1％-0.5％、K2O3.5％-4.5％、Na2O0.5％-1％、ZnO1％-2％、BaO0％-0.5％，优选地，所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为：SiO270.49％、Al2O315.58％、Fe2O30.09％、TiO20.01％、CaO6.99％、MgO0.08％、K2O3.82％、Na2O0.94％、ZnO1.98％、BaO0.02％。...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶德林，洪卫，李辉，黄诗程，段佑平，谢石长，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司，广东新明珠陶瓷集团有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44